研究所针对电子束曝光在高频半导体器件互联线制备中的应用开展研究。高频器件对互联线的尺寸精度与表面粗糙度要求严苛,科研团队通过优化电子束曝光的扫描方式,减少线条边缘的锯齿效应,提升互联线的平整度。利用微...
电子束曝光设备的运行成本较高,团队通过优化曝光区域选择,对器件有效区域进行曝光,减少无效曝光面积,降低了单位器件的制备成本。同时,通过设备维护与参数优化,延长了关键部件的使用寿命,间接降低了设备运行成...
在电子束曝光与离子注入工艺的结合研究中,科研团队探索了高精度掺杂区域的制备技术。离子注入的掺杂区域需要与器件图形精确匹配,团队通过电子束曝光制备掩模图形,控制离子注入的区域与深度,研究不同掺杂浓度对器...
研究所针对电子束曝光在高频半导体器件互联线制备中的应用开展研究。高频器件对互联线的尺寸精度与表面粗糙度要求严苛,科研团队通过优化电子束曝光的扫描方式,减少线条边缘的锯齿效应,提升互联线的平整度。利用微...
电子束蒸发法是真空蒸发镀膜中一种常用的方法,是在高真空条件下利用电子束激发进行直接加热蒸发材料,是使蒸发材料由固体转变为气化并向衬底输运,在基底上凝结形成薄膜的方法。在电子束加热装置中,被加热的材料放...
围绕电子束曝光在第三代半导体功率器件栅极结构制备中的应用,科研团队开展了专项研究。功率器件的栅极尺寸与形状对其开关性能影响明显,团队通过电子束曝光制备不同线宽的栅极图形,研究尺寸变化对器件阈值电压与导...
目前认为溅射现象是弹性碰撞的直接结果,溅射完全是动能的交换过程。当正离子轰击阴极靶,入射离子撞击靶表面上的原子时,产生弹性碰撞,它直接将其动能传递给靶表面上的某个原子或分子,该表面原子获得动能再向靶内...
量子点显示技术借力电子束曝光突破色彩转换瓶颈。在InGaN蓝光晶圆表面构建光学校准微腔,精细调控量子点受激辐射波长。多层抗蚀剂工艺形成倒金字塔反射结构,使红绿量子点光转化效率突破95%。色彩一致性控制...
电子束曝光解决微型燃料电池质子传导效率难题。石墨烯质子交换膜表面设计螺旋微肋条通道,降低质传阻力同时增强水管理能力。纳米锥阵列催化剂载体使铂原子利用率达80%,较商业产品提升5倍。在5cm²微型电堆中...
真空镀膜技术属于表面处理技术的一类,应用非常广。主要应用有一下几类:光学膜:用于CCD、CMOS中的各种滤波片,高反镜。功能膜:用于制造电阻、电容,半导体薄膜,刀具镀膜,车灯,车灯罩,激光,太阳能等。...
反应溅射是在溅射镀膜中,引入某些活性反应气体与溅射成不同于靶材的化合物薄膜。反应气体有O2、N2、CH4等。反应溅射的靶材可以是纯金属,也可以是化合物,反应溅射也可采用磁控溅射。如氮化铝薄膜可以采用磁...
电子束曝光解决微型燃料电池质子传导效率难题。石墨烯质子交换膜表面设计螺旋微肋条通道,降低质传阻力同时增强水管理能力。纳米锥阵列催化剂载体使铂原子利用率达80%,较商业产品提升5倍。在5cm²微型电堆中...