企业商机
首页 > 企业商机
首页 > 企业商机
38、卸料螺钉卸料螺钉是固定在弹压卸料板上的螺钉,用于限制弹压卸料板的静止位置。39、单工序模单工序模是在压力机一次行程中只完成一道工序的冲模。40、废料切刀废料切刀有两种。1.装于拉深件凸缘切边模上...
制造掩模版,比较灵活。但由于其曝光效率低,主要用于实验室小样品纳米制造。而电子束曝光要适应大批量生产,如何进一步提高曝光速度是个难题。为了解决电子束光刻的效率问题,通常将其与其他光刻技术配合使用。例如...
2、广角镜头使用遮光罩或滤色镜时,很容易遮挡镜头视角的周围,使像场发暗,而这一情况,在取景时不容易察觉,但在照片上却很明显。因此,运用附件时, 一定要从说明书上了解清楚它们的使用范围。如果说明书中没有...
长焦距镜头适于拍摄距离远的景物,景深小容易使背景模糊主体突出,但体积笨重且对动态主体对焦不易。35mm 相机长焦距镜头通常分为三级,135mm以下称中焦距,135-500mm称长焦距,500mm 以上...
38、卸料螺钉卸料螺钉是固定在弹压卸料板上的螺钉,用于限制弹压卸料板的静止位置。39、单工序模单工序模是在压力机一次行程中只完成一道工序的冲模。40、废料切刀废料切刀有两种。1.装于拉深件凸缘切边模上...
**普通的正胶显影液是四甲基氢氧化铵(TMAH)(标准当量浓度为0.26,温度15~25C)。在I线光刻胶曝光中会生成羧酸,TMAH显影液中的碱与酸中和使曝光的光刻胶溶解于显影液,而未曝光的光刻胶没有...
EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源,可使曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。根据瑞利公式(分辨率=k1·λ/NA),这么短的波长可以提供极高...
按接口C型镜头法兰焦距是安装法兰到入射镜头平行光的汇聚点之间的距离。法兰焦距为17.526mm或0.690in。安装罗纹为:直径1in,32牙.in。镜头可以用在长度为0.512in (13mm)以内...
得指出的是,EUV光刻技术的研发始于20世纪80年代。**早希望在半周期为70nm的节点(对应逻辑器件130nm节点)就能用上EUV光刻机 [1]。可是,这一技术一直达不到晶圆厂量产光刻所需要的技术指...
极紫外光刻系统是采用13.5纳米波长极紫外光源的半导体制造**设备,可将芯片制程推进至7纳米、5纳米及更先进节点。该系统由荷兰阿斯麦公司于2019年推出第五代产品,突破光学衍射极限,将摩尔定律物理极限...
长焦距镜头是指比标准镜头的焦距长的摄影镜头。长焦距镜头分为普通远摄镜头和超远摄镜头两类。普通远摄镜头的焦距长度接近标准镜头,而超远摄镜头的焦距却远远大于标准镜头。以135照相机为例,其镜头焦距从85毫...
早在80年代,极紫外光刻技术就已经开始理论的研究和初步的实 验,该技术 的光源是波 长 为11~14 nm的极端远紫外光,其原理主要是利用曝光光源极短的波长达到提高光刻技术分辨率的目的。由于所有的光学...
由于193nm沉浸式工艺的延伸性非常强,同时EUV技术耗资巨大进展缓慢。EUV(极紫外线光刻技术)是下一代光刻技术(<32nm节点的光刻技术)。它是采用波长为13.4nm的软x射线进行光刻的技术。EU...
手动光圈定焦镜头手动光圈定焦镜头比固定光圈定焦镜头增加了光圈调整环,光圈范围一般从F1.2或F1.4到全关闭,能方便地适应被被摄现场地光照度,光圈调整是通过手动人为进行的。光照度比较均匀,价格较便宜。...
后烘方法:热板,110~130C,1分钟。目的:a、减少驻波效应;b、激发化学增强光刻胶的PAG产生的酸与光刻胶上的保护基团发生反应并移除基团使之能溶解于显影液。显影方法:a、整盒硅片浸没式显影(Ba...
28、顶板顶板是在凹模或模块内活动的板状零件,以向上动作直接或间接顶出工(序)件或废料。29、齿圈齿圈是精冲凹模或带齿压料板上的成圈齿形突起,是凹模或带齿压料板的局部结构而不是单独的零件。30、限位套...
用长焦头拍摄远处景物,影像质量受天气影响较大,紫外线、尘埃和水汽都会使影像清晰度下降、反差变弱和色彩不饱和。因此,用长焦头拍摄远处景物时,比较好要选择反差较大、色彩较饱和的景物做拍摄对象。此外,摄影时...
手动光圈定焦镜头手动光圈定焦镜头比固定光圈定焦镜头增加了光圈调整环,光圈范围一般从F1.2或F1.4到全关闭,能方便地适应被被摄现场地光照度,光圈调整是通过手动人为进行的。光照度比较均匀,价格较便宜。...
浸没式光刻机是通过在物镜与晶圆之间注入超纯水,等效缩短光源波长并提升数值孔径,从而实现更高分辨率的半导体制造**设备。2024年9月工信部文件显示,国产氟化氩浸没式光刻机套刻精度已达到≤8nm水平。该...
早在80年代,极紫外光刻技术就已经开始理论的研究和初步的实 验,该技术 的光源是波 长 为11~14 nm的极端远紫外光,其原理主要是利用曝光光源极短的波长达到提高光刻技术分辨率的目的。由于所有的光学...
镜头的改变:在相同物距 和光圈的情况下,使用不同焦距的镜头可改变景深,镜头焦距越短,**深越大,对于超广角镜(8---15毫米),景深非常大,以致无需调焦,因为每一级光圈的景深都是清晰。光学工业镜头*...
准分子光刻技术作为当前主流的光刻技术,主要包括:特征尺寸为0.1μm的248 nm KrF准分子激光技术;特征尺寸为90 nm的193 nm ArF准分子激光技术;特征尺寸为65 nm的193 nm ...
25.模垫拆卸分解及清洁检查各磨耗面与重新涂抹润滑脂后组装试车.1、冲床工必须经过学习,掌握冲床的结构、性能,熟悉操作规程并取得操作许可方可**操作。2、正确使用冲床上安全保护和控制装置,不得任意拆动...
46、垫板垫板是介于固定板(或凹模)与模座间的淬硬板状零件,用以减低模座承受的单位压缩应力。A.每使用1500-2000小时维护保养应执行项目:1.滑润油脂吐出油量及压力检知功能测试与调整.2.空气系...
艾伦·布隆莱一个和普赖斯有差异的重建模型是由澳大利亚悉尼大学的计算机科学家艾伦·布隆莱和悉尼的一位钟表师法兰克·帕西瓦尔建立。布隆莱和麦可·莱特合作使用更精密的X光影像重建新的模型。麦可·莱特曾担任伦...
光刻系统是一种用于半导体器件制造的精密科学仪器,是制备高性能光电子和微电子器件不可或缺的**工艺设备 [1] [6-7]。其技术发展历经紫外(UV)、深紫外(DUV)到极紫外(EUV)阶段,推动集成电...
b、坚膜,以提高光刻胶在离子注入或刻蚀中保护下表面的能力;c、进一步增强光刻胶与硅片表面之间的黏附性;d、进一步减少驻波效应(Standing Wave Effect)。常见问题:a、烘烤不足(Und...
38、卸料螺钉卸料螺钉是固定在弹压卸料板上的螺钉,用于限制弹压卸料板的静止位置。39、单工序模单工序模是在压力机一次行程中只完成一道工序的冲模。40、废料切刀废料切刀有两种。1.装于拉深件凸缘切边模上...
安提基特拉机械以其小型化和其部分装置的复杂性可与19世纪机械钟表相比而闻名。它有超过30个齿轮,虽然麦可·莱特认为它可多达72个有正三角形齿的齿轮。当借由一个曲柄输入一个日期,该机械就可算出日月或行星...
边缘光刻胶的去除光刻胶涂覆后,在硅片边缘的正反两面都会有光刻胶的堆积。边缘的光刻胶一般涂布不均匀,不能得到很好的图形,而且容易发生剥离(Peeling)而影响其它部分的图形。所以需要去除。方法:a、化...
2025.08.07 高新区购买光刻系统量大从优
2025.08.07 吴中区供应光学镜头多少钱
2025.08.07 淮安供应光学镜头推荐货源
2025.08.07 吴江区直销精密调整装置选择
2025.08.07 姑苏区常见光学镜头按需定制
2025.08.07 昆山本地光学镜头量大从优
2025.08.07 连云港直销光学镜头批量定制
2025.08.07 工业园区直销光刻系统五星服务
2025.08.07 苏州购买精密调整装置量大从优
2025.08.07 常州供应精密调整装置五星服务
2025.08.07 常州销售精密调整装置推荐货源
2025.08.07 相城区省电精密调整装置工厂直销
2025.08.07 连云港购买光学镜头选择
2025.08.07 工业园区销售光刻系统五星服务
2025.08.07 江苏省电精密调整装置规格尺寸
2025.08.07 南通本地精密调整装置推荐货源
2025.08.07 苏州销售精密调整装置五星服务
2025.08.07 常州购买光刻系统选择
2025.08.06 姑苏区供应光刻系统规格尺寸
2025.08.06 徐州省电光刻系统推荐货源