功率器件MOS产品选型基本参数
  • 品牌
  • 无锡商甲半导体
  • 型号
  • MOSFET(SGT /TRENCH)/SIC MOSFET
  • 类型
  • N/P/N+P
  • 自动化程度
  • 90,全自动,半自动
  • 外形尺寸
  • 2630mm*1791mm*1130mm,3050mm*1791mm*1130mm,6500mm*3200mm*1800mm
  • 产地
  • 四川/重庆,江苏,广东
功率器件MOS产品选型企业商机

无锡商甲半导体有限公司有下列封装产品

TO-92封装

TO-92封装主要适用于低压MOS管,其电流控制在10A以下,耐压值不超过60V。此外,高压1N60/65也采用了这种封装方式,旨在帮助降低产品成本。

TO-263封装

TO-263封装,作为TO-220封装的衍生品,旨在提升生产效率和散热性能。它能够支持极高的电流和电压,特别适用于中压大电流MOS管,其电流范围在150A以下,电压则超过30V。这种封装方式在电力电子领域有着广泛的应用。TO-252封装

TO-252封装,作为当前主流的封装方式之一,其适用范围***。在高压环境下,它能够承受7N以下的压力;而在中压环境中,其电流容量则限制在70A以下。这种封装方式因其优越的电气性能和稳定性,在多个领域中得到了广泛的应用。

SOP-8封装

SOP-8封装设计旨在降低成本,常用于中压环境下电流容量低于50A,或低压环境下60V左右的MOS管。 DFN(Dual Flat Non-leaded) 无引脚扁平封装,引脚从底部引出,寄生电感低于QFN(如笔记本电脑电源)。温州20V至100V N+P MOSFET功率器件MOS产品选型规格书

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功率MOSFET的基本特性

动态特性MOSFET其测试电路和开关过程。开通过程;开通延迟时间td(on)—Up前沿时刻到UGS=UT并开始出现iD的时刻间的时间段;上升时间tr—UGS从UT上升到MOSFET进入非饱和区的栅压UGSP的时间段;iD稳态值由漏极电源电压UE和漏极负载电阻决定。UGSP的大小和iD的稳态值有关,UGS达到UGSP后,在up作用下继续升高直至达到稳态,但iD已不变。开通时间ton—开通延迟时间与上升时间之和。

关断延迟时间td(off)—Up下降到零起,Cin通过RS和RG放电,UGS按指数曲线下降到UGSP时,iD开始减小为零的时间段。下降时间tf—UGS从UGS

P继续下降起,iD减小,到UGS

MOSFET的开关速度MOSFET的开关速度和Cin充放电有很大关系,使用者无法降低Cin,但可降低驱动电路内阻Rs减小时间常数,加快开关速度,MOSFET只靠多子导电,不存在少子储存效应,因而关断过程非常迅速,开关时间在10~100ns之间,工作频率可达100kHz以上,是主要电力电子器件中比较高的。场控器件静态时几乎不需输入电流。但在开关过程中需对输入电容充放电,仍需一定的驱动功率。开关频率越高,所需要的驱动功率越大。 东莞650V至1200V IGBT功率器件MOS产品选型供应商O-220/F 带散热片的塑料封装,支持外接散热,用于中等功率场景(如家电)。

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功率MOSFET属于电压型控制器件。它依靠多数载流子工作,因而具有许多优点:能与集成电路直接相连;开关频率可在数兆赫以上(可达100MHz),比双极型功率晶体管(GTR)至少高10倍;导通电阻具有正温度系数,器件不易发生二次击穿,易于并联工作。与GTR相比,功率MOSFET的导通电阻较大,电流密度不易提高,在100kHz以下频率工作时,其功率损耗高于GTR。此外,由于导电沟道很窄(微米级),单元尺寸精细,其制作也较GTR困难。在80年代中期,功率MOSFET的容量还不大(有100A/60V,75A/100V,5A/1000V等几种)。

超结MOS的特点:

1、低导通电阻通过在纵向结构中引入多个P型和N型层的超结设计,极大地降低了功率器件的导通电阻,在高电压应用中尤为明显

2、高耐压性传统MOSFET在提高耐压的同时会增加导通电阻,而超结结构通过优化电场分布,使其在保持高耐压的同时仍能保持较低的导通电阻。

3、高效率超结MOS具有较快的开关速度和低损耗特性,适用于高频率、高效率的电力转换应用。

4、较低的功耗由于导通电阻和开关损耗的降低,超结MOS在工作时的能量损耗也明显减少,有助于提高系统的整体能效。 功率器件属于分立器件,单独封装且功能不可拆分;功率IC则通过集成多个分立器件与外围电路形成功能模块。

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超结MOS的工艺原理在传统的高压MOSFET中,导通电阻随着器件耐压的增加呈现出立方关系增长,这意味着在高压下,器件的导通电阻非常高,影响效率。而超结MOS通过在漂移区内构建纵向的P型和N型层,使得电场在纵向方向上得到优化。这种结构可以在保持高耐压的同时,大幅降低导通电阻。具体的工艺流程可分为以下几个步骤:

1、掺杂与离子注入在超结MOS的漂移区,**重要的部分是形成交替的P型和N型掺杂区。这个过程需要精细的掺杂控制:

(1)离子注入通过离子注入工艺,分别在器件的漂移区进行P型和N型杂质的注入。离子注入的深度和浓度需要非常精确的控制,确保后续的超结结构能够均匀分布。

(2)多次掺杂与注入通常需要多次重复掺杂和注入过程,以在漂移区形成多个交替的P型和N型区域。 MOSFET其优点表现在有较宽的安全工作区而不会产生热点,并且具有正的电阻温度系数,因此适合进行并联使用。台州650V至1200V IGBT功率器件MOS产品选型供应商

晶体管‌:含双极结型晶体管(BJT)、MOSFET、IGBT等,兼具开关与控制功能;温州20V至100V N+P MOSFET功率器件MOS产品选型规格书

MOSFET的原理

MOSFET的原意是:MOS(MetalOxideSemiconductor金属氧化物半导体),FET(FieldEffectTransistor场效应晶体管),即以金属层(M)的栅极隔着氧化层(O)利用电场的效应来控制半导体(S)的场效应晶体管。

功率场效应晶体管也分为结型和绝缘栅型,但通常主要指绝缘栅型中的MOS型(MetalOxideSemiconductorFET),简称功率MOSFET(PowerMOSFET)。结型功率场效应晶体管一般称作静电感应晶体管(StaticInductionTransistor——SIT)。其特点是用栅极电压来控制漏极电流,驱动电路简单,需要的驱动功率小,开关速度快,工作频率高,热稳定性优于GTR,但其电流容量小,耐压低,一般只适用于功率不超过10kW的电力电子装置。 温州20V至100V N+P MOSFET功率器件MOS产品选型规格书

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