等离子清洗机基本参数
  • 品牌
  • 深圳市远望工业自动化设备
  • 型号
  • V1
  • 产地
  • 广东东莞
  • 可售卖地
  • 全球
  • 是否定制
等离子清洗机企业商机

在Mini/Micro LED的表面处理中,等离子清洗机凭借高精度的处理能力与高产能的5流道腔室设计,满足LED产业的精密制造需求。离子表面处理系统可精确去除LED芯片表面的有机残留与氧化层,提升芯片的发光效率与可靠性。真空系统采用低真空度设计,避免高真空对LED芯片的损伤,同时确保处理效果。5流道腔室每个流道均配备单独的微环境控制系统,可精确控制腔室内的温度、湿度与气体成分。伺服自动进料系统采用微位移控制技术,可输送尺寸小至0.1mm的LED芯片,进料定位精度达±0.005mm。自动上片系统采用微型吸附机构,针对微小LED芯片实现平稳上片。设备可兼容不同尺寸的LED芯片,无需调整轨道,切换时间≤3s,CT缩短60%,UPH达2400件/小时,为Mini/Micro LED产业的发展提供技术支撑。进料计数功能实时统计,数据可追溯,便于生产管理。佛山等离子清洗机优势

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等离子清洗机的离子表面处理系统采用先进的等离子体产生技术,可产生高纯度、高密度的等离子体,有效去除器件表面的有机污染物、无机杂质等,处理后器件表面洁净度达Class 5级。真空系统采用压力稳定控制技术,压力波动范围≤±2Pa,确保等离子处理环境的稳定性。5流道腔室采用耐腐蚀材质制造,可适应多种气体的腐蚀,延长设备使用寿命。伺服自动进料系统采用高精度滚珠丝杠传动,传动效率高、精度高,进料速度稳定。自动上片系统采用视觉定位+机械校准的双重保障,上片精度达±0.01mm。设备可兼容多种规格的器件,切换时间≤2s,轨道自适应调节,CT缩短至6s/件,UPH达2200件/小时,为精密器件的表面处理提供高质量解决方案。符合国标等离子清洗机价格5流道腔室同时处理,实现多组工件并行清洗,大幅提升产能。

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等离子清洗机集成伺服自动进料、自动上片与5流道腔室系统,实现全流程自动化、高产能的表面处理。伺服自动进料系统采用闭环伺服控制,可实时补偿进料过程中的机械误差,确保进料精度。自动上片系统采用多轴联动技术,可实现复杂轨迹的上片动作,适配不同结构的器件。真空系统采用高效真空泵组,抽气效率高,可在20s内完成腔室真空度从大气压到30Pa的转换。5流道腔室可同时处理多款器件,每个流道的处理工艺单独可控,实现差异化生产。离子表面处理系统采用高频率射频电源,等离子体反应速度快,处理时间短,大幅提升生产效率。设备切换时间短至4s,轨道无需调整即可兼容多种尺寸器件,CT缩短50%以上,UPH突破2500件/小时,XXXXXXXXXXXXXX应用于电子制造、半导体封装等领域。

在半导体晶圆的表面处理中,等离子清洗机凭借高精度的离子表面处理系统与稳定的真空环境,实现对晶圆表面的精细化处理。离子表面处理系统可去除晶圆表面的有机污染物与氧化层,提升晶圆的键合性能。真空系统采用高真空度控制,真空度可达10Pa以下,增强等离子体的活性与反应均匀性。5流道腔室采用大面积处理区域设计,可处理尺寸达12英寸的晶圆,每个流道均配备单独的晶圆定位装置。伺服自动进料系统采用真空吸附式输送,避免晶圆表面损伤。自动上片系统采用高精度机械手臂,上片重复定位精度达±0.005mm。设备可兼容不同尺寸的晶圆,无需调整轨道,切换时间≤3s,CT缩短60%,UPH达2300件/小时,为半导体晶圆的制造提供可靠技术支撑。5流道可视化监控,实时观察清洗过程,便于及时发现异常。

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针对高产能、高精度的表面处理需求,等离子清洗机集成5流道腔室与高效真空系统,实现多维度性能优化。真空系统采用无油真空泵设计,避免油污污染腔室与器件,真空度可在10-200Pa范围内连续可调,适配不同材质器件的处理需求。5流道腔室每个流道均配备单独的温度控制系统,处理过程中腔室温度控制在30-80℃,避免高温对器件性能造成影响。伺服自动进料系统采用伺服电机+滚珠丝杠驱动,传动精度高、运行平稳,进料速度可根据处理工艺精确调节,实现与腔室处理节奏的完美匹配。自动上片系统采用视觉识别+机械定位的双重校准技术,可精确识别器件正反面与摆放姿态,确保上片方向正确,上片误差≤0.03mm。离子表面处理系统通过等离子体刻蚀作用,可去除器件表面1-10nm厚的污染物层,同时提升表面粗糙度,增强后续粘接、焊接的可靠性。设备支持多款产品的同时处理与快速切换,轨道自适应不同尺寸器件,切换时间≤4s,CT缩短至6s/件,UPH达2200件/小时,为精密电子器件的大规模制造提供高效解决方案。自动上片系统采用真空吸盘,上片成功率高,损伤风险低。高性能等离子清洗机报价

产能自适应调节,兼顾节能与高效,提升运行经济性。佛山等离子清洗机优势

针对光学器件表面的高精度清洁需求,等离子清洗机采用真空等离子处理技术,通过真空系统避免空气中的灰尘、水汽对光学器件表面的污染,同时提升等离子体的清洁效果。离子表面处理系统采用低能量等离子体,避免对光学器件表面的光学性能造成影响,可有效去除光学器件表面的有机残留与指纹印记,清洁后表面洁净度达99.9%。5流道腔室采用光学级不锈钢材质,腔室内壁经抛光处理,减少光线反射与散射,每个流道均配备单独的防尘密封装置。伺服自动进料系统采用柔性输送设计,针对易碎的光学器件,输送过程平稳无振动,进料定位精度达±0.01mm。自动上片系统采用真空吸附+软质缓冲垫的设计,避免对光学器件表面造成划痕。设备可兼容不同尺寸的光学器件(10-50mm),无需调整轨道,切换时间≤2s,CT缩短至8s/件,UPH达1800件/小时,为光学器件的制造提供高质量的表面处理解决方案。佛山等离子清洗机优势

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