20V至100V N+P MOSFETMOSFET选型参数

Trench技术趋势与挑战

工艺创新：

深沟槽（Deep Trench）：刻蚀深度>10μm，用于高压IGBT或SiC MOSFET，优化电场分布。

双沟槽（Double Trench）：分离栅极和源极沟槽，进一步降低Cgd和Rds(on)。

材料演进：

SiC Trench MOSFET：利用SiC的高临界电场（2.8MV/cm）实现低Rd和高温稳定性，但沟槽刻蚀难度大（需激光或ICP高能等离子体）。

GaN垂直结构：研发中的GaN沟槽器件（如TOB-TOB结构），目标突破平面GaN的耐压限制。

可靠性挑战：栅氧寿命：薄栅氧（<20nm）在高电场下易发生TDDB（时变介质击穿），需引入氮化氧化硅（SiON）增强可靠性。

短路耐受能力：Trench结构因高单元密度导致局部热集中，需优化金属布局和散热路径。

Trench MOSFET通过三维沟槽结构实现了导通电阻、开关速度和功率密度的明显提升，成为中低压应用的技术。然而，其高压性能受限、工艺复杂度和可靠性问题仍需持续突破。 商甲半导体作为MOSFET专业供应商，应用场景多元，提供量身定制服务。20V至100V N+P MOSFETMOSFET选型参数

无锡商甲半导体MOSFET有多种封装，满足各类电源需求

TO-3P/247TO247是一种常见的小外形封装，属于表面贴封装类型，其中的“247”是封装标准的编号。值得注意的是，TO-247封装与TO-3P封装都采用3引脚输出，且内部的裸芯片（即电路图）可以完全相同，因此它们的功能和性能也基本一致，只是在散热和稳定性方面可能略有差异。TO247通常是非绝缘封装，这种封装的管子常用于大功率的POWFR中。作为开关管使用时，它能够承受较大的耐压和电流，因此是中高压大电流MOS管常用的封装形式。该产品特点包括耐压高、抗击穿能力强等，特别适用于中压大电流场合（电流10A以上，耐压值在100V以下），以及120A以上、耐压值200V以上的更高要求场合。 宿迁MOSFET选型参数供应商无锡商甲半导体提供种类齐全MOSFET产品组合,满足市场对高效能导通和灵活选择的需求。

  随着汽车电动化、智能化和互联化趋势的迅猛发展，电动车的功率器件对于工作电流和电压有着更为严苛的要求。相对于传统的燃料汽车，电动车的崛起推动了汽车电子领域的结构性变革。这种变革不仅加速了汽车电子系统的创新，也推动了车规级SGT-MOSFET的发展，为汽车电子系统的性能提升和能源利用效率提供了重要支持。SGT-MOSFET的进步不仅将促进电动车技术的进步，同时也有望推动整个电动车产业链的不断发展壮大。

   在长时间连续运行的设备，如数据中心电源模块、通信基站电源等场景中，低功耗 MOSFET 优势明显。无锡商甲半导体有很多对应SGT MOSFET 产品，欢迎选购。

SGT MOSFET，即屏蔽栅沟槽MOSFET（Shielded Gate Trench MOSFET），是一种半新型的功率半导体器件。它基于传统沟槽MOSFET技术，并通过结构上的改进来提升性能，特别是在降低导通电阻和开关损耗方面表现出色。接下来，我们将详细介绍SGT MOSFET的应用领域。

SGT MOS 选型场景

高频DC-DC（1-3MHz）：SGT MOS（如服务器VRM、无人机电调）。

高压工业电源（>600V）：超级结MOS（如光伏逆变器）。

低成本消费电子：平面MOS（如手机充电器）。

***说一下，在中低压领域，SGT MOSFET以低Rds(on)、低Qg、高开关速度的均衡性能，成为工业与汽车电子的主流选择。 商甲半导体20V产品主要用于手机、移动电源、可穿戴设备及消费类领域；

SGT技术：突破传统MOS的性能瓶颈

MOS管（金属氧化物半导体场效应晶体管）是开关电源、逆变器、电机控制等应用的**开关器件。传统平面MOS和早期沟槽MOS在追求更低导通电阻 (Rds(on)) 和更快开关速度时，往往会面临开关损耗 (Qg, Qgd) 增大、抗冲击能力下降等矛盾。

商甲半导体采用的 SGT 结构技术，正是解决这一矛盾的关键：

屏蔽栅极结构： 在传统的栅极沟槽结构基础上，创新性地引入了额外的“屏蔽电极”（通常是源极电位）。这一结构能有效屏蔽栅极与漏极之间的米勒电容 (Cgd)，大幅降低栅极电荷 (Qg, 特别是 Qgd)。

**栅极电荷 (Qg)： 降低Qg意味着驱动电路更容易驱动MOS管，***减少开关过程中的导通和关断损耗，提升系统整体效率，尤其在需要高频开关的应用中优势明显。

优化导通电阻 (Rds(on))： SGT结构通过优化载流子分布和沟道设计，在同等芯片面积下，实现了比传统沟槽MOS更低的导通电阻，降低了导通状态下的功率损耗和发热。

优异的开关性能： 低Qg和优化的电容特性共同带来了更快的开关速度和更干净的开关波形，减少了电压/电流应力，提升了系统稳定性和EMI性能。

高可靠性： 精心设计的结构有助于改善器件的雪崩耐量 (Eas) 和抗闩锁能力，提高了系统在恶劣工况下的鲁棒性。 工业自动化生产线中的电机驱动与控制电路大量使用商甲半导体的 MOSFET。宿迁MOSFET选型参数供应商

商甲半导体：把握功率半导体国产替代窗口期，高一端产品及应用领域有望实现国产化破局.20V至100V N+P MOSFETMOSFET选型参数

商家半导体有各类封装的MOSFET产品。

功率场效应管与双极型功率晶体管之间的特性比较如下：

1. 驱动方式：场效应管是电压驱动，电路设计比较简单，驱动功率小；功率晶体管是电流驱动，设计较复杂，驱动条件选择困难，驱动条件会影响开关速度。

2. 开关速度：场效应管无少数载流子存储效应，温度影响小，开关工作频率可达150KHz以上；功率晶体管有少数载流子存储时间限制其开关速度，工作频率一般不超过50KHz。

3. 安全工作区：功率场效应管无二次击穿，安全工作区宽；功率晶体管存在二次击穿现象，限制了安全工作区。

4. 导体电压：功率场效应管属于高电压型，导通电压较高，有正温度系数；功率晶体管无论耐电压的高低，导体电压均较低，具有负温度系数。

5. 峰值电流：功率场效应管在开关电源中用做开关时，在启动和稳态工作时，峰值电流较低；而功率晶体管在启动和稳态工作时，峰值电流较高。

6. 产品成本：功率场效应管的成本略高；功率晶体管的成本稍低。

7. 热击穿效应：功率场效应管无热击穿效应；功率晶体管有热击穿效应。8. 开关损耗：场效应管的开关损耗很小；功率晶体管的开关损耗比较大。 20V至100V N+P MOSFETMOSFET选型参数

无锡商甲半导体有限公司成立于2023年8月3日，注册地位于无锡经济开发区太湖湾信息技术产业园1号楼908室。公司专注于功率半导体器件的研发设计与销售，采用Fabless模式开发TrenchMOSFET、IGBT等产品，截至2023年12月，公司已设立深圳分公司拓展华南市场，并获评2024年度科技型中小企业。无锡商甲半导体有限公司利用技术优势，以国内***技术代Trench/SGT产品作为***代产品；产品在FOM性能方面占据***优势，结合先进封装获得的更高电流密度；打造全系列N/P沟道车规级MOSFET，为日益增长的汽车需求助力；打造全系列CSPMOSFET，聚焦SmallDFN封装；未来两年内做全硅基产品线并拓展至宽禁带领域；