等离子清洗机采用先进的离子表面处理系统，配合稳定的真空环境，实现对精密器件表面的高效清洁与活化。离子表面处理系统通过射频放电产生等离子体，离子能量可在5-50eV范围内精确调节，既能彻底去除表面污染物，又不会对器件表面造成过度刻蚀。真空系统采用无油真空技术，避免油污污染器件，真空度可在10-150Pa范围内连续可调，适配不同材质器件的处理需求。5流道腔室每个流道均配备单独的等离子体发生器与气体流量控制器，气体流量控制精度达±1sccm，确保处理过程的稳定性。伺服自动进料系统采用伺服电机驱动，运行平稳、噪音低（≤65dB），进料速度可根据生产节奏灵活调整。自动上片系统采用视觉引导技术，可精确识别器件位置与姿态，上片重复定位精度达±0.01mm。设备可兼容多款不同规格的器件，无需调整轨道，切换时间≤2s，CT缩短至6s/件，UPH达2200件/小时，有效提升生产效率与产品质量。单独排气通道设计，避免废气混合，防止二次污染。自动等离子清洗机种类
等离子清洗机在医疗电子器件表面处理中展现出很好的适配性，其真空系统可构建洁净度达Class 3级的处理环境，有效规避污染风险。相较于市面上高昂的3流道设备，远望智能这款等离子清洗机以几十万的亲民价格，实现5流道并行处理的高效产能，大幅降低医疗电子中小企业的设备投入门槛。5流道腔室采用单独密封设计，每个流道可单独设定等离子功率与处理时间，适配不同规格医疗电子器件的差异化处理需求。伺服自动进料系统配备柔性输送轨道，针对精密医疗器件实现平稳无损伤输送，进料定位精度达±0.01mm。离子表面处理系统采用低损伤等离子技术，可高效去除器件表面有机残留与油污，处理后表面洁净度达99.99%，符合医疗器件的严苛卫生标准。设备切换时间短至3s，轨道自适应10-50mm尺寸器件，CT缩短65%，UPH达2200件/小时，无需复杂调试即可快速投产，兼顾高效生产与成本控制。自动等离子清洗机种类真空系统配备实时监测功能，偏差时自动调节，保障工艺稳定。
等离子清洗机的自动上片系统采用模块化设计，便于维护与升级，可根据不同的生产需求，灵活搭配不同类型的上片机构（如吸附式、夹持式）。伺服自动进料系统采用高精度伺服电机，具备优良的调速性能，进料速度可在0.5-2.5m/min范围内连续可调，适配不同的产能需求。真空系统采用双级过滤设计，确保进入腔室的气体洁净度达Class 1级，避免气体中的杂质污染器件。5流道腔室采用对称式布局，便于设备的安装与调试，每个流道的处理区域尺寸可灵活调整，适配不同尺寸的器件。离子表面处理系统采用射频等离子体技术，处理均匀性好，处理后器件表面的接触角均匀性误差≤2%。设备切换时间短至3s，可快速切换不同产品的处理工艺，轨道自适应调节，CT缩短60%，UPH达2200件/小时，有效提升企业的生产效率与市场响应速度。
等离子清洗机的离子表面处理系统采用气体等离子体技术，无液体残留，无需后续干燥工艺，大幅缩短生产流程。真空系统采用高效抽气与破真空技术，提升生产效率。5流道腔室可同时处理多款器件，每个流道的处理参数单独可控，实现差异化生产。伺服自动进料系统采用高精度定位技术，进料定位误差≤0.02mm。自动上片系统采用快速上片机构，上片速度达120件/分钟。设备可兼容多种规格的器件，无需调整轨道，切换时间≤2s，CT缩短至7s/件，UPH达2000件/小时，降低生产成本，提升生产效率。预设多材质参数库，一键调用，降低操作门槛。
等离子清洗机是半导体封装、精密电子制造领域的关键表面处理设备，凭借集成化真空系统与多流道协同处理技术，实现对各类精密器件的高效、精确清洗。设备搭载的真空系统可快速构建10-100Pa的可控真空环境，有效隔绝空气干扰，避免清洗过程中器件表面发生氧化反应，同时增强等离子体活性，提升表面处理的均匀性与深度。配合5流道腔室同时处理设计，可实现多组器件并行加工，大幅提升单位时间处理量。伺服自动进料系统与自动上片系统协同工作，实现器件从进料、上片到清洗完成的全流程自动化，进料定位精度达±0.02mm，上片效率提升30%以上。其离子表面处理系统可产生高活性等离子体，精确去除器件表面油污、氧化层及有机残留，处理后表面接触角≤10°，为后续键合、封装等工艺提供表面条件。设备切换时间短至5s以内，明显缩短CT（周期时间），UPH（每小时产量）较传统单流道设备提升4倍以上，且可同时兼容8-50mm规格的多款产品，无需调整轨道，大幅提升柔性生产能力，可适配半导体芯片、精密传感器、Mini/Micro LED等产品的制造需求。高效真空系统抽气速率快，缩短工艺准备时间，提升生产效率。自动等离子清洗机种类
真空吸附辅助功能固定工件，避免晃动，保障清洗均匀性。自动等离子清洗机种类
针对精密传感器的表面处理需求，等离子清洗机采用高精度的离子表面处理系统，可去除传感器表面的微小污染物，提升传感器的检测精度与稳定性。真空系统采用高稳定性压力控制，压力控制精度达±1Pa，确保处理过程的一致性。5流道腔室每个流道均配备单独的减震装置，减少设备运行振动对传感器的影响。伺服自动进料系统采用柔性输送轨道，避免输送过程中对传感器的机械损伤。自动上片系统采用高精度定位平台，上片重复定位精度达±0.008mm。设备可兼容不同类型的精密传感器，无需调整轨道，切换时间≤3s，CT缩短60%，UPH达2300件/小时，为精密传感器的制造提供可靠的表面处理保障。自动等离子清洗机种类
