1997年，Intel公司成立了包括AMD、Motorola、Micron、Infineon和IBM的EUV LLC，并与由LBNL、LLNL和SNL组成的国家技术实验室（VNL）签订了极紫外光刻联合研发协议（CRADA）。1998年，日本开始极紫外光刻研究工作，并于2002年6月成立极紫外光刻系统研究协会（EUVA） [44]。1962...

  全球市场由信越化学、SUMCO等企业主导，**大厂商占据90%以上份额 [2] [6]。中国企业正加速12英寸抛光片等产品的产能建设，恒坤新材已成为国内少数具备12英寸晶圆制造关键材料量产能力的创新企业 [8]。西安奕材12英寸硅片出货量居内地榜首，2024年末产能达71万片/月，占全球12英寸硅片产能约7% [13]。立昂微2025年*...

  扩散系数扩散系数（Diffusion coefficient，D）是表征在单位时间单位面积上，载流子通过界面快慢的物理量。扩散系数和载流子寿命共同决定载流子扩散长度（Diffusion length），扩散长度是评价材料性能的典型参数，载流子扩散长度越长材料质量越好；对于太阳能电池来说，载流子扩散长度越长载流子分离和收集效率越好、光电转化...

  晶圆代工涉及的特色工艺平台包括BCD、RF、高压、MEMS、FD-SOI等 [9] [11] [13]。例如，中芯国际提供8英寸BCD工艺 [1]；芯联集成是重要的MEMS和功率器件代工厂 [13]。先进封装技术如2.5D/3D封装、晶圆级封装、基于Chiplet的异构集成等是系统级集成的关键 [5]。英特尔推出了Foveros Dire...

  光刻胶（Photoresist）是一种在半导体制造和微电子工艺中***使用的材料。它是一种光敏材料，能够在光照射下发生化学变化，从而在基材上形成图案。光刻胶的主要用途是在光刻过程中，通过曝光和显影步骤，将设计好的电路图案转移到硅片或其他基材上。光刻胶的基本工作原理如下：涂布：将光刻胶均匀涂布在硅片表面，形成一层薄膜。曝光：通过掩模（mas...

  在CMP过程中抛光头主要起以下作用：①对晶圆施加压力；② 带动晶圆旋转并传递转矩；③ 保证晶圆与抛光垫始终贴合良好，不掉片、碎片。此外，在**CMP装备中抛光头比较好能在不借助外界条件的情况下依靠自身结构夹持晶圆，以提高生产效率。 [3]分区压力抛光头是衡量CMP装备技术水平高低的重要因素。其**思想来自Preston模型，根据该模型。根...

  双层光刻胶工艺是底层用甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸的共聚物，以乙基纤维素醋酸乙醇为显影剂；表层为PMMA，以甲基异**为显影剂。这样，经强迫显影后，虽然表层的PMMA膜层减薄了很多，但剩下的厚度对底层的抗蚀膜仍能起到保护作用，底层的抗蚀膜厚度没有损失，这种方法可达到2×10-6 C/cm2的灵敏度。其中强迫显影指使用光刻胶的良溶剂作为显影剂...

  光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分...

  前面提到抛光头很重要的一个功能是夹持晶圆，实现晶圆在装卸工位与抛光工位之间的快速、可靠传输。在CMP技术的发展历程中出现过机械夹持、石蜡粘接、真空吸盘等多种夹持方式，但以上方式在效率、可靠性、洁净度等方面已无法满足**CMP装备的要求。 多区抛光头采用真空吸附方法夹持晶圆，基本原理如图2所示。首先对多区气囊施加正压，将气囊与晶圆之间的空气...

  扩散系数扩散系数（Diffusion coefficient，D）是表征在单位时间单位面积上，载流子通过界面快慢的物理量。扩散系数和载流子寿命共同决定载流子扩散长度（Diffusion length），扩散长度是评价材料性能的典型参数，载流子扩散长度越长材料质量越好；对于太阳能电池来说，载流子扩散长度越长载流子分离和收集效率越好、光电转化...

  1.聚（甲基）丙烯酸甲酯（PMMA）及其衍生物体系：这是**早开发的一种电子束光刻胶体系，此类光刻胶具有优异的分辨率、稳定性和低成本。它是由单体（MMA）聚合而成，MMA单体的分子量为100，组成聚合物分子链的单体数量可达到数千个，分子量为100000量级。PMMA聚合体的物理化学特性在很大程度上取决于分子量。形成PMMA聚合体的原子间共...

  式中，C为交联剂；P为聚合物。叠氮有机化合物、偶氮盐和偶氮有机化合物都可用作交联剂，它们不*能够和聚烃类树脂相配合组成负性光刻胶，而且还能和一些线型聚合物，如聚酰胺、聚丙烯酰胺等相配合制成负性光刻胶。在聚烃类光刻胶里添加的交联剂以双叠氮有机化合物较为重要；在和环化橡胶配合使用时，双叠氮型交联剂不带极性基团，并且能够溶解于非极性溶剂，如三氯...