深圳无刷直流电机功率器件MOS产品选型产品介绍

SGT MOS结构优势电场优化与高耐压：

屏蔽栅的电场屏蔽作用：屏蔽栅将漏极的高电场从控制栅下方转移至沟槽侧壁，避免栅氧化层因电场集中而击穿。横向电场均匀化：通过电荷平衡技术（类似超结原理），漂移区的电场分布从传统结构的“三角形”变为“矩形”，***提升击穿电压（BV）。

BV提升实例：在相同外延层参数下，SGT的BV比传统沟槽MOS提高15%-25%（例如原设计100V的器件可达120V）。低导通电阻（Rds(on)）：垂直电流路径：消除平面MOS中的JFET效应，漂移区电阻（Rdrift）降低40%-60%。短沟道设计：分栅结构允许更短的沟道长度（可至0.1μm以下），沟道电阻（Rch）降低30%-50%。 对于高功率场景，优先考虑散热能力强的TO系列或D2PAK；深圳无刷直流电机功率器件MOS产品选型产品介绍

MOSFET的原理

MOSFET的原意是：MOS（MetalOxideSemiconductor金属氧化物半导体），FET（FieldEffectTransistor场效应晶体管），即以金属层（M）的栅极隔着氧化层（O）利用电场的效应来控制半导体（S）的场效应晶体管。

功率场效应晶体管也分为结型和绝缘栅型,但通常主要指绝缘栅型中的MOS型（MetalOxideSemiconductorFET）,简称功率MOSFET（PowerMOSFET）。结型功率场效应晶体管一般称作静电感应晶体管（StaticInductionTransistor——SIT）。其特点是用栅极电压来控制漏极电流，驱动电路简单，需要的驱动功率小，开关速度快，工作频率高，热稳定性优于GTR，但其电流容量小，耐压低，一般只适用于功率不超过10kW的电力电子装置。 佛山12V至200V P MOSFET功率器件MOS产品选型技术指导功率器件几乎用于所有的电子制造业。

功率场效应晶体管及其特性一、 功率场效应晶体管是电压控制器件，在功率场效应晶体管中较多采用的是V沟槽工艺，这种工艺生产地管称为VMOS场效应晶体管，它的栅极做成V型，有沟道短、耐压能力强、跨导线性好、开关速度快等优点，故在功率应用领域有着广泛的应用，出现一种更好的叫TMOS管，它是在VMOS管基础上改进而成的，没有V形槽，只形成了很短的导通沟槽。二、 功率场效应晶体管的基本参数及符号1.极限参数和符号（1） 漏源极间短路时，栅漏极间的耐压VGDS（2） 漏源极间开路时，栅漏极间的耐压VGSO（3） 栅源极在规定的偏压下，漏源极间耐压VDSX（4） 击穿电压BVDS（5） 栅极电流IG（6） 比较大漏电极耗散功率PD（7） 沟道温度TGH，存储温度TSTG2.电气特性参数和符号（1） 栅极漏电电流IGSS（2） 漏极电流IDSS（3） 夹断电压VP（4） 栅源极门槛极电压VGS（th）（5） 导通时的漏极电流ID（on）（6） 输入电容Ciss（7） 反向传输电容Crss（8） 导通时的漏源极间电阻RDS（on）（9） 导通延时时间td（on）（10）上升时间tr（11）截止延时时间td（off）（12）下降时间tf这些参数反映了功率场效应晶体管在开关工作状态下的瞬间响应特性，在功率场效应晶体管用于电机控制等用途时特别有用。

MOSFET管封装概述

在完成MOS管芯片的制作后，为保护芯片并确保其稳定工作，需要为其加上一个封装外壳。这一过程即为MOS管封装，它不仅提供支撑和保护，还能有效冷却芯片，同时为电气连接和隔离创造条件，从而构成完整的电路。值得注意的是，不同的封装设计和规格尺寸会影响MOS管的电性参数及其在电路中的应用。封装的选择也是电路设计中不可或缺的一环。

无锡商甲半导体提供个性化参数调控，量身定制，***为客户解决匹配难题。选对封装让设计事半功倍。 功率器件是电力电子领域的重要组件，处理高压大电流，广泛应用于新能源、汽车电子和工业控制。

超结MOS的特点:

1、低导通电阻通过在纵向结构中引入多个P型和N型层的超结设计，极大地降低了功率器件的导通电阻，在高电压应用中尤为明显。

2、高耐压性传统MOSFET在提高耐压的同时会增加导通电阻，而超结结构通过优化电场分布，使其在保持高耐压的同时仍能保持较低的导通电阻。

3、高效率超结MOS具有较快的开关速度和低损耗特性，适用于高频率、高效率的电力转换应用。

4、较低的功耗由于导通电阻和开关损耗的降低，超结MOS在工作时的能量损耗也明显减少，有助于提高系统的整体能效。 它属于金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）的一种，具有驱动电路简单、开关速度快、工作频率高等特点。台州PD 快充功率器件MOS产品选型技术

常用功率MOS 管 无锡商甲半导体 交货快 品质好.深圳无刷直流电机功率器件MOS产品选型产品介绍

超结MOS的工艺原理在传统的高压MOSFET中，导通电阻随着器件耐压的增加呈现出立方关系增长，这意味着在高压下，器件的导通电阻非常高，影响效率。而超结MOS通过在漂移区内构建纵向的P型和N型层，使得电场在纵向方向上得到优化。这种结构可以在保持高耐压的同时，大幅降低导通电阻。具体的工艺流程可分为以下几个步骤：

1、掺杂与离子注入在超结MOS的漂移区，**重要的部分是形成交替的P型和N型掺杂区。这个过程需要精细的掺杂控制：

（1）离子注入通过离子注入工艺，分别在器件的漂移区进行P型和N型杂质的注入。离子注入的深度和浓度需要非常精确的控制，确保后续的超结结构能够均匀分布。

（2）多次掺杂与注入通常需要多次重复掺杂和注入过程，以在漂移区形成多个交替的P型和N型区域。 深圳无刷直流电机功率器件MOS产品选型产品介绍