以往的光刻胶剥离液对金属的腐蚀较大,可能进入叠层内部造成线路减薄,药液残留,影响产品的质量。因此有必要开发一种不会对叠层晶圆产生过腐蚀的光刻胶剥离液。技术实现要素:本发明的主要目的在于提供一种用于叠层晶圆的光刻胶剥离液,既具有较高的光刻胶剥离效率,又不会对晶圆内层有很大的腐蚀。本发明通过如下技术方案实现上述目的:一种用于叠层晶圆的光刻胶剥...
查看详细 >>siendoobligatorioelusodeacoplamientoscompatiblesconlamangueradelcamióncisternaylabocadecargadelosdepóápidasserándematerialesquenopuedanproducirchispasenelchoqueconotr...
查看详细 >>gasóleosylubricantesquedistribuyanmenosdetresproductosdiferentesdegasolinasygasóleosdeautomocióáncomolímitesoextremosdeunaestacióndeservicioounidaddesuministro,losdel...
查看详细 >>íatendráunapendientehaciaeldepósitotalquepermitalaevacuacióndeposiblescondensadosycomomínimoéstaseráádisponerdeunaválvuladecierrequeseabrirádeformaautomáticacuandolap...
查看详细 >>此处所描述的具体实施例用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。参照图1,本实用新型实施例提供的酸性蚀刻液电解后液处理系统包括:电解槽1、射流器2、再生液调配缸3、液体泵4,其中,电解槽1具有一出液口和出气口,且电解槽1中内置有酸性蚀刻液,电解槽1对该酸性蚀刻液进行电解提铜,产生氯气,得到电解后液,并且,产生的氯气通过位于上方的...
查看详细 >>步骤一s1:设置一挡液板结构10,其中该挡液板结构10设置有复数个宣泄孔121;该挡液板结构10包括有一***挡板11、一与该***挡板11接合的第二挡板12,以及一与该第二挡板12接合的第三挡板13,其中该第二挡板12具有复数个贯穿该第二挡板12且错位设置的宣泄孔121,该复数个宣泄孔121呈千鸟排列的直通孔态样,且位于同一列的...
查看详细 >>desecciónmínima16milíóneléctricadelapuestaatierrapodrárealizarseatravésdeuninterruptormanual,congradodeprotecciónadecuadoalaclasificacióásiempredespuésdelaconexióndel...
查看详细 >>50WXQ-100BT050WVAE101BTL504885-W705LBA050WV4-601BF050FWME501BTL504885-W708LBF050WVQ-100BT050FWQ-N80BTL507212-W677LBTL507212-W742LBF050QHE-400BS050HDG-N40-6C00BF050WVM
查看详细 >>T156WXB-500HB156WX1-100HT156WXB-502HB156WX1-600HB156WX1-500NT156WHM-N21HB156WX1-200NT156WHM-N10HB156FH1-301HB156FH1-401NT156WHM-N22NT156WHM-N12NT156WHM-N42NV156FHM-N3
查看详细 >>siendoobligatorioelusodeacoplamientoscompatiblesconlamangueradelcamióncisternaylabocadecargadelosdepóápidasserándematerialesquenopuedanproducirchispasenelchoqueconotr...
查看详细 >>deacuerdoconlaclasificacióndeáreasrealizadasegúnelprocedimientoindicadoenelReglamentoElectrotécnicodeBajaTensióóndeestosdepósitosnoseránecesarialautilizacióíósitosdeb...
查看详细 >>影响ITO碱性氯化铜蚀刻液蚀刻速率的因素:1、Cu2+离子浓度的影响:Cu2+是氧化剂,所以Cu2+的浓度是影响蚀刻速率的主要因素。研究铜浓度与蚀刻速率的关系表明:在0~82g/L时,蚀刻时间长;在82~120g/L时,蚀刻速率较低,且溶液控制困难;在135~165g/L时,蚀刻速率高且溶液稳定;在165~225g/L时,溶液不稳定,趋向...
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