无锡商甲半导体提供专业选型服务 封装选择关键因素 功率需求高功率(>100W):TO-247、TO-220、D2PAK。 中低功率(<100W):DPAK、SO-8、QFN。 **功率(信号级):SOT-23、SC-70。 散热条件 需要强制散热或大面积PCB...
电力电子器件正沿着大功率化、高频化、集成化的方向发展。80年代晶闸管的电流容量已达6000安,阻断电压高达6500伏。但这类器件工作频率较低。提高其工作频率,取决于器件关断期间如何加快基区少数载流的复合速度和经门极抽取更多的载流子。降低少子寿命虽能有效地缩短关断电流的过程,却导致器件导通期正向压降的增加。因此必须兼顾转换速度和器件通态功率损耗的要求。80年代这类器件的比较高工作频率在 10千赫以下。双极型大功率晶体管可以在100千赫频率下工作,其控制电流容量已达数百安,阻断电压1千多伏,但维持通态比其他功率可控器件需要更大的基极驱动电流。由于存在热激发二次击穿现象,限制抗浪涌能力。进一步提高其工作频率仍然受到基区和集电区少子储存效应的影响。70年代中期发展起来的单极型MOS功率场效应晶体管, 由于不受少子储存效应的限制,能够在兆赫以上的频率下工作。这种器件的导通电流具有负温度特性,不易出现热激发二次击穿现象;需要扩大电流容量时,器件并联简单,具有线性输出特性和较小驱动功率;在制造工艺上便于大规模集成。但通态压降较大,制造时对材料和器件工艺的一致性要求较高。到80 年代中、后期电流容量*达数十安,阻断电压近千伏。随着科技的不断进步,功率半导体器件也在持续演进。南京12V至300V N MOSFET功率器件MOS产品选型哪家公司好
无锡商甲半导体提供专业选型
功率MOS管的关键参数
***比较大额定值
***比较大额定值是功率MOS管不应超过的允许限制,即使是一瞬间也不行。这些值包括漏源电压、栅极电压、漏极电流等。了解这些额定值对于确保功率MOS管在正常工作范围内运行至关重要。超过这些值可能会导致器件损坏,降低系统的可靠性。
漏源击穿电压(V(BR)DSS)
漏源击穿电压是漏极和源极之间的击穿电压,决定了器件能够承受的最大电压。选择较高的击穿电压可以提高器件的安全性,但会增加导通电阻。漏源击穿电压的选择需要在安全性和效率之间进行权衡。较高的击穿电压可以提供更高的安全性,但会增加功率损耗。
栅极阈值电压(VGS(TH))
栅极阈值电压是使功率MOS管开启且漏极电流开始流动时栅极和源极之间的电压。选择合适的阈值电压可以确保器件在不同的工作电压下正常工作。栅极阈值电压的选择直接影响功率MOS管的开关特性。较低的阈值电压可以使器件在低电压下快速开启,但可能会增加噪声和功耗。
漏源导通电阻(RDS(ON))
漏源导通电阻是漏极电流流动时漏极和源极之间的电阻。低导通电阻可以减小功率损耗,提高效率。漏源导通电阻是影响功率MOS管能效的关键参数。 广州便携式储能功率器件MOS产品选型批发价DFN(Dual Flat Non-leaded) 无引脚扁平封装,引脚从底部引出,寄生电感低于QFN(如笔记本电脑电源)。
关于选择功率mosfet管的步骤:
1、找出应用的所有参数,例如最大电压、最大电流和工作温度。
2、找出电路的总负载。
3、计算 MOSFET 所需的峰值电流和峰值负载。
4、找出系统的效率。
5、计算有损耗的负载。
6、增加安全系数(视操作温度而定)。
7、检查设备是否将作为双向设备运行。
关于MOSFET管的选型参数,这里只是简单的带过一下,如果想要了解更为详细的参数,欢迎联系我们无锡商甲半导体有限公司,有专业人员为您提供专业选型服务及送样。
平面结构晶体管的缺点是如果提高额定电压,漂移层会变厚,因此导通电阻会增加。MOSFET的额定电压取决于垂直方向的漂移区的宽度和掺杂参数。为了提高额定电压等级,通常增加漂移区的宽度同时降低掺杂的浓度,但会造成MOSFET的导通电阻大幅增加。同时,也是为了克服平面MOSFET的局限性,超结MOSFET应运而生。超结MOSFET利用了一种创新的结构设计,明显降低了导通电阻,同时维持了高击穿电压。那么,接下来要重点讨论超结MOSFET(super junction mosfet)。
超结MOS(Super Junction Metal-Oxide-Semiconductor,简称SJ-MOS)是电力电子领域中广泛应用的一类功率器件,其主要特征是在传统MOSFET基础上引入了超结结构,使其在高电压、大电流条件下具备更优越的性能。超结MOS器件相较于传统的MOSFET有着更低的导通电阻和更高的耐压性能,广泛应用于高效能电力转换领域,如开关电源、逆变器、电动汽车、光伏发电等。 TO-252(DPAK) 表面贴装型,底部焊盘散热,安世LFPAK衍生技术(如汽车电子)。
SGT MOS结构优势电场优化与高耐压:
屏蔽栅的电场屏蔽作用:屏蔽栅将漏极的高电场从控制栅下方转移至沟槽侧壁,避免栅氧化层因电场集中而击穿。横向电场均匀化:通过电荷平衡技术(类似超结原理),漂移区的电场分布从传统结构的“三角形”变为“矩形”,***提升击穿电压(BV)。
BV提升实例:在相同外延层参数下,SGT的BV比传统沟槽MOS提高15%-25%(例如原设计100V的器件可达120V)。低导通电阻(Rds(on)):垂直电流路径:消除平面MOS中的JFET效应,漂移区电阻(Rdrift)降低40%-60%。短沟道设计:分栅结构允许更短的沟道长度(可至0.1μm以下),沟道电阻(Rch)降低30%-50%。 汽车电子:电动汽车电驱系统、车载充电模块(OBC)、DC-DC转换器;广州定制功率器件MOS产品选型联系方式
功率器件几乎用于所有的电子制造业。南京12V至300V N MOSFET功率器件MOS产品选型哪家公司好
电力二极管:结构和原理简单,工作可靠;
晶闸管:承受电压和电流容量在所有器件中比较高
IGBT:开关速度高,开关损耗小,具有耐脉冲电流冲击的能力,通态压降较低,输入阻抗高,为电压驱动,驱动功率小;缺点:开关速度低于电力MOSFET,电压,电流容量不及GTO
GTR:耐压高,电流大,开关特性好,通流能力强,饱和压降低;缺点:开关速度低,为电流驱动,所需驱动功率大,驱动电路复杂,存在二次击穿问题
GTO:电压、电流容量大,适用于大功率场合,具有电导调制效应,其通流能力很强;缺点:电流关断增益很小,关断时门极负脉冲电流大,开关速度低,驱动功率大,驱动电路复杂,开关频率低
电力MOSFET:开关速度快,输入阻抗高,热稳定性好,所需驱动功率小且驱动电路简单,工作频率高,不存在二次击穿问题;缺点:电流容量小,耐压低,一般只适用于功率不超过10kW的电力电子装置。
制约因素:耐压,电流容量,开关的速度 。 南京12V至300V N MOSFET功率器件MOS产品选型哪家公司好
公司介绍
无锡商甲半导体是一家功率芯片设计公司,团队具有18年以上研发、销售及运营经验,专业从事各类高性能MOSFET、IGBT、SIC、Gan产品的研发、生产与销售。专注提供高性价比的元器件供应与定制服务,满足企业研发需求。
产品供应品类:专业从事各类高性能MOSFET、IGBT、SIC、Gan产品的研发、生产与销售。
支持样品定制与小批量试产,让“品质优先”贯穿从研发到交付的每一环。
公司秉承:“致力于功率半导体的设计与营销,参与和传承功率半导体的发展”的愿景,坚持“质量至上、创新驱动”的发展策略,遵循“问题解决+产品交付+售后服务”的营销法则,努力将公司建设成一个具有国际竞争力的功率半导体器件供应商。
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