MOSFET选型参数基本参数
  • 品牌
  • 无锡商甲半导体
  • 型号
  • MOS /IGBT/FRD/SIC
  • 外形尺寸
  • 2630mm*1791mm*1130mm,3050mm*1791mm*1130mm,6500mm*3200mm*1800mm
MOSFET选型参数企业商机

SGT MOSFET,即屏蔽栅沟槽MOSFET(Shielded Gate Trench MOSFET),是一种半新型的功率半导体器件。它基于传统沟槽MOSFET技术,并通过结构上的改进来提升性能,特别是在降低导通电阻和开关损耗方面表现出色。接下来,我们将详细介绍SGT MOSFET的应用领域。

SGT MOS 选型场景

高频DC-DC(1-3MHz):SGT MOS(如服务器VRM、无人机电调)。

高压工业电源(>600V):超级结MOS(如光伏逆变器)。

低成本消费电子:平面MOS(如手机充电器)。

***说一下,在中低压领域,SGT MOSFET以低Rds(on)、低Qg、高开关速度的均衡性能,成为工业与汽车电子的主流选择。 无锡商甲半导体提供种类齐全MOSFET产品组合,满足市场对高效能导通和灵活选择的需求。定制MOSFET选型参数联系方式

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便携式储能电源,简称“户外电源”,是一种能采用内置高密度锂离子电池来提供稳定交、直流的电源系统,有大容量、大功率、安全便携的特点。

AC-DC充电部分,将民用交流电转换为直流电压给储能电池充电,和PD开关电源原理类似,普遍采用快充方案。BMS锂电池保护部分,储能电源的电池为锂电池,一般用多节三元锂或者磷酸铁锂并联加串联的连接方式,电池电压可以为12V、24V、36V、48V等多种选择,通常会用到30-100V的Trench&SGTMOSFET进行充放电保护。DC-DC升降压部分,这部分是将电池直流电转换成5V、9V、12V、15V、20V等电压满足Typ-C、USB、车充、DC输出等多种连接口方式的输出,通常会用到30-100VSGTMOSFET。DC-AC逆变部分,是将电池直流电压升压逆变为民用交流电,满足常用家用电器的用电需求。无锡商甲半导体设计团队凭借技术优势,根据每个模块的特点,在各功能模块上都设计了相匹配的MOSFET可供选型,比如BMS应用更注重MOSFET的过大电流能力和抗短路能力;DC-DC升降压应用更注重MOSFET的高频开关特性以及续流特性;逆变高压MOSFET则不仅要低内阻,低栅电荷,还要求较好的EMI兼容性。


定制MOSFET选型参数联系方式品优势:多款产品技术代比肩国际巨头,通过德国汽车供应商、AI头部厂商等试样验证。

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无锡商甲半导体MOSFET有多种封装,满足各类电源需求

TO-3P/247TO247是一种常见的小外形封装,属于表面贴封装类型,其中的“247”是封装标准的编号。值得注意的是,TO-247封装与TO-3P封装都采用3引脚输出,且内部的裸芯片(即电路图)可以完全相同,因此它们的功能和性能也基本一致,只是在散热和稳定性方面可能略有差异。TO247通常是非绝缘封装,这种封装的管子常用于大功率的POWFR中。作为开关管使用时,它能够承受较大的耐压和电流,因此是中高压大电流MOS管常用的封装形式。该产品特点包括耐压高、抗击穿能力强等,特别适用于中压大电流场合(电流10A以上,耐压值在100V以下),以及120A以上、耐压值200V以上的更高要求场合。

击穿电压(BV)的影响因素**影响因素

外延层参数:厚度(Tepi):BV与Tepi²成正比(近似关系)。

掺杂浓度(Nepi):BV与Nepi⁻¹成正比。高掺杂会降低BV,但需权衡Rds(on)。

屏蔽栅的电荷平衡作用:

电场屏蔽机制:屏蔽栅通过引入反向电荷(如P型掺杂区),中和漏极电场在漂移区的集中分布,使电场在横向更均匀。

实验验证:在200V SGT器件中,屏蔽栅可使峰值电场降低30%,BV从180V提升至220V。

材料与工艺缺陷:

外延层缺陷:晶**错或杂质会导致局部电场畸变,BV下降20%-50%。

沟槽刻蚀精度:侧壁倾斜角需控制在85°-89°,角度偏差过大会导致电场集中(例如88°刻蚀角可使BV提高8%)。 商甲半导体提供汽车电子应用MOSFET选型。

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Trench工艺

定义和原理

Trench工艺是一种三维结构的MOSFET加工技术,通过挖掘沟槽(Trench)的方式,在硅衬底内部形成沟槽结构,使得源、漏、栅三个区域更为独一立,并能有效降低器件的漏电流。

制造过程

蚀刻沟槽:在硅片表面进行刻蚀,形成Trench结构。

填充绝缘层:在沟槽内填充绝缘材料,防止漏电。

栅极沉积:在沟槽开口处沉积金属形成栅极。

特点

提高了器件的性能和稳定性,减小漏电流。

适用于高功率、高频应用。

制作工艺复杂,成本较高。 MOSFET是重要的功率分立器件之一,具有稳定性好、易于驱动、导通内阻小等特点。定制MOSFET选型参数联系方式

商甲半导体为您提供半导体功率器件服务,助您应对研发挑战,实现技术突破。定制MOSFET选型参数联系方式

碳化硅材料特性

高击穿电场:碳化硅的禁带宽度约为硅基材料的3倍,临界击穿场强约为硅基材料的10倍,这意味着碳化硅器件能够在更高电压下稳定工作,可承受更高电压,这使得碳化硅MOSFET模块在高压应用中具有更好的耐压性能和可靠性,如在智能电网、电动汽车等领域。

高热导率:碳化硅的热导率约是硅基材料的3倍,能快速散热,确保器件工作时不会因过热而性能下降。这一特性对于高功率密度的碳化硅MOSFET模块尤为重要,能够有效提高其在高功率工作状态下的稳定性和寿命。

高频特性:碳化硅的电子饱和漂移速率约是硅基材料的2倍,大幅提升了器件的开关速度,显著提高电力转换系统的效率和功率密度。这使得碳化硅MOSFET模块在高频应用中表现出色,如在通信电源、数据中心等领域。 定制MOSFET选型参数联系方式

无锡商甲半导体有限公司在同行业领域中,一直处在一个不断锐意进取,不断制造创新的市场高度,多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准。。公司产品齐全,可广泛应用于工控、光伏、储能、家电、照明、5G通信、医疗、汽车等各行业多个领域。

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