关于集成电路的想法的前身是制造小陶瓷正方形(晶片),每个正方形包含一个小型化的组件。然后,组件可以集成并连线到二维或三维紧凑网格中。这个想法在 1957 年似乎很有希望,是由杰克·基尔比向美国陆军提出的,并导致了短命的小模块计划(类似于 1951 年的 Tinkertoy 项目)。[8][9][10]然而,随着项目势头越来越猛,基尔比... 【查看详情】
大多数半导体使用单晶硅,但使用的其他材料包括锗、砷化镓(GaAs)、砷化镓、氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)。半导体材料的导电率是由晶体结构中引起自由电子过剩和缺乏的杂质决定的,一般是通过多数载流子(N型半导体中的电子,P型半导体中的空穴)来负责的,但是,各种半导体,例如晶体管为了在器件中工作,需要少数载流子(N型半导体中的空穴和P型半... 【查看详情】
晶体三极管主要用于放大电路中起放大作用,在常见电路中有三种接法。为了便于比较,将晶体管三种接法电路所具有的特点列于下,名称共发射极电路共集电极电路(射极输出器)共基极电路。输入阻抗中(几百欧~几千欧)大(几十千欧以上)小(几欧~几十欧)输出阻抗中(几千欧~几十千欧)小(几欧~几十欧)大(几十千欧~几百千欧)电压放大倍数大小(小于1并接近于... 【查看详情】
空间电荷区:扩散到P区的自由电子与空穴复合,而扩散到N区的空穴与自由电子复合,所以在交界面附近多子的浓度下降,P区出现负离子区,N区出现正离子区,它们是不能移动,称为空间电荷区。电场形成:空间电荷区形成内电场。空间电荷加宽,内电场增强,其方向由N区指向P区,阻止扩散运动的进行。漂移运动:在电场力作用下,载流子的运动称... 【查看详情】
展望未来,无锡微原电子科技有限公司将继续坚持以技术创新为**,加大研发投入,推动产品和服务的升级换代。公司计划在未来几年内,重点发展以下几个方向: 一是持续优化现有产品线,提高产品的竞争力。通过对材料、设计、工艺等方面的深入研究,提升产品的性能和可靠性,满足市场对***半导体器件的需求。 二是拓展新的... 【查看详情】
制作方式不同集成电路采用一定的工艺,把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内。而芯片使用单晶硅晶圆(或III-V族,如砷化镓)用作基层,然后使用光刻、掺杂、CMP等技术制成MOSFET或BJT等组件,再利用薄膜和CMP技术制成导线,如此便完成芯片制作。... 【查看详情】
光刻工艺的基本流程如 ,首先是在晶圆(或衬底)表面涂上一层光刻胶并烘干。烘干后的晶圆被传送到光刻机里面。光线透过一个掩模把掩模上的图形投影在晶圆表面的光刻胶上,实现曝光,激发光化学反应。对曝光后的晶圆进行第二次烘烤,即所谓的曝光后烘烤,后烘烤使得光化学反应更充分。***,把显影液喷洒到晶圆表面的光刻胶上,对曝光图形显影。显影后,掩模上的图... 【查看详情】
它在电路中用字母“IC”表示。集成电路的发明者是JackKilby(集成电路基于锗(Ge))和RobertNoyth(基于硅(Si)的集成电路)。当今半导体行业的大多数应用都是基于硅的集成电路。集成电路是1950年代末和1960年代发展起来的一种新型半导体器件。它是通过氧化、光刻、扩散、外延、蒸镀铝等半导体制造工艺,将形成具有一定功能的电... 【查看详情】
我国电子元件的产量已占全球的近39%以上。产量居世界***的产品有:电阻器、电容器、电声器件、磁性材料、压电石英晶体、微特电机、电子变压器、印制电路板。伴随我国电子信息产业规模的扩大,珠江三角洲、长江三角洲、环渤海湾地区、部分中西部地区四大电子信息产业基地初步形成。这些地区的电子信息企业集中,产业链较完整,具有相当的规模和配套能力。我国电... 【查看详情】