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深硅刻蚀设备的技术发展之一是气体分布系统的改进,该系统可以实现气体在反应室内的均匀分布和动态调节,从而提高刻蚀速率和均匀性,降低荷载效应和扇形效应。例如,LamResearch公司推出了一种新型的气体...