在半导体高级制造领域，腔体洁净度直接决定器件良率与可靠性，薄膜吸气剂凭借无颗粒脱落、很低出气率、化学稳定性强的特性，成为超高洁净度真空腔体的“清洁卫士”，彻底杜绝传统吸气剂颗粒污染、杂质释放的行业难题。产品采用磁控溅射工艺制备，薄膜结构致密均匀，无疏松孔隙与粉末颗粒，在活化、工作及振动环境下无颗粒脱落，避免颗粒污染导致的器件短路、性能失效等问题，尤其适配红外探测器、光学传感器等对洁净度要求极高的器件。同时，薄膜吸气剂本身出气率极低，原材料采用以上高纯度锆钛合金，严格控制氧、碳、氮等杂质元素含量，制备过程全程真空环境，确保产品自身不释放任何杂质气体，从源头保障腔体超高洁净度。区别于传统蒸散型吸气剂需释放钡蒸汽等活性物质，薄膜吸气剂为非蒸散型设计，活化过程*触发表面吸气活性，无任何物质释放，不污染腔体内部环境，完美契合半导体制造“超净、高纯”的重要要求，助力客户提升器件良率、降低不良率、增强产品市场竞争力。 医用吸气剂助力医疗设备维持稳定内部环境。医用超声设备吸气剂
钛锆钒合金体系是当前性能比较好的薄膜吸气剂材料组合，兼具低活化温度、大吸气容量与高吸附速率优势。该三元合金通过精细配比调控，将活化温度降至200℃以下，解决了传统锆基、钛基材料活化温度过高的工艺痛点。磁控溅射制备的Ti-Zr-V薄膜呈现纳米晶柱状结构，晶界丰富，比表面积大，气体扩散通道通畅，室温下即可快速吸附多种杂质气体。在非制冷红外探测器封装中，薄膜吸气剂可有效维持探测器微桥结构的热隔离环境，避免水汽凝结与气体导热干扰，提升红外成像清晰度与响应速度。同时，该材料化学稳定性强，在高低温循环、振动冲击环境下不易失效，膜层不易开裂脱落，适配航空航天、安防监控、车载红外等恶劣工况。医用超声设备吸气剂医用吸气剂可满足医疗设备小批量定制需求。
薄膜吸气剂具备极强的基底兼容性与场景适配性，可沉积在不锈钢、可伐合金、硅晶圆、陶瓷、玻璃等多种材质基底表面，适配不同封装形式与应用场景，为客户提供“一站式定制化真空解决方案”。针对不同基底材料，我们优化镀膜工艺与底层附着力增强技术，确保薄膜与基底之间结合强度高、附着力强，在温度循环、振动冲击等极端环境下不脱落、不翘边、不开裂，适应-55℃至150℃的宽温工作环境。产品按基底类型分为晶圆级镀膜、盖板级镀膜、外壳内壁镀膜三大系列，可根据客户器件结构、封装工艺、真空需求定制尺寸、形状、膜厚及吸气性能，无论是MEMS惯性器件的小型方形片材，还是红外探测器的圆形盖板镀膜，均可精细匹配。同时，针对不同应用场景的气体成分差异，我们提供B100（300℃活化，适配高氢环境）、B200（180℃活化，适配低温封装）、B300（350℃活化，适配高湿环境）三大专业型号，精细解决不同场景的真空维护难题。
我们拥有一支由材料学、真空技术、半导体工艺等领域组成的专业研发团队，成员均具备10年以上薄膜吸气剂及相关领域研发经验，深耕材料配方、镀膜工艺、活化技术、应用方案四大方向，持续技术创新，紧跟行业技术发展潮流。研发团队聚焦行业痛点与客户需求，自主研发锆钛稀土多元合金薄膜吸气剂、低温活化薄膜吸气剂、高附着力薄膜吸气剂等多款创新产品，累计申请国家发明专利20余项，其中5项专利技术达到国际水平，填补国内多项技术空白。在材料配方创新方面，突破传统二元合金局限，研发三元、四元稀土合金体系，明显提升吸气容量、降低活化温度、增强抗污染能力，适配更多极端应用场景。在镀膜工艺创新方面，开发高均匀性、高附着力磁控溅射技术，解决大尺寸薄膜均匀性差、小尺寸薄膜附着力弱的行业难题，产品适配晶圆级、盖板级等多种镀膜需求。在应用方案创新方面，针对MEMS、红外、航空航天等不同领域，定制**薄膜吸气剂型号与封装方案，助力客户解决实际应用中的真空难题。同时，研发团队与国内多所高校、科研院所建立产学研合作机制，共享技术资源、联合攻关，持续推出高性能、高可靠、高适配的创新产品，为客户提供前沿、专业、定制化的真空解决方案。 栢林电子守合同重信用，医用吸气剂供货稳定。
本产品为Ti-Zr-V体系的薄膜吸气剂，通过PVD技术将吸气薄膜沉积在基底材料上，我们可根据您的需求定制不同材质基底、厚度和形状。本品用于吸收真空器件腔体中的气体，具有活化温度低、吸气速率高、无粉化、活化过程与封装工艺兼容的优点。应用范围：本产品可应用于射频设备、非制冷红外传感器、MEMS器件、光学器件等场景，可持续吸收腔体工作后放出的CO、CH4、O2、H2、水蒸气等气体，可长期保持器件处于高真空状态，延长器件使用寿命，提高稳定性。产品尺寸：可定制不同尺寸的吸气剂，平面尺寸公差±0.03mm；薄膜厚度可根据客户需求做到1.5-10μm。使用条件：在真空中进行加热，温度在150℃-400℃范围，激发温度受薄膜厚度、基体材料以及具体应用环境影响，薄膜在150℃下加热后开始发生明显活化，随着温度升高，活化程度进一步增高，在400℃下保持30min可以完全活化。产品在真空中加热时，随着温度的升高，吸气能力逐渐加强。完全活化后吸气速率：9.00-38.00（Pa·L/cm2）。产品经比较好温度加热30min，冷却后仍具有吸气能力。对于不同的气体，其吸收速度和容量不一样。冷却后产品是否具有残留的吸气能力，取决于其已经吸收气体的体积和其吸气容量20 人机加团队，负责医用吸气剂精密加工工序。医用超声设备吸气剂
医用吸气剂依托公司贵金属合金研发技术打造。医用超声设备吸气剂
薄膜吸气剂的重点技术优势，集中体现在低温活化工艺的突破性创新，完美适配半导体先进封装的严苛温度要求，彻底解决传统吸气剂高温活化（400℃以上）导致的器件热损伤、材料兼容性差等行业痛点。我们研发的锆钛合金薄膜吸气剂，形成B100、B200、B300三大主流型号，活化温度覆盖180℃-350℃区间，其中B200型号比较低活化温度*180℃，可与MEMS封装、晶圆级封装（WLP）等主流工艺无缝兼容，无需额外调整封装流程，大幅降低客户工艺改造成本与技术风险。低温活化过程无需高温加热设备，*需局部温和加热即可触发吸气活性，活化后冷却至室温仍能保持高效吸气能力，且可实现多次反复活化，适配器件全生命周期的真空维护需求。同时，低温活化有效避免了高温环境对器件内部敏感元件（如热敏电阻、精密电路）的热冲击，保障器件封装后的性能稳定性与良率提升，尤其适合非制冷红外探测器、微陀螺仪等对温度高度敏感的器件，成为先进封装时代的推荐真空解决方案。 医用超声设备吸气剂
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