微纳代工质量好、效率高、价格低 苏州原位芯片提供硅基和非硅基微纳代工单步或多步整合工艺代工。 拥有接触式光刻（SUSS）、stepper光刻机、电子束光刻机、热氧化炉、离子注入机（注入B、P等）、LPCVD(多晶硅、低应力氮化硅等)、PECVD（SiO2、SiN、BPSG、非晶硅等）、磁控溅射(特殊...

微纳加工技术指尺度为亚毫米、微米和纳米量级元件以及由这些元件构成的部件或系统的优化设计、加工、组装、系统集成与应用技术，涉及领域广、多学科交叉融合，其**主要的发展方向是微纳器件与系统（MEMS和NEMS）。微纳器件与系统是在集成电路制作上发展的系列**技术，研制微型传感器、微型执行器等器件和系统，具...

微纳代工质量好、效率高、价格低 苏州原位芯片提供硅基和非硅基微纳代工单步或多步整合工艺代工。 拥有接触式光刻（SUSS）、stepper光刻机、电子束光刻机、热氧化炉、离子注入机（注入B、P等）、LPCVD(多晶硅、低应力氮化硅等)、PECVD（SiO2、SiN、BPSG、非晶硅等）、磁控溅射(特殊...

磁控溅射技术已经成为沉积耐磨、耐蚀、装饰、光学及其他各种功能薄膜的重要手段。探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的进步，说明利用新型的磁控溅射技术能够实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备、提高反应溅射沉积薄膜的质量等，并进一步取代电镀等传统表面处理技术。 磁控溅射是物***相沉积（Ph...

原位芯片掌握先进的光刻技术，为企业提供光刻代加工服务。电子束曝光技术简称“光刻”，是当前**常用的微纳加工方案，充当模板的是“光刻胶”。理论上光刻的精度可以达到1纳米，但是实际情况下很难，仪器轻微的振动、外界磁场的干扰、操作人员的经验都会影响**终结果。“目前电子束曝光的精度大约在60-80纳米左右，相...

溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常，利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴极靶由镀膜材料制成，基片作为阳极，真空室中通入0.1-10Pa的氩气或其它惰性气体，在阴极（靶）1-3KV直流负高压或13.56MHz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的...

电子束蒸发和磁控溅射制Al膜是半导体器件电极制备生产中常用的两种方法，通过理论与实验分析，并对样品进行了膜厚、附着力、致密性，电导率、折射率等指标的综合测试，实验表明：电子束蒸发制得的Al薄膜厚度的可控性和重复性较差及分散度较大铝薄膜与Si基片的附着力较小;铝薄膜的晶粒虽小，但很疏松，导致其致密性较...

为了解决阴极溅射的缺点，人们在20世纪70年***发出了直流磁控溅射技术，它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的弱点，因而获得了迅速发展和广泛应用。 其原理是：在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分...

磁控溅射还可以解决电子束蒸发带来的三个问题： ①台阶覆盖度。一般器件的图形尺寸为2--3μm或更小，要求在1μm左右高的台阶部位尽量能镀覆膜厚均匀的金属镀层。采用电子束蒸发和行星回旋式基片架机构组成的装置，难以得到十分理想的覆盖度。 ②合金膜的成分控制。随着圆形的微细化，为确保可靠性并提高成品率采用...

磁控溅射技术已经成为沉积耐磨、耐蚀、装饰、光学及其他各种功能薄膜的重要手段。探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的进步，说明利用新型的磁控溅射技术能够实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备、提高反应溅射沉积薄膜的质量等，并进一步取代电镀等传统表面处理技术。 磁控溅射是物***相沉积（Ph...

磁控溅射镀膜（MSP）是一种先进的表面装饰镀膜技术，膜材做成阴极圆柱磁控旋转靶置于镀膜室**，通入工作气体，在电压（直流或脉冲）作用下产生真空辉光放电，360℃方向辐射镀膜。靶材利用率高，工作温度低，可用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）工件镀制铝、铜、铬、镍、钛、金、银以及不锈钢等薄膜，通入反应...

原位芯片掌握先进的光刻技术，为企业提供光刻代加工服务。电子束曝光技术简称“光刻”，是当前**常用的微纳加工方案，充当模板的是“光刻胶”。理论上光刻的精度可以达到1纳米，但是实际情况下很难，仪器轻微的振动、外界磁场的干扰、操作人员的经验都会影响**终结果。“目前电子束曝光的精度大约在60-80纳米左右，相...

超短脉冲激光微细加工技术指的是利用超短脉冲激光对材料的显微加工、精密裁切以及微观改性。相对于传统的激光打标、激光焊接、激光切割等，超短脉冲激光精密微细加工还属于新兴的市场，在太阳能电池、LCD、医疗、精密加工、透明材料及微电子学等领域具有很好的应用前景。随着超短脉冲激光器件趋向更为成熟的工业应用，超...

微纳加工制造与测试技术作为我国从制造大国走向制造强国战略的重要前沿交叉关键技术，对制造工业、产业转型升级以及社会经济发展都具有重要意义，***高度重视先进传感器技术的研究。MEMS传感器研究要站在战略的高度，重点关注其颠覆性技术和关键**技术的突破；微纳制造技术是开展MEMS传感器研究的基础与保证，...

微纳加工制造与测试技术作为我国从制造大国走向制造强国战略的重要前沿交叉关键技术，对制造工业、产业转型升级以及社会经济发展都具有重要意义，***高度重视先进传感器技术的研究。MEMS传感器研究要站在战略的高度，重点关注其颠覆性技术和关键**技术的突破；微纳制造技术是开展MEMS传感器研究的基础与保证，...

微流控技术实际应用 　　从市场应用来看，目前还只是集中在生物、医药等领域，其他更多还处于科研探索阶段。 　　体外诊断(IVD) 　　从目前的应用来看，体外诊断是微流控技术的比较大应用场景。而体外诊断中，微流控技术的重点应用在于化学发光(免疫诊断)和分子诊断中。 　　作为IVD的细分，POCT是现场即...

微流控技术实际应用 　　从市场应用来看，目前还只是集中在生物、医药等领域，其他更多还处于科研探索阶段。 　　体外诊断(IVD) 　　从目前的应用来看，体外诊断是微流控技术的比较大应用场景。而体外诊断中，微流控技术的重点应用在于化学发光(免疫诊断)和分子诊断中。 　　作为IVD的细分，POCT是现场即...

微流控技术优势 　　生命分析技术不断发展，在新的时代背景下，又面临新挑战和发展机遇：要求在特别小的空间，特定的时间，特定的外界条件进行物质定性、定量、结构分析、形貌分析等工作。 　　而微流控技术的出现为生命分析面临的三大特殊挑战提供了有力的操控工具。微流控技术具有如下特点： 　　集成小型化与自动化 ...

光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分***，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Pr...

磁控溅射镀膜（MSP）是一种先进的表面装饰镀膜技术，膜材做成阴极圆柱磁控旋转靶置于镀膜室**，通入工作气体，在电压（直流或脉冲）作用下产生真空辉光放电，360℃方向辐射镀膜。靶材利用率高，工作温度低，可用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）工件镀制铝、铜、铬、镍、钛、金、银以及不锈钢等薄膜，通入反应...

微纳代工质量好、效率高、价格低 苏州原位芯片提供硅基和非硅基微纳代工单步或多步整合工艺代工。 拥有接触式光刻（SUSS）、stepper光刻机、电子束光刻机、热氧化炉、离子注入机（注入B、P等）、LPCVD(多晶硅、低应力氮化硅等)、PECVD（SiO2、SiN、BPSG、非晶硅等）、磁控溅射(特殊...

目前可以实现表面微纳结构的加工方法主要有以下几种。 （1）光刻技术，利用电子束或激光光束可以得到加工尺寸在几十纳米的微纳结构，该方法优势在于精度高，得到的微纳结构形状可以得到很好的控制； （2）飞秒激光加工技术，由于飞秒激光具有不受衍射极限限制的特点，可以加工出远小于光斑直径的尺寸，研究人员通过试验...

"在微纳加工世界，灰尘就是‘导弹’，头发丝就是‘火箭’，平时我们不在意的小细节都会对芯片的精度产生重大影响！”微纳加工平台算得上是世上**干净的实验室了，做微纳加工工艺的工程师们，在进入洁净室前，首先要在更衣室里更换净化服，还需佩戴头套、口罩和手套。再经过风淋间吹扫全身，并***除尘毯，方得进入洁净室。...

"在微纳加工世界，灰尘就是‘导弹’，头发丝就是‘火箭’，平时我们不在意的小细节都会对芯片的精度产生重大影响！”微纳加工平台算得上是世上**干净的实验室了，做微纳加工工艺的工程师们，在进入洁净室前，首先要在更衣室里更换净化服，还需佩戴头套、口罩和手套。再经过风淋间吹扫全身，并***除尘毯，方得进入洁净室。...

微流控周边学科/产业发展 　　微流控技术作为一门交叉性学科，其技术进步将带动多学科的共同发展： 　　物理学科：研究内容包括微纳尺度结构-流体相互作用；软物质物理；石油开采；晶体物理模拟；流体力学。 　　工程学：研究内容包括微纳加工、3D打印、4D材料、折叠技术、人工智能、智能控制。 　　仪器：微型化...

微纳代工质量好、效率高、价格低 苏州原位芯片提供硅基和非硅基微纳代工单步或多步整合工艺代工。 拥有接触式光刻（SUSS）、stepper光刻机、电子束光刻机、热氧化炉、离子注入机（注入B、P等）、LPCVD(多晶硅、低应力氮化硅等)、PECVD（SiO2、SiN、BPSG、非晶硅等）、磁控溅射(特殊...

PDMS器件 加工精度取决于模具的精度，原位芯片提供高精度模具如刻蚀硅，SU-8，刻蚀玻璃。 SU-8器件 胶厚范围在2-400um之间，胶厚和线宽比为1:1，精度误差小于10%。 硅流道器件 **小线宽在百纳米级别，流道陡直度高，线宽精度高，可控精度5%以内，流道比较大深宽比可达20:1。 玻...

微流控技术优势 　　生命分析技术不断发展，在新的时代背景下，又面临新挑战和发展机遇：要求在特别小的空间，特定的时间，特定的外界条件进行物质定性、定量、结构分析、形貌分析等工作。 　　而微流控技术的出现为生命分析面临的三大特殊挑战提供了有力的操控工具。微流控技术具有如下特点： 　　集成小型化与自动化 ...

目前可以实现表面微纳结构的加工方法主要有以下几种。 （1）光刻技术，利用电子束或激光光束可以得到加工尺寸在几十纳米的微纳结构，该方法优势在于精度高，得到的微纳结构形状可以得到很好的控制； （2）飞秒激光加工技术，由于飞秒激光具有不受衍射极限限制的特点，可以加工出远小于光斑直径的尺寸，研究人员通过试验...

微纳代工质量好、效率高、价格低 苏州原位芯片提供硅基和非硅基微纳代工单步或多步整合工艺代工。 拥有接触式光刻（SUSS）、stepper光刻机、电子束光刻机、热氧化炉、离子注入机（注入B、P等）、LPCVD(多晶硅、低应力氮化硅等)、PECVD（SiO2、SiN、BPSG、非晶硅等）、磁控溅射(特殊...