广东省科学院半导体研究所微纳加工平台,面向半导体光电子器件、功率电子器件、MEMS、生物芯片等前沿领域,致力于打造公益性、开放性、支撑性枢纽中心。平台拥有半导体制备工艺所需的整套仪器设备,建立了一条实验室研发线和一条中试线,加工尺寸覆盖2-...
本公司从事微纳加工技术服务|真空镀膜技术服务|紫外光刻技术服务|材料刻蚀技术服务的销售
浙江感应耦合等离子刻蚀材料刻蚀公司
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上海GaN材料刻蚀外协 。ICP类型具有较高的刻蚀速率和均匀性,但由于离子束和自由基的比例难以控制,导致刻蚀的方向性和选择性较差,以及扇形效应较大等缺点;...
重庆材料刻蚀加工厂商 双面镀膜光刻是针对硅及其它半导体基片发展起来的加工技术。在基片两面制作光刻图样并且实现映射对准曝光,如果图样不是轴向对称的,往往需...
广州真空镀膜技术 视频图像处理对准技术,是指在光刻套刻的过程中,掩模图样与硅片基板之间基本上只存在相对旋转和平移,充分利用这一有利条件,结合机器视觉...
山东IBE材料刻蚀外协 TSV制程的主要工艺流程包括以下几个步骤:•深反应离子刻蚀(DRIE)法形成通孔,通孔的直径、深度、形状和位置都需要精确控制;•化...
佛山感应耦合等离子刻蚀材料刻蚀价格 湿法蚀刻的影响因素分别为:反应温度,溶液浓度,蚀刻时间和溶液的搅拌作用。根据化学反应原理,温度越高,反应物浓度越大,蚀刻速率越快,...
珠海IBE材料刻蚀技术 电容耦合等离子体刻蚀(CCP)是通过匹配器和隔直电容把射频电压加到两块平行平板电极上进行放电而生成的,两个电极和等离子体构成一个等...