晶圆分为无图案晶圆(Bare Wafer)和图案晶圆(Patterned wafer),如图6所示。考虑两种晶圆的缺陷类型的出发点有些不同。晶圆表面的缺陷类型很多,既有可能是工艺产生也有可能材质本身的缺陷。采用不同的缺陷检测方式,可能会对缺陷进行不同的划分。综合考虑缺陷的物理属性和后面缺陷检测算法的针对性,缺陷可以简单地分为表面冗余物(颗...
查看详细 >>1.光敏剂与肉桂酰基的能量水准必须满足TS1≥TC1。实验发现二者取接近值时效果比较好。2.光敏剂必须比肉桂酰基在更长波长区域内具有有效的吸收。3.被吸收的能量易于向三线态进行系间窜跃(系间窜跃的量子收率大) [47]。正性光刻胶在光照的情况下,高分子链主链可能发生断链或降解(聚合的逆反应)。光降解反应使高分子材料老化,机械性能变坏;从而...
查看详细 >>1989年,日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术(EUVL) [8]。1990年后,开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。 [13-14] [20]1992年,IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂,而且在193 nm有较好的透光性 [42]。20世...
查看详细 >>制造半导体微芯片的大部分工作都需要在洁净室中进行,除了洁净室,整个制造过程还需要使用高纯度气体、化学品等材料,所使用的水为去离子水 [8]。空白晶圆被送入晶圆厂后,会经历一个极其繁复的“PVD、CVD、光刻、蚀刻、注入”循环,这个过程可能要重复上百次,耗时数月 [12]。半导体产业的商业模式主要分为垂直整合制造(IDM)、晶圆代工(Fou...
查看详细 >>深紫外光刻胶随着集成度的提高,光刻胶的分辨率的要求越来越高,所用的光源波长越来越短。因为光刻胶成像时可分辨线宽与曝光波长成正比,与曝光机透镜开口数成反比,所以缩短曝光波长是提高分辨率的主要途径。光刻工艺经历了从g线、i线光刻的近紫外(NUV),进入到深紫外(DUV)248 nm光刻,以及193 nm光刻的发展历程。值得指出的是:现代曝光技...
查看详细 >>5.其他:(1)树枝状聚合物体系:由树枝状聚合物和PAG组成,其聚合物是基于三苯基的骨架通过化学键连接其他苯基的树枝状物质,当电子束曝光时,产酸剂产酸,经后烘脱去保护基团,在碱溶液显影中形成正型图形,但T型(T-top)现象严重,在有机溶剂中显影可以成为负型图形,此种类型的光刻胶**小可以获得100 nm的线条分辨率。(2)分子玻璃体系:...
查看详细 >>1.金属氧化物类型:其特点是金属氧化物的引入可以提高体系的吸光度,进而提高光刻的感光速度,另一方面金属氧化物可以提高体系的抗蚀能力,降低光刻胶的膜厚,进一步提高分辨率。 [22]2.化学增幅型光刻胶:即在传统化学增幅型光刻胶的基础上进行性能改进,如采用聚合物键合光致产酸剂(PBP,Polymer Bond PAG)改善线条边缘粗糙度(LE...
查看详细 >>供需格局的剧烈变化使得存储市场进入被称为“超级牛市”的阶段,供应商议价能力已达到历史比较高水平。多家存储芯片企业已相继公布扩产计划,由于产能释放需要时间周期,内存紧缺的状态可能还会维持一段时间 [15]。我们会听到几寸的晶圆厂,如果硅晶圆的直径越大,**著这座晶圆厂有较好的技术。另外还有scaling技术可以将电晶体与导线的尺寸缩小,这两...
查看详细 >>为防止晶圆在旋转过程中被甩出,抛光头必须具有保持环结构。在CMP技术的发展历程中出现过两种保持环:固定保持环和浮动保持环。由于固定保持环无法避免边缘效应,目前的主流CMP装备均采用了浮动保持环,通过对浮动保持环施加不同的压力可以调节晶圆与抛光垫的接触状态,从而有效改善边缘效应。 [3]由于保持环与抛光垫紧密贴合,必须在保持环底部设计一系列...
查看详细 >>由于未经感光的光致抗蚀剂仍然保持它在紫外线照射下发生光分解反应的活性,故该种类型的光刻胶在光刻工艺过程中,能够多次曝光。邻重氮醌化合物都能溶解在乙二醇单甲醚中。为了改善光刻胶的成膜性和增加涂层的耐磨性,可以掺入线性酚醛树脂、聚酚、聚碳酸酯或乙酸乙烯和顺丁烯二酸酐的共聚物;或者将邻重氮醌-5-磺酰氯和带有羟基的树脂进行缩合,而将感光性官能团...
查看详细 >>分层划片工艺,如图5所示。根据划片材料的厚度,在划片深度方向采用分层进给的方式进行划片。首先进行开槽划片,采用比较小的进给深度,以保证刀具受力小,降低刀具磨损,减小划片刀崩边,然后再划片到UV膜厚度1/2的位置。 [5]半导体工业对于晶圆表面缺陷检测的要求,一般是要求高效准确,能够捕捉有效缺陷,实现实时检测。较为普遍的表面检测技术主要可以...
查看详细 >>晶圆厂(Fab)是制造半导体的专业工厂,集成电路的复杂生产过程在此进行。其通过光刻、刻蚀、薄膜沉积等数百道工艺在硅晶圆上制作电路 [3-4]。半导体产业主要存在IDM(整合器件制造)、Foundry(晶圆代工)和Fabless(无晶圆厂)三种运营模式,Foundry专注于为Fabless公司提供制造服务 [2] [7]。全球晶圆代工厂正从...
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