DBC基板由陶瓷层与铜箔组成,在电子领域应用较广,清洗时需避免损伤陶瓷层。通常而言,30-50kHz频率范围相对安全。这一区间内,空化效应产生的气泡大小与冲击力适中。当超声波频率为30kHz时,能有效去除DBC基板表面的污染物,同时不会对陶瓷层造成过度冲击。有实验表明,在此频率下清洗氮化铝(AIN)、氧化铝(Al₂O₃)等常见陶瓷材质的DBC基板,清洗效果良好,且未出现陶瓷层开裂、剥落等损伤现象。若频率低于30kHz,空化气泡破裂产生的冲击力过大,可能震裂陶瓷层;高于50kHz时,虽空化效应减弱,但清洗力也随之降低,难以彻底去除顽固污渍。所以,使用超声波工艺清洗DBC基板,将频率控制在30-50kHz,可在保证清洗效果的同时,很大程度保护陶瓷层不受损伤。定期回访客户,根据反馈优化产品,持续提升客户满意度。江西分立器件功率电子清洗剂常见问题
功率电子清洗剂的离子残留量超过 1μg/cm² 会明显影响模块的绝缘耐压性能。残留离子(如 Na⁺、Cl⁻、SO₄²⁻等)具有导电性,在模块工作时会形成离子迁移通道,尤其在高湿度环境(相对湿度 > 60%)或温度波动(-40~125℃)下,离子会随水汽扩散,降低绝缘层表面电阻(从 10¹²Ω 降至 10⁸Ω 以下)。当残留量达 1μg/cm² 时,模块爬电距离间的泄漏电流增加 5-10 倍,在 1kV 耐压测试中易出现局部放电(放电量 > 10pC);若超过 3μg/cm²,长期工作后可能引发沿面闪络,绝缘耐压值下降 20%-30%(如从 4kV 降至 2.8kV 以下)。此外,离子残留会加速电化学反应,导致金属化层腐蚀(如铜迁移),进一步破坏绝缘结构。对于高频功率模块(如 IGBT、SiC 模块),离子残留还会增加介损(tanδ 从 0.001 升至 0.01 以上),引发局部过热。因此,行业通常要求清洗剂离子残留量≤0.1μg/cm²,超过 1μg/cm² 时必须返工清洗,否则将明显降低模块绝缘可靠性和使用寿命。江苏环保功率电子清洗剂供应可搭配超声波辅助清洁,加速污垢分解,提升清洗效率。
清洗剂中的缓蚀剂是否与功率模块的银烧结层发生化学反应,主要取决于缓蚀剂的化学类型。银烧结层由金属银(Ag)构成,银在常温下化学稳定性较高,但与含硫、含氯的缓蚀剂可能发生反应:含硫缓蚀剂(如硫脲、巯基苯并噻唑)中的硫离子(S²⁻)或巯基(-SH)会与银反应生成硫化银(Ag₂S),这是一种黑色脆性物质,会降低烧结层的导电性(电阻升高 30%-50%)并破坏结构完整性;含氯缓蚀剂(如有机氯代物)则可能生成氯化银(AgCl),虽溶解度低,但长期积累会导致接触电阻增大。而多数常用缓蚀剂(如苯并三氮唑 BTA、硅酸盐、有机胺类)与银的反应性极低:BTA 主要与铜、铝结合,对银无明显作用;硅酸盐通过形成保护膜起效,不与银反应;有机胺类为碱性,银在碱性环境中稳定,无化学反应。实际应用中,电子清洗剂多选用无硫、无氯缓蚀剂,因此对银烧结层的化学反应风险极低,只需避免含硫 / 氯成分的缓蚀剂即可。编辑分享
清洗 IGBT 模块的铜基层出现彩虹纹,可能是清洗剂酸性过强导致,但并非只是这个原因。酸性过强时,铜表面会发生局部腐蚀,形成氧化亚铜(Cu₂O)或氧化铜(CuO)薄膜,不同厚度的氧化层对光的干涉作用会呈现彩虹色纹路,尤其当 pH 值低于 4 时,氢离子浓度过高易引发此类现象。但其他因素也可能导致该问题:如清洗剂含过量氧化剂(如过硫酸盐),会加速铜的氧化;清洗后干燥不彻底,残留水分与铜表面反应形成氧化膜;或清洗剂中缓蚀剂失效,无法抑制铜的电化学腐蚀。此外,若清洗剂为碱性但含螯合剂(如 EDTA),可能溶解部分氧化层,导致表面粗糙度不均,光线反射差异形成类似纹路。判断是否为酸性过强,可检测清洗剂 pH 值(酸性条件下 pH<7),并观察纹路是否随清洗时间延长而加深,同时结合铜表面是否有局部溶解痕迹(如微小凹坑)综合判断。低泡设计,易于漂洗,避免残留,为客户带来便捷的清洗体验。
清洗剂对铜引线框架氧化层的去除效率,取决于其成分与氧化层性质。铜氧化层分两层:外层疏松的 CuO 和内层致密的 Cu₂O,酸性清洗剂(如含柠檬酸、氨基磺酸)可快速溶解氧化层,去除效率达 90% 以上,但过度使用会腐蚀基体;中性清洗剂通过螯合与剥离作用去除氧化层,效率约 70%-80%,对基体损伤小。去除后需即时防锈处理:一是采用苯并三氮唑(BTA)或甲基苯并三氮唑(TTA)溶液钝化,形成保护膜,防锈期可达 1-3 个月;二是通过热风烘干(60-80℃)后喷涂薄层防锈油,适用于长期存储;三是惰性气体(如氮气)保护下进行后续工序,避免二次氧化。实际应用中,需平衡去除效率与防锈效果,确保引线框架导电性与焊接性能不受影响。独特的乳化配方,使油污快速乳化脱离模块表面。中性功率电子清洗剂哪里有卖的
创新温和配方,对 LED 芯片无损伤,安全可靠,质量有保障。江西分立器件功率电子清洗剂常见问题
功率电子清洗剂清洗氮化镓(GaN)器件后,是否影响栅极阈值电压,取决于清洗剂成分与清洗工艺。氮化镓器件的栅极结构脆弱,尤其是铝镓氮(AlGaN)势垒层易受化学物质侵蚀。若清洗剂含强酸、强碱或卤素离子,可能破坏栅极绝缘层或引入电荷陷阱,导致阈值电压漂移。中性清洗剂(pH 6.5-7.5)且不含腐蚀性离子(如 Cl⁻、F⁻)时,对栅极影响极小,其配方中的表面活性剂与缓蚀剂可在去除污染物的同时保护敏感结构。此外,清洗后若残留清洗剂成分,可能形成界面电荷层,干扰栅极电场,因此需确保彻底干燥(如真空烘干)。质量功率电子清洗剂通过严格兼容性测试,能有效去除助焊剂、颗粒污染,且对氮化镓器件的栅极阈值电压影响控制在 ±0.1V 以内,满足工业级可靠性要求。江西分立器件功率电子清洗剂常见问题