广东省科学院半导体研究所微纳加工平台,面向半导体光电子器件、功率电子器件、MEMS、生物芯片等前沿领域,致力于打造公益性、开放性、支撑性枢纽中心。平台拥有半导体制备工艺所需的整套仪器设备,建立了一条实验室研发线和一条中试线,加工尺寸覆盖2-...
本公司从事微纳加工技术服务|真空镀膜技术服务|紫外光刻技术服务|材料刻蚀技术服务的销售
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云南金属刻蚀材料刻蚀加工 深硅刻蚀设备的制程是指深硅刻蚀设备进行深硅刻蚀反应的过程,它包括以下几个步骤:一是样品制备,即将待刻蚀的硅片或其他材料片进行清洗、...
江苏IBE材料刻蚀加工平台 氧化硅刻蚀制程是一种在半导体制造中常用的技术,它可以实现对氧化硅薄膜的精确形貌控制,以满足不同的器件设计和功能要求。氧化硅刻蚀制程...
广州金属刻蚀材料刻蚀版厂家 现代离子束刻蚀装备融合等离子体物理与精密工程技术,其多极磁场约束系统实现束流精度质的飞跃。在300mm晶圆量产中,创新七栅离子光学...
广东IBE材料刻蚀公司 干法刻蚀设备根据不同的等离子体激发方式和刻蚀机理,可以分为以下几种工艺类型:一是反应离子刻蚀(RIE),该类型是指利用射频(RF)...
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北京光刻加工工厂 光刻工艺就是将光学掩膜版的图形转移至光刻胶中。掩膜版按基板材料分为树脂和玻璃基板,其中玻璃基板又包含石英玻璃,硅硼玻璃,苏打玻璃等...