真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜(镀铝、铬、锡、不锈钢等金属)、七彩薄仿金膜等,从而获得光亮、美观、;价廉的塑料,陶瓷表面金属化制品。普遍应用于汽车、摩托车灯具、工艺美术、装潢装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、化妆品、手机、闹钟、女式鞋后跟等领域。真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支,它已普遍地应用于光学、电子学、能源开发,理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。PECVD主要由工艺管及加热炉、推舟系统、气路系统、电气系统、计算机系统、真空系统6大部分组成。河北叉指电极真空镀膜技术
在显示器件方面,录象磁头、高密度录象带以及平面显示装置的透明导电膜、摄像管光导膜、显示管荧光屏的铝衬等也都是采用真空镀膜法制备。在元件方面,在真空中蒸发镍铬,铬或金属陶瓷可以制造电阻,在塑料上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钛等可以制造电容器,蒸发硒可以得到静电复印机用的硒鼓、蒸发钛酸钡可以制造磁致伸缩的起声元件等等。真空蒸发还可以用于制造超导膜和惯性约束巨变反应用的微珠镀层。此外还可以对珠宝、钟表外壳表面、纺织品金属花纹、金丝银丝线等蒸镀装饰用薄膜,以及采用溅射镀或离子镀对刀具、模具等制造超硬膜。近两年内所兴起的多弧离子镀制备钛金制品,如不锈钢薄板、镜面板、包柱、扶手、高级床托架、楼梯栏杆等目前正在盛行。湖北共溅射真空镀膜价格磁控溅射可用于多种材料,适用性普遍。
真空镀膜机罗茨泵、旋片泵、维持泵的维护保养方法:1、定期检查期间请进行适当的保养。维修间隔因使用用途不同而有差异。检查间隔:初次使用为每日一次;无问题的话,从次周开始为每周一次,以后可以设定为每月一次。2、真空泵油不只会受到抽排气体的污染,泵运转时温度上升,也会造成油劣化。请确认油污染程度、粘性,定期进行油的更换。建议3-6个月更换一次。3、建议每年做一次检修。在真空度低于1×102Pa时严禁对扩散泵进行加热及在加热状态下对扩散泵充入大气及拆卸,否则,会引发因扩散泵内高温状态的油与空气中的氧气接触产生氧化燃烧反应,压力升高而压开精抽阀,造成大门炸开后伤害人的危险,所以在加热和更换扩散泵油前一定要确认真空度是否低于1×102Pa,扩散泵里面的油温是否彻底冷却到常温状态后,方可进行加热或充大气进行拆卸,否则会产生伤害人的严重后果。
蒸发源有三种类型。①电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物)电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;②高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质;③电子束加热源:适用于蒸发温度较高(不低于2000[618-1])的材料,即用电子束轰击材料使其蒸发。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比,具有较高的沉积速率,可镀制单质和不易热分解的化合物膜。为沉积高纯单晶膜层,可采用分子束外延方法。生长掺杂的GaAlAs单晶层的分子束外延装置分子束外延装置示意。喷射炉中装有分子束源,在超高真空下当它被加热到一定温度时,炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度,沉积在基片上的分子可以徙动,按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜,薄膜较慢生长速度可控制在1单层/秒。通过控制挡板,可精确地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法普遍用于制造各种光集成器件和各种超晶格结构薄膜。真空镀膜技术一般分为两大类,即物理的气相沉积技术和化学气相沉积技术。
装饰领域的真空镀膜机,一部分采用的是真空蒸发镀膜法,真空蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华,使之在工件或基材表面沉积的过程。是在真空室中加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流入射到固体(称为衬底或基片)表面凝结形成固态薄膜。关于蒸发源的形状可根据蒸发材料的性质,结合考虑与蒸发材料的湿润性,制作成不同的形式和选用不同的蒸发源物质。真空蒸镀有三层:底漆层(6~12um)+镀膜层(1~2um)+面漆层(10um)装配前处理。将基材表面杂质、灰尘等用布擦拭干净,提高喷射良率。将基材装配在专属挂具上,用以固定于流水线上,并按设计要求实现外观和功能的遮镀。真空镀膜机镀膜常用在相机、望远镜,显微镜的目镜、物镜、棱镜的表面,用以增加像的照度。光电器件真空镀膜服务
真空镀膜的操作规程:在离子轰击和蒸发时,应特别注意高压电线接头,不得触动,以防触电。河北叉指电极真空镀膜技术
一部分采用的是真空溅镀,真空溅镀通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法。在真空状充入惰性气体(Ar),并在腔体和金属靶材(阴极)之间加入高压直流电,由于辉光放电(glowdischarge)产生的电子激发惰性气体产生氩气正离子,正离子向阴极靶材高速运动,将靶材原子轰出,沉积在塑胶基材上形成薄膜。真空镀膜机镀膜机用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面,固体表面的原子、分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞溅出来的现象称为溅射。溅射出的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面形成薄膜。真空溅镀要求在真空状态中充入惰性气体实现辉光放电,该工艺要求真空度在分子流状态。真空溅镀也可根据基材和靶材的特性直接溅射不用涂底漆,真空溅镀的镀层可通过调节电流大小和时间来垒加,但不能太厚,一般厚度在0.2~2um。河北叉指电极真空镀膜技术