热传导半导体中存在温度梯度的话，热能将由半导体的高温部分传导到低温部分，单位时间内通过单位面积的热量与温度的梯度固体的热传导由传导载流子和晶格振动（声子运动）的贡献组成。对于非简并半导体，晶格振动对热导率的贡献比载流子的贡献大几个数量级。 [35]压阻效应“压阻效应”是指当对半导体材料施加应力作用时，半导体材料的电阻率将随着应力的变化而发... 【查看详情】

半导体制程是一项复杂的制作流程，先进的 IC 所需要的制作程序达一千个以上的步骤。这些步骤先依不同的功能组合成小的单元，称为单元制程，如蚀刻、微影与薄膜制程；几个单元制程组成具有特定功能的模块制程，如隔绝制程模块、接触窗制程模块或平坦化制程模块等；***再组合这些模块制程成为某种特定 IC 的整合制程电子组件进入纳米等级后，在材料方面也开... 【查看详情】

ATE系统的关键设计要点主要包括模块化设计、并行测试能力、可扩展性和校准系统 [19]。并行测试技术通过同时测试多颗芯片以提升测试吞吐量 [17]。测试系统架构：自动测试设备（ATE）系统主要由硬件和软件两大部分构成。硬件包括测试控制器、仪器资源模块（如数字万用表、可编程电源、信号发生器、数字/模拟功能卡）、开关矩阵系统和设备接口。软件则... 【查看详情】

电容-电压（C-V）测量电容-电压（C-V）测量用于分析半导体器件的电容特性，如氧化层厚度、掺杂浓度、平带电压等 [12]。该技术通过**的电容-电压单元（CVU）实现，通常在1 kHz至10 MHz的频率范围内进行低噪声测量，支持±30V的直流偏置 [2] [7]，并能够测量低至飞法（fF）级的微小电容 [2]。脉冲I-V测量脉冲I-V... 【查看详情】

半导体技术的演进，除了改善性能如速度、能量的消耗与可靠性外，另一重点就是降**作成本。降低成本的方式，除了改良制作方法，包括制作流程与采用的设备外，如果能在硅芯片的单位面积内产出更多的 IC，成本也会下降。所以半导体技术的一个非常重要的发展趋势，就是把晶体管微小化。当然组件的微小化会伴随着性能的改变，但很幸运的，这种演进会使 IC 大部分... 【查看详情】

当外加反向电压达到一定阈值时，偶极层内部会发生雪崩击穿而使电流突然增加几个数量级。利用PN结的这些特性在各种应用领域内制成的二极管有：整流二极管、检波二极管、变频二极管、变容二极管、开关二极管、稳压二极管（曾讷二极管）、崩越二极管（碰撞雪崩渡越二极管）和俘越二极管（俘获等离子体雪崩渡越时间二极管）等。此外，还有利用PN结特殊效应的隧道二极... 【查看详情】

半导体技术进入纳米时代后，除了水平方向尺寸的微缩造成对微影技术的严苛要求外，在垂直方向的要求也同样地严格。一些薄膜的厚度都是 1 ~ 2 纳米，而且在整片上的误差小于 5%。这相当于在100个足球场的面积上要很均匀地铺上一层约1公分厚的泥土，而且误差要控制在 0.05 公分的范围内。蚀刻：另外一项重要的单元制程是蚀刻，用化学反应结合高能等... 【查看详情】

原子层刻蚀（Atomic Layer Etching, ALE）作为一种新兴的先进刻蚀技术，能够将刻蚀精确控制到原子层级（约0.4nm），在先进制程中应用前景广阔 [17] [25]。刻蚀机与光刻机在半导体制造流程**能不同、精度要求差异***，二者是互补关系而非替代关系 [5-6]。光刻机用于将电路图案投影到光刻胶上，而刻蚀机则根据该图... 【查看详情】

路线图指出，到2040年，0.2纳米制程将采用互补场效应晶体管（CFET）的全新晶体管架构，并搭配单片式3D芯片设计方案 [8]。目前国内厂商如恒运昌已实现技术突破，其第二代产品Bestda系列支持28纳米制程，第三代Aspen系列更是达到7-14纳米制程支撑能力，填补了国产半导体设备在先进制程领域的空白。但是为了达到纳米的要求，半导体制... 【查看详情】

概伦电子FS-Pro是一款国产**半导体参数测试系统，功能***、配置灵活 [6] [9]。该系统集成了电流电压测试、电容电压测试、脉冲式IV测试、高速时域信号采集以及低频噪声测试能力，可广泛应用于各种半导体器件、先进材料与器件测试等领域，其技术指标达到国际先进水平 [6]。泰克（Tektronix）2600B-PCT是一款高功率晶体管参... 【查看详情】

制冷1834年，法国科学家帕尔帖发现了半导体制冷作用。帕尔帖原理又被称为是”帕尔贴效益“，就是将两种不同的导体充分运用起来，使用A和B组成的电路，通入直流电，在电路的接头处可以产生焦耳热，同时还会释放出一些其它的热量，此时就会发现，另一个接头处不是在释放热量，而是在吸收热量。这种现象是可逆的，只要对电流的方向进行改变，放热和吸热的运行就可... 【查看详情】

均匀性：片内均匀性≤±3%（Oxford PlasmaPro 100），其他型号可达±5%（Oxford PlasmaPro 100） [1]温度控制：-150℃~110℃（Oxford PlasmaPro 100） [1]选择比：对光刻胶选择比≥30:1（Oxford PlasmaPro 100） [1]刻蚀机的结构可分为主体和附属设备... 【查看详情】