光刻系统基本参数
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光刻系统企业商机

世界三 大光刻机 生产商ASML,Nikon和Cannon的*** 代 浸 没 式 光 刻 机 样 机 都 是 在 原 有193nm干式光刻机的基础上改进研制而成,**降低了研发成本和风险。因为浸没式光刻系统的原理清晰而且配合现有的光刻技术变动不大,目前193nm ArF准分子激光光刻技术在65nm以下节点半导体量产中已经广泛应用;ArF浸没式光刻 技 术 在45nm节 点 上 是 大 生 产 的 主 流 技 术。为把193i技术进一步推进到32和22nm的技术节点上,光刻**一直在寻找新的技术,在没有更好的新光刻技术出现前,两次曝光技术(或者叫两次成型技术,DPT)成为人们关 注 的 热 点。ArF浸没式两次曝光技术已被业界认为是32nm节点相当有竞争力的技术;在更低的22nm节点甚至16nm节点技术中,浸没式 光刻技术也 具 有相当大 的优势。但是同时引入了衍射效应,降低了分辨率。1970后适用,但是其最大分辨率为2~4μm。南通供应光刻系统按需定制

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极紫外光刻(Extreme Ultra-violet),常称作EUV光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的紫外线。极紫外线就是指需要通过通电激发紫外线管的K极然后放射出紫外线。极紫外光刻(英语:Extreme ultra-violet,也称EUV或EUVL)是一种使用极紫外(EUV)波长的下一代光刻技术,其波长为13.5纳米,预计将于2020年得到广泛应用。几乎所有的光学材料对13.5nm波长的极紫外光都有很强的吸收,因此,EUV光刻机的光学系统只有使用反光镜 [1]。极紫外光刻的实际应用比原先估计的将近晚了10多年。 [2]南通供应光刻系统推荐货源是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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对准对准方法:a、预对准,通过硅片上的notch或者flat进行激光自动对准;b、通过对准标志(Align Mark),位于切割槽(Scribe Line)上。另外层间对准,即套刻精度(Overlay),保证图形与硅片上已经存在的图形之间的对准。曝光曝光中**重要的两个参数是:曝光能量(Energy)和焦距(Focus)。如果能量和焦距调整不好,就不能得到要求的分辨率和大小的图形。表现为图形的关键尺寸超出要求的范围。曝光方法:a、接触式曝光(Contact Printing)。掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当,设备简单。缺点:光刻胶污染掩膜板;掩膜板的磨损,寿命很低(只能使用5~25次);1970前使用,分辨率〉0.5μm。

在曝光过程中,需要对不同的参数和可能缺陷进行跟踪和控制,会用到检测控制芯片/控片(Monitor Chip)。根据不同的检测控制对象,可以分为以下几种:a、颗粒控片(Particle MC):用于芯片上微小颗粒的监控,使用前其颗粒数应小于10颗;b、卡盘颗粒控片(Chuck Particle MC):测试光刻机上的卡盘平坦度的**芯片,其平坦度要求非常高;c、焦距控片(Focus MC):作为光刻机监控焦距监控;d、关键尺寸控片(Critical Dimension MC):用于光刻区关键尺寸稳定性的监控;曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当,设备简单。

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2024年9月工信部发布的技术指标显示,国产浸没式光刻机已实现:1.套刻精度≤8nm [1]2.满足28nm制程需求 [1]3.具备多重曝光技术适配能力研发过程中需突破:超纯水循环系统的纳米级污染控制高速扫描下的液体湍流抑制光路折射率稳定性维持林本坚团队在浸液系统上的突破 [1]。目前国产ArF浸没式光刻机:可实现套刻精度≤8nm在28nm节点具备商业化应用价值与ASML的TWINSCAN NXT系列相比,平均套刻精度相差约3nm [1]2024年ASML对中国出口浸没式DUV光刻机的限制政策加速了国产设备信息公开进程 [1]。国产设备的参数披露被认为是对国际技术封锁的实质性回应。光刻胶厚度控片(PhotoResist Thickness MC):光刻胶厚度测量;南通供应光刻系统推荐货源

表现为图形的关键尺寸超出要求的范围。南通供应光刻系统按需定制

光刻系统SUSS是一种应用于半导体制造领域的工艺试验仪器,其比较大基片尺寸为6英寸,可实现0.5μm的分辨率和1μm的**小线宽 [1]。该系统通过精密光学曝光技术完成微电子器件的图形转移,为集成电路研发和生产提供关键工艺支持。比较大基片处理能力:支持直径6英寸的基片加工(截至2021年1月) [1]图形分辨率:系统的光学成像系统可实现0.5μm的分辨率 [1]线宽控制:在标准工艺条件下能够稳定实现1μm的**小线宽加工 [1]该系统采用接触式/接近式曝光原理,通过紫外光源实现掩模图形向基片光刻胶的精确转移。其精密对准机构可保证多次曝光时的套刻精度,适用于半导体器件研发阶段的工艺验证和小批量试制。南通供应光刻系统按需定制

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