等离子清洗机基本参数
  • 品牌
  • 深圳市远望工业自动化设备
  • 型号
  • V1
  • 产地
  • 广东东莞
  • 可售卖地
  • 全球
  • 是否定制
等离子清洗机企业商机

等离子清洗机是半导体封装、精密电子制造领域的关键表面处理设备,凭借集成化真空系统与多流道协同处理技术,实现对各类精密器件的高效、精确清洗。设备搭载的真空系统可快速构建10-100Pa的可控真空环境,有效隔绝空气干扰,避免清洗过程中器件表面发生氧化反应,同时增强等离子体活性,提升表面处理的均匀性与深度。配合5流道腔室同时处理设计,可实现多组器件并行加工,大幅提升单位时间处理量。伺服自动进料系统与自动上片系统协同工作,实现器件从进料、上片到清洗完成的全流程自动化,进料定位精度达±0.02mm,上片效率提升30%以上。其离子表面处理系统可产生高活性等离子体,精确去除器件表面油污、氧化层及有机残留,处理后表面接触角≤10°,为后续键合、封装等工艺提供表面条件。设备切换时间短至5s以内,明显缩短CT(周期时间),UPH(每小时产量)较传统单流道设备提升4倍以上,且可同时兼容8-50mm规格的多款产品,无需调整轨道,大幅提升柔性生产能力,可适配半导体芯片、精密传感器、Mini/Micro LED等产品的制造需求。视觉定位技术,实现高精度上片,保障工艺稳定性。深圳等离子清洗机生产厂家

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在新能源器件的表面处理中,等离子清洗机凭借高效的离子表面处理系统与高产能的5流道腔室设计,满足新能源产业的大规模生产需求。离子表面处理系统可去除新能源器件表面的油污、氧化层,提升器件的导电性能与散热性能。真空系统采用高真空度设计,可实现低至10Pa的真空环境,增强等离子体的活性,提升处理效果。5流道腔室每个流道均配备单独的冷却系统,避免处理过程中温度过高对新能源器件造成损伤,冷却温度控制精度达±1℃。伺服自动进料系统具备高负载输送能力,可输送重量达100g的新能源器件,进料稳定性高。自动上片系统采用刚性机械手臂,上片力度可控,确保新能源器件的上片牢固性。设备可兼容多种规格的新能源器件,无需调整轨道,切换时间≤5s,CT缩短55%,UPH提升至1900件/小时,为新能源产业的发展提供有力支撑。深圳等离子清洗机生产厂家各流道参数单独可控,适配多品种小批量生产需求。

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针对精密连接器的表面处理需求,等离子清洗机采用真空等离子处理技术,通过离子表面处理系统去除连接器表面的油污与氧化层,提升连接器的插拔性能与接触可靠性。真空系统可快速建立稳定的真空环境,避免处理过程中连接器表面发生二次氧化。5流道腔室每个流道均配备单独的气体喷淋头,气体分布均匀,确保连接器各个部位的处理效果一致。伺服自动进料系统采用精确定位技术,可确保连接器精确进入处理区域,进料定位误差≤0.02mm。自动上片系统采用柔性夹持机构,针对连接器的引脚部位进行特殊保护,避免引脚弯曲或损伤。设备可兼容不同型号的精密连接器,无需调整轨道,切换时间≤3s,CT缩短60%,UPH达2300件/小时,为精密连接器的批量生产提供高效、可靠的表面处理保障。

等离子清洗机的自动上片系统采用高精度机械定位,上片重复定位精度达±0.005mm,确保器件精确进入处理区域。伺服自动进料系统采用闭环伺服控制,可实时补偿进料过程中的偏差,进料精度高。真空系统采用高真空度控制,可实现低至5Pa的真空环境,增强等离子体的活性,提升处理效果。5流道腔室每个流道均配备单独的冷却装置,避免处理过程中温度过高对器件造成损伤。离子表面处理系统采用气体等离子体技术,无化学残留,绿色环保。设备切换时间短至2s,轨道自适应不同尺寸器件,CT缩短至6s/件,UPH达2200件/小时,适用于高精度、高洁净度要求的精密器件处理。高效真空系统抽气速率快,缩短工艺准备时间,提升生产效率。

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针对精密连接器的表面活化需求,等离子清洗机采用真空等离子处理技术,通过离子表面处理系统提升连接器表面的附着力,便于后续涂覆工艺。真空系统可隔绝空气,避免处理过程中连接器表面氧化。5流道腔室每个流道均配备单独的气体喷淋装置,气体分布均匀,确保处理效果一致。伺服自动进料系统采用柔性输送设计,避免连接器引脚损伤。自动上片系统采用精确夹持机构,针对连接器的结构特点实现平稳上片。设备可兼容不同型号的精密连接器,无需调整轨道,切换时间≤3s,CT缩短60%,UPH达2300件/小时,为精密连接器的制造提供高效表面处理保障。产能自适应调节,兼顾节能与高效,提升运行经济性。半导体等离子清洗机供应商

在线检测功能,筛选不合格工件,强化质量管控。深圳等离子清洗机生产厂家

在半导体晶圆的表面处理中,等离子清洗机凭借高精度的离子表面处理系统与稳定的真空环境,实现对晶圆表面的精细化处理。离子表面处理系统可去除晶圆表面的有机污染物与氧化层,提升晶圆的键合性能。真空系统采用高真空度控制,真空度可达10Pa以下,增强等离子体的活性与反应均匀性。5流道腔室采用大面积处理区域设计,可处理尺寸达12英寸的晶圆,每个流道均配备单独的晶圆定位装置。伺服自动进料系统采用真空吸附式输送,避免晶圆表面损伤。自动上片系统采用高精度机械手臂,上片重复定位精度达±0.005mm。设备可兼容不同尺寸的晶圆,无需调整轨道,切换时间≤3s,CT缩短60%,UPH达2300件/小时,为半导体晶圆的制造提供可靠技术支撑。深圳等离子清洗机生产厂家

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