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集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。随着半导体技术的发展,光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2~3个数量...
能使前后被摄物产生压缩感。远摄镜头的另一个***的效果是将远处被摄体“拉近”,从而使前后被摄物产生被压缩的感觉。在一些重大体育赛事中,成群的摄影记者往往架起大炮般的远摄镜头拍摄马拉松赛跑起跑时运动员重...
此前人们认为该装置是古希腊人使用的一种计算器,用来描绘天空中行星的运行轨迹,以帮助当时的人识别方向。然而,科学家们现在**了这部装置表面破损的铭文后发现,它实际上是用来研究**的。安提基特拉机械装置是...
2.该机械有一个刻上至少2000个字母的盖子,因此安提基特拉机械研究计划的人员经常认为这是仪器说明书。这**是为了便于携带和个人使用。3.“说明书”的存在**该装置是科学家和工程师设计作为非专业的旅行...
光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、...
对准对准方法:a、预对准,通过硅片上的notch或者flat进行激光自动对准;b、通过对准标志(Align Mark),位于切割槽(Scribe Line)上。另外层间对准,即套刻精度(Overlay...
优点虽然使用长焦距镜头要受到不少因素的影响,但其优点却是主要的。在远距离拍摄风光、人物,在看台拍摄舞台、体育比赛等,在动物园拍摄动物,在野外拍摄禽兽,加辅助镜进行近拍等等,在这些众多的领域中,无处不是...
涂底方法:a、气相成底膜的热板涂底。HMDS蒸气淀积,200~250C,30秒钟;优点:涂底均匀、避免颗粒污染;b、旋转涂底。缺点:颗粒污染、涂底不均匀、HMDS用量大。目的:使表面具有疏水性,增强基...
c、水坑(旋覆浸没)式显影(Puddle Development)。喷覆足够(不能太多,**小化背面湿度)的显影液到硅片表面,并形成水坑形状(显影液的流动保持较低,以减少边缘显影速率的变化)。硅片固定...
德瑞克·约翰·德索拉·普莱斯提出该装置可能是公开展示,地点或许是罗德岛上的博物馆或公共会堂。罗德岛在当时是以机械工程闻名,尤其是罗德岛人擅长的自动机械。古希腊九大抒情诗人中的品达在他的第七首奥林匹克颂...
艾伦·布隆莱一个和普赖斯有差异的重建模型是由澳大利亚悉尼大学的计算机科学家艾伦·布隆莱和悉尼的一位钟表师法兰克·帕西瓦尔建立。布隆莱和麦可·莱特合作使用更精密的X光影像重建新的模型。麦可·莱特曾担任伦...
后烘方法:热板,110~130C,1分钟。目的:a、减少驻波效应;b、激发化学增强光刻胶的PAG产生的酸与光刻胶上的保护基团发生反应并移除基团使之能溶解于显影液。显影方法:a、整盒硅片浸没式显影(Ba...
介绍04:54新型DUV光刻机公布,套刻精度达8纳米!与全球前列设备差多少?直接分步重复曝光系统 (DSW) 超大规模集成电路需要有高分辨率、高套刻精度和大直径晶片加工。直接分步重复曝光系统是为适应...
**普通的正胶显影液是四甲基氢氧化铵(TMAH)(标准当量浓度为0.26,温度15~25C)。在I线光刻胶曝光中会生成羧酸,TMAH显影液中的碱与酸中和使曝光的光刻胶溶解于显影液,而未曝光的光刻胶没有...
此前人们认为该装置是古希腊人使用的一种计算器,用来描绘天空中行星的运行轨迹,以帮助当时的人识别方向。然而,科学家们现在**了这部装置表面破损的铭文后发现,它实际上是用来研究**的。安提基特拉机械装置是...
德瑞克·约翰·德索拉·普莱斯提出该装置可能是公开展示,地点或许是罗德岛上的博物馆或公共会堂。罗德岛在当时是以机械工程闻名,尤其是罗德岛人擅长的自动机械。古希腊九大抒情诗人中的品达在他的第七首奥林匹克颂...
使用长焦距镜头拍摄具有以下几个方面的特点: [3]视角小所以,拍摄的景物空间范围也小,在相同的拍摄距离处,所拍摄的影像大于标准镜头,适用于拍摄远处景物的细部和拍摄不易接近的被摄体 [3]。景深短所以,...
28、顶板顶板是在凹模或模块内活动的板状零件,以向上动作直接或间接顶出工(序)件或废料。29、齿圈齿圈是精冲凹模或带齿压料板上的成圈齿形突起,是凹模或带齿压料板的局部结构而不是单独的零件。30、限位套...
早在80年代,极紫外光刻技术就已经开始理论的研究和初步的实 验,该技术 的光源是波 长 为11~14 nm的极端远紫外光,其原理主要是利用曝光光源极短的波长达到提高光刻技术分辨率的目的。由于所有的光学...
1902年5月17日,考古学家维拉理奥斯·史大理斯检查发现的沉船中物品时发现一个齿轮嵌在一块岩石中。 [1]史大理斯一开始认为这是天文钟,但多数学者认为这是时代错误,这物品和同时期发现的其他东西相较之...
鱼眼镜头的体积较大。以适用于35毫米单镜头反光照相机的鱼眼镜头为例,当将这种鱼眼镜头安装在体积较小的35毫米单镜头反光照相机机身上时,有一种“头(镜头)大身体(机身)小”的感觉,且由于鱼眼镜头重量不轻...
对于新影像的进一步研究促使莱特提出新看法。首先他将普莱斯的模式进一步发展,认为该仪器相当于一个天象仪。莱特的天象仪不只可模拟日月运动,还可显示内侧行星(水星和金星)和外侧行星(火星、木星和土星)的运动...
1.气相成底模2.旋转烘胶3.软烘4.对准和曝光5.曝光后烘焙(PEB)6.显影7.坚膜烘焙8.显影检查光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开...
视角范围大,可以涵盖大范围景物。所谓视角范围大,即在同一视点(与被摄物的距离保持不变)用广角、标准和远摄三种不同焦距的摄影镜头取景,结果是前者要比后者在上下左右拍摄到更多的景物。当摄影者在没有退路的情...
光刻系统SUSS是一种应用于半导体制造领域的工艺试验仪器,其比较大基片尺寸为6英寸,可实现0.5μm的分辨率和1μm的**小线宽 [1]。该系统通过精密光学曝光技术完成微电子器件的图形转移,为集成电路...
镜头的改变:在相同物距 和光圈的情况下,使用不同焦距的镜头可改变景深,镜头焦距越短,**深越大,对于超广角镜(8---15毫米),景深非常大,以致无需调焦,因为每一级光圈的景深都是清晰。光学工业镜头*...
目前,安提基特拉机械已被基本复原。 [5]以下是托尼·弗里思研究团队的***复原成果。安提基特拉装置的制作者无论使用什么周期数据,都需要遵循三个标准:精确性、可分解性与经济性。简省且高效,是安提基特拉...
边缘光刻胶的去除光刻胶涂覆后,在硅片边缘的正反两面都会有光刻胶的堆积。边缘的光刻胶一般涂布不均匀,不能得到很好的图形,而且容易发生剥离(Peeling)而影响其它部分的图形。所以需要去除。方法:a、化...
**普通的正胶显影液是四甲基氢氧化铵(TMAH)(标准当量浓度为0.26,温度15~25C)。在I线光刻胶曝光中会生成羧酸,TMAH显影液中的碱与酸中和使曝光的光刻胶溶解于显影液,而未曝光的光刻胶没有...
长焦距镜头是指比标准镜头的焦距长的摄影镜头。长焦距镜头分为普通远摄镜头和超远摄镜头两类。普通远摄镜头的焦距长度接近标准镜头,而超远摄镜头的焦距却远远大于标准镜头。以135照相机为例,其镜头焦距从85毫...
2025.08.07 高新区购买光刻系统量大从优
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