MOSFET选型参数基本参数
  • 品牌
  • 无锡商甲半导体
  • 型号
  • MOS /IGBT/FRD/SIC
  • 外形尺寸
  • 2630mm*1791mm*1130mm,3050mm*1791mm*1130mm,6500mm*3200mm*1800mm
MOSFET选型参数企业商机

商家半导体有各类封装的MOSFET产品。

功率场效应管与双极型功率晶体管之间的特性比较如下:

1. 驱动方式:场效应管是电压驱动,电路设计比较简单,驱动功率小;功率晶体管是电流驱动,设计较复杂,驱动条件选择困难,驱动条件会影响开关速度。

2. 开关速度:场效应管无少数载流子存储效应,温度影响小,开关工作频率可达150KHz以上;功率晶体管有少数载流子存储时间限制其开关速度,工作频率一般不超过50KHz。

3. 安全工作区:功率场效应管无二次击穿,安全工作区宽;功率晶体管存在二次击穿现象,限制了安全工作区。

4. 导体电压:功率场效应管属于高电压型,导通电压较高,有正温度系数;功率晶体管无论耐电压的高低,导体电压均较低,具有负温度系数。

5. 峰值电流:功率场效应管在开关电源中用做开关时,在启动和稳态工作时,峰值电流较低;而功率晶体管在启动和稳态工作时,峰值电流较高。

6. 产品成本:功率场效应管的成本略高;功率晶体管的成本稍低。

7. 热击穿效应:功率场效应管无热击穿效应;功率晶体管有热击穿效应。8. 开关损耗:场效应管的开关损耗很小;功率晶体管的开关损耗比较大。 商甲半导体通过技术突破(如SGT GS/SJ G3技术、智能化设计)实现产品系列国产化,加速国产替代。海南MOSFET选型参数

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  无锡商甲半导体有限公司有SGT MOSFET、Trench MOSFET等产品。

   SGT MOSFET:一种创新的沟槽式功率MOSFET,具备更低的导通电阻,性能更加稳定

  SGT-MOSFET(屏蔽栅沟槽MOSFET)是一种创新的沟槽式功率MOSFET,基于传统沟槽式MOSFET(U-MOSFET)的改进。通过运用电荷平衡技术理论,SGT-MOSFET在传统功率MOSFET中引入额外的多晶硅场板进行电场调制,从而提升了器件的耐压能力和降低了导通电阻。

  这种结构设计使得SGT-MOSFET具有导通电阻低、开关损耗小、频率特性优越等***特点。屏蔽栅在漂移区中的作用相当于体内场板,使得SGT-MOSFET在导通电阻R_(ON(SP))和品质因数(FOM=Ron*Qg)等方面具有***优势,有效地提高了系统的能源利用效率。 12V至200V P MOSFETMOSFET选型参数联系方式商甲半导体提供无线充应用MOSFET选型。

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SOP封装标准涵盖了SOP-8、SOP-16、SOP-20、SOP-28等多种规格,其中数字部分表示引脚数量。在MOSFET的封装中,SOP-8规格被***采用,且业界常将P*部分省略,简称为so(Small Out-Line)。

SO-8采用塑料封装,未配备散热底板,因此散热效果一般,主要适用于小功率MOSFET。

SO-8封装技术**初由PHILIP公司开发,随后逐渐演变为TSOP(薄小外形封装)、VSOP(甚小外形封装)、SSOP(缩小型SOP)以及TSSOP(薄的缩小型SOP)等标准规格。

在这些派生的封装规格中,TSOP和TSSOP这两种规格常被用于MOSFET的封装。同时,QFN-56封装也值得一提。

QFN(QuadFlatNon-leadedpackage)即四边无引线扁平封装,是一种新兴的表面贴装芯片封装技术。其特点在于焊盘尺寸小、体积紧凑,且采用塑料作为密封材料。如今,该技术常被称作LCC。

    MOSFET大致可以分为以下几类:平面型MOSFET;Trench (沟槽型)MOSFET,主要用于低压领域;SGT(Shielded Gate Transistor,屏蔽栅沟槽)MOSFET,主要用于中压和低压领域;SJ-(超结)MOSFET,主要在高压领域应用。

    随着手机快充、电动汽车、无刷电机和锂电池的兴起,中压MOSFET的需求越来越大,中压功率器件开始蓬勃发展,因其巨大的市场份额,国内外诸多厂商在相应的新技术研发上不断加大投入。SGT MOSFET作为中MOSFET的**,被作为开关器件广泛应用于电机驱动系统、逆变器系统及电源管理系统,是**功率控制部件。

    工业自动化生产线中的电机驱动与控制电路大量使用商甲半导体的 MOSFET。

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平面工艺与Trench沟槽工艺MOSFET区别

由于结构原因,性能区别如下:

1.导通电阻Trench工艺MOSFET具有深而窄的沟槽结构,这可以增大器件的有效通道截面积,从而降低导通电阻,能够实现更高的电流传输和功率处理能力。平面工艺MOSFET的通道结构相对较简单,导通电阻较高

2.抗击穿能力Trench工艺MOSFET通过控制沟槽的形状和尺寸,由于Trench工艺的深沟槽结构,漏源区域的表面积得到***增加。这使得MOSFET器件Q在承受高电压时具有更好的耐受能力,适用于高压应用,如电源开关、电机驱动和电源系统等。平面工艺MOSFET相对的耐电压较低。广泛应用于被广泛应用于数字和模拟电路中,微处理器,放大器,音响,逆变器,安防,报警器,卡车音响喇叭及光伏储能上。

3.抗漏电能力[rench工艺MOSFET通过沟槽内的绝缘材料和衬底之间形成较大的PN结,能够有效阳止反向漏电流的流动,因此,Trench工艺MOSEET在反向偏置下具有更好的抗漏电性能。平面工艺MOSFET的抗漏电能力相对较弱。

4.制造复杂度Trench工艺MOSFET的制造过程相对复杂,包括沟槽的刻蚀、填充等步骤,增加了制造成本。平面工艺MOSFET制造工艺成熟:***NAR平面工艺MOSFET是**早的MOSFET制造工艺之一, 无锡商甲半导体:产品矩阵完整,可为客户提供功率芯片全套解决方案及为前沿领域提供定制化服务.海南MOSFET选型参数

采用提供超高可靠性、高性价比的功率半导体解决方案,覆盖新能源汽车、AI服务器、低空飞行器等高增长领域。海南MOSFET选型参数

无锡商甲半导体MOSFET有多种封装,满足各类电源需求

TO-3P/247TO247是一种常见的小外形封装,属于表面贴封装类型,其中的“247”是封装标准的编号。值得注意的是,TO-247封装与TO-3P封装都采用3引脚输出,且内部的裸芯片(即电路图)可以完全相同,因此它们的功能和性能也基本一致,只是在散热和稳定性方面可能略有差异。TO247通常是非绝缘封装,这种封装的管子常用于大功率的POWFR中。作为开关管使用时,它能够承受较大的耐压和电流,因此是中高压大电流MOS管常用的封装形式。该产品特点包括耐压高、抗击穿能力强等,特别适用于中压大电流场合(电流10A以上,耐压值在100V以下),以及120A以上、耐压值200V以上的更高要求场合。 海南MOSFET选型参数

无锡商甲半导体有限公司成立于2023年8月3日,注册地位于无锡经济开发区太湖湾信息技术产业园1号楼908室。公司专注于功率半导体器件的研发设计与销售,采用Fabless模式开发TrenchMOSFET、IGBT等产品,截至2023年12月,公司已设立深圳分公司拓展华南市场,并获评2024年度科技型中小企业。无锡商甲半导体有限公司利用技术优势,以国内***技术代Trench/SGT产品作为***代产品;产品在FOM性能方面占据***优势,结合先进封装获得的更高电流密度;打造全系列N/P沟道车规级MOSFET,为日益增长的汽车需求助力;打造全系列CSPMOSFET,聚焦SmallDFN封装;未来两年内做全硅基产品线并拓展至宽禁带领域;

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