企业商机
MappingOverInk处理基本参数
  • 品牌
  • 上海伟诺
  • 型号
  • 伟诺
  • 适用行业
  • 半导体
  • 版本类型
  • 网络版
  • 语言版本
  • 简体中文版
MappingOverInk处理企业商机

ZPAT是一种基于统计学的芯片筛选技术,通过在晶圆测试阶段识别并剔除具有潜在缺陷的芯片,从而提升产品的可靠性。在实际的应用过程中需要通过叠加多片Wafer找出在同一坐标下失效的Die的比例,通过特定的算法从而评估其他未失效的Die存在的潜在失效的概率。也是提升芯片质量零缺陷的一种手段。为助力客户应对日益严苛的“零缺陷”质量挑战,上海伟诺信息科技有限公司将其先进的ZPAT技术深度整合于MappingOverInk解决方案中。这一创新集成赋予用户高度的灵活性与强大的分析能力,使其能够通过一套高度可配置的流程,精确、高效地剔除晶圆上那些性能参数超出统计控制界限的异常芯片,从而构筑起基于动态统计过程控制的智能质量防线。采用Inkless技术避免油墨标记干扰,Mapping Over Ink处理保持晶圆洁净度。可视化MappingOverInk处理系统

可视化MappingOverInk处理系统,MappingOverInk处理

在智能制造转型背景下,YMS已不但是数据分析工具,更是连接测试与工艺优化的中枢系统。系统实时汇聚来自ETS364、STS8107、93k等平台的测试结果,自动完成结构化清洗与整合,消除信息孤岛。标准化数据库支持动态监控良率变化,例如识别某机台连续三批边缘区域良率偏低,触发设备校准预警。SYL/SBL卡控功能则在指标超限时自动拦截异常批次,防止不良品流入下一环节。报表引擎支持按产品线、客户或班次生成定制化报告,适配不同管理层的信息需求。这种“采集—分析—干预—反馈”的闭环机制,提升了生产过程的可控性与响应速度。上海伟诺信息科技有限公司以打造中国半导体软件生态为使命,持续完善YMS的集成能力。山东PAT系统上海伟诺信息科技Shot Map功能,可以自定义设定Wafer Mapping上Reticle区域并按规则Ink。

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大型封测厂区普遍搭载ETS88、J750、93k、Chroma、STS8200等十余种不同品牌、型号的测试设备,各类设备输出的STDF、CSV、LOG、JDF、SPD、TXT等原始数据格式杂乱、结构各异,人工整合难度大、误差高。上海伟诺YMS系统搭载自研多协议智能解析引擎,可自动识别各类测试设备的数据结构,自适应完成异构数据的统一转换与标准化规整,解决设备差异化带来的数据割裂问题。系统采用模块化接口设计,拓展性极强,新增测试设备、新数据格式无需重构系统架构,可快速接入、即插即用。该能力帮助企业实现全厂测试数据统一归集、统一管理、统一分析,无需为不同设备搭建多套分析体系,简化数据治理流程。在保障数据采集实时性、完整性、稳定性的同时,为后续良率统计、缺陷追溯、工艺优化提供统一的数据基础。企业持续迭代系统兼容性与适配性,支撑复杂量产工况下的高效数据治理工作。

晶圆测试数据量庞大且格式多样,缺乏统一处理平台极易造成信息孤岛与决策延迟。Mapping Over Ink处理系统通过标准化接口自动收集TSK、P8、EG、OPUS等Probe的原始Mapping,结合测试Bin信息,执行符合AECQ标准的多算法Ink处理流程,快速锁定潜在失效Die。系统内置的Mapping回溯功能,可将处理结果反向转换为原始设备格式,便于在不同工序间共享与验证,极大提升数据流转效率。这种端到端的智能处理能力,使封测厂能在不改变现有硬件架构的前提下,实现更高水平的可靠性管控。上海伟诺信息科技有限公司凭借多年行业积累,打造了这一高效、兼容性强的处理系统,支撑客户应对日益严苛的质量要求。支持高密度逻辑与模拟芯片,Mapping Over Ink方案覆盖多品类半导体产品。

在半导体制造全流程中,晶圆制程的细微参数波动,都有可能引发产品良率下滑与可靠性隐患,其中典型的问题是光刻光罩(Reticle)带来的系统性失效。当光罩本身存在划痕、污渍、设计瑕疵,或是光刻机步进曝光作业出现焦距偏移、曝光能量不均等参数漂移问题时,会在晶圆固定区域形成批量缺陷芯片,构成潜伏性失效群体。这类芯片电性测试往往正常,常规测试手段难以识别,一旦流入封装和终端市场,极易引发后期集中失效,损害产品口碑与企业品牌信誉,是高可靠产品管控的重点与难点。针对光刻光罩带来的区域性、批次性潜在缺陷,上海伟诺信息科技在Mapping Over Ink功能中创新开发Shot Mapping Ink工艺方案,可按照光罩尺寸或自定义方格规格拆分整体晶圆Mapping数据,依托智能算法对整片曝光区域统一喷墨标记,批量拦截光刻制程诱发的潜在失效芯片。该管控模式将传统单点芯片缺陷筛查,升级为整片风险区域拦截,高度适配车规、工规等高可靠性产品生产需求,从根本上规避光刻工艺偶发异常带来的批次质量风险,构建系统性缺陷防护体系。Mapping Over Ink处理算法模型覆盖连续性、孤立型等多种失效模式,提升识别全面性。湖北PAT

上海伟诺信息科技Stacked Map功能,通过堆叠多片Wafer结合算法与卡控规则检测mapping上存在质量风险的芯片。可视化MappingOverInk处理系统

Mapping Over Ink处理流程构建了从数据输入到结果输出的完整闭环:系统自动获取TSK、P8、EG、OPUS等Probe生成的原始Mapping,完全覆盖晶圆测试信息;通过对数据进行标准化解析,与电性测试结果实现高精度对齐;在此基础上,依据AECQ标准调用SPAT、DPAT、GDBC、Cluster等多算法协同分析,动态识别连续性、区域性或孤立型潜在失效风险;处理完成后,不单是生成逻辑Ink指令剔除高风险Die,还支持将txt格式结果回溯为原始Probe设备格式,便于跨工序验证、客户交付与质量审计。整个流程在效率、精度与合规性之间取得平衡,将复杂的测试数据转化为可追溯、可执行的质量决策。上海伟诺信息科技有限公司依托深厚的行业积累与完善的售前售后支持体系,持续推动该流程在国产半导体生态中的落地与规模化应用。可视化MappingOverInk处理系统

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