淮安功率器件MOS产品选型产品介绍

功率MOS管选型需根据应用场景、电压、电流、热性能等关键参数综合考量。以下为具体步骤和要点：

选型步骤‌

1.明确N/P沟道类型‌N沟道适用于低压侧开关（如12V系统），P沟道适用于高压侧开关（如驱动电机）。 ‌

2.确定额定电压（VDS）‌通常为总线电压的1.5-2倍，需考虑温度波动和瞬态电压。 ‌

3.计算额定电流（ID）‌需满足最大负载电流及峰值电流（建议留5-7倍余量）。 ‌

4.评估导通损耗（RDS(on)）‌导通电阻越低，损耗越小，建议优先选择RDS(on)≤0.5Ω的器件。

5.热设计‌满负荷工作时表面温度不超过120℃，需配合散热措施。 ‌

关键参数说明‌栅极电荷（Qg）‌：

1.影响开关速度和效率，需与驱动电路匹配。 ‌

2.品质因数（FoM）‌：综合考虑RDS(on)和Qg的平衡，FoM值越小越好。 ‌

3.封装选择‌：大功率需用TO-220或DPAK封装，兼顾散热和空间限制。

注意事项

并联使用时需确保驱动能力匹配，避免因参数差异导致分流不均。 ‌

避免串联使用MOS管，防止耐压不足引发故障。 SO-8（Small Outline） 翼形引脚，体积较TO封装缩小60%，支持自动化贴片（如逻辑电平MOSFET）。淮安功率器件MOS产品选型产品介绍

晶体管外形封装（TO）

TO封装作为早期的封装规格，涵盖诸如TO-3P、TO-247等多种设计。这种封装形式以其高耐压和强抗击穿能力著称，适用于中高压、大电流的MOS管。在现代应用中，TO封装逐渐向表面贴装式发展。

双列直插式封装（DIP）

DIP封装以其两排引脚设计而闻名，被设计为插入到具有相应DIP结构的芯片插座中。DIP封装还有其紧缩版——SDIP（Shrink DIP）。DIP封装类型多样，包括多层陶瓷双列直插式DIP等，其优势在于与主板的兼容性较好。然而，DIP封装由于其较大的封装面积和厚度，可靠性相对较低。

外形晶体管封装（SOT）

SOT是一种贴片型小功率晶体管封装，其常见类型包括SOT23、SOT89等。这种封装以小巧体积和良好可焊性见称，广泛应用于低功率场效应管中。

小外形封装（SOP）

SOP（Small Out-Line Package）是一种表面贴装型封装方式，其引脚以L字形从封装两侧引出。SOP封装常用于MOSFET的封装，其以塑料材质轻便简洁的封装形式赢得广泛应用。为了适应更高性能要求，又发展了诸如TSOP等新型封装。

四边无引线扁平封装（QFN）

QFN是一种四边配置有电极接点的封装方式，其特点是无引线和具备优异的热性能。其应用主要集中在微处理器等领域，提供更优的散热能力。 连云港功率器件MOS产品选型联系方式功率场效应晶体管（VF）又称VMOS场效应管。在实际应用中，它有着比晶体管和MOS场效应管更好的特性。

无锡商甲半导体有想公司的MOS管封装可按其在PCB板上的安装方式分为两大类：插入式和表面贴装式。插入式封装中，MOSFET的管脚会穿过PCB板的安装孔并与板上的焊点焊接，实现芯片与电路的连接。常见的插入式封装类型包括双列直插式封装（DIP）、晶体管外形封装（TO）以及插针网格阵列封装（PGA）等。

插入式封装插入式封装中，MOSFET的管脚通过PCB板的安装孔实现连接，常见的形式包括DIP、TO等。这种封装方式常见于传统设计，与表面贴装式相对。其以可靠性见长，并允许不同的安装方式，但因插入式封装需要在PCB板上钻孔，增加了制造成本。

表面贴装式封装在表面贴装技术中，MOSFET的管脚及散热法兰直接焊接在PCB板表面的特定焊盘上，从而实现了芯片与电路的紧密连接。这种封装形式包括D-PAK、SOT等，正成为主流，支持小型化和高散热性能。随着科技的进步，表面贴装式封装以其优势逐渐取代传统的插入式封装。

电力电子器件正沿着大功率化、高频化、集成化的方向发展。80年代晶闸管的电流容量已达6000安，阻断电压高达6500伏。但这类器件工作频率较低。提高其工作频率，取决于器件关断期间如何加快基区少数载流的复合速度和经门极抽取更多的载流子。降低少子寿命虽能有效地缩短关断电流的过程，却导致器件导通期正向压降的增加。因此必须兼顾转换速度和器件通态功率损耗的要求。80年代这类器件的比较高工作频率在 10千赫以下。双极型大功率晶体管可以在100千赫频率下工作，其控制电流容量已达数百安，阻断电压1千多伏,但维持通态比其他功率可控器件需要更大的基极驱动电流。由于存在热激发二次击穿现象，限制抗浪涌能力。进一步提高其工作频率仍然受到基区和集电区少子储存效应的影响。70年代中期发展起来的单极型MOS功率场效应晶体管， 由于不受少子储存效应的限制，能够在兆赫以上的频率下工作。这种器件的导通电流具有负温度特性，不易出现热激发二次击穿现象；需要扩大电流容量时，器件并联简单，具有线性输出特性和较小驱动功率；在制造工艺上便于大规模集成。但通态压降较大，制造时对材料和器件工艺的一致性要求较高。到80 年代中、后期电流容量*达数十安，阻断电压近千伏。MOS管封装技术也直接影响到芯片的性能和品质，对同样的芯片以不同形式的封装，也能提高芯片的性能。

功率MOSFET属于电压型控制器件。它依靠多数载流子工作,因而具有许多优点:能与集成电路直接相连；开关频率可在数兆赫以上（可达100MHz），比双极型功率晶体管(GTR)至少高10倍；导通电阻具有正温度系数,器件不易发生二次击穿,易于并联工作。与GTR相比，功率MOSFET的导通电阻较大，电流密度不易提高，在100kHz以下频率工作时,其功率损耗高于GTR。此外，由于导电沟道很窄（微米级）,单元尺寸精细，其制作也较GTR困难。在80年代中期,功率MOSFET的容量还不大（有100A/60V，75A/100V，5A/1000V等几种）。O-220/F 带散热片的塑料封装，支持外接散热，用于中等功率场景（如家电）。淮安功率器件MOS产品选型产品介绍

TO-252（DPAK） 表面贴装型，底部焊盘散热，安世LFPAK衍生技术（如汽车电子）。淮安功率器件MOS产品选型产品介绍

超结MOS的工艺原理在传统的高压MOSFET中，导通电阻随着器件耐压的增加呈现出立方关系增长，这意味着在高压下，器件的导通电阻非常高，影响效率。而超结MOS通过在漂移区内构建纵向的P型和N型层，使得电场在纵向方向上得到优化。这种结构可以在保持高耐压的同时，大幅降低导通电阻。具体的工艺流程可分为以下几个步骤：

1、掺杂与离子注入在超结MOS的漂移区，**重要的部分是形成交替的P型和N型掺杂区。这个过程需要精细的掺杂控制：

（1）离子注入通过离子注入工艺，分别在器件的漂移区进行P型和N型杂质的注入。离子注入的深度和浓度需要非常精确的控制，确保后续的超结结构能够均匀分布。

（2）多次掺杂与注入通常需要多次重复掺杂和注入过程，以在漂移区形成多个交替的P型和N型区域。 淮安功率器件MOS产品选型产品介绍

无锡商甲半导体有限公司为一家功率半导体设计公司，专业从事各类MOSFET、IGBT产品的研发、生产与销售。总部位于江苏省无锡市经开区，是无锡市太湖人才计划重点引进项目。公司目前已经与国内的8英寸、12英寸晶圆代工厂紧密合作，多平台产品实现量产，产品在开关特性、导通特性、鲁棒性、EMI等方面表现很好，得到多家客户的好评。

公司定位新型Fabless模式，在设计生产高性能产品基础上，提供个性化参数调控，量身定制，多方位为客户解决特殊方案的匹配难题。公司产品齐全，可广泛应用于工控、光伏、储能、家电、照明、5G通信、医疗、汽车等各行业多个领域，公司在功率器件主要业务领域已形成可观的竞争态势和市场地位。公司秉承：“致力于功率半导体的设计与营销，参与和传承功率半导体的发展”的愿景，坚持“质量至上、创新驱动”的发展策略，遵循“问题解决+产品交付+售后服务”的营销法则，努力将公司建设成一个具有国际竞争力的功率半导体器件供应商。