本申请涉及半导体工艺技术领域,具体涉及一种剥离液机台及其工作方法。背景技术:剥离(lift-off)工艺通常用于薄膜晶体管(thinfilmtransistor)制程中的光罩缩减,lift-off先形成光阻并图案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同时,沉积在光阻上的膜层也被剥离,从而完成膜层的图形化,通过该制程可以实现两次光刻合并为一次以达到光罩缩减的目的。现有技术中,由于光阻上沉积了薄膜(该薄膜材料可以为金属,ito(氧化铟锡)等用于制备tft的膜层),在剥离光阻的同时薄膜碎屑被带入剥离液(stripper)中,大量的薄膜碎屑将会导致剥离液机台中的过滤器(filter)堵塞,从而导致机台无法使用,并且需要停止所有剥离液机台的工作,待将filter清理后再次启动,降低了生产效率。技术实现要素:本申请实施例提供一种剥离液机台及其工作方法,可以提高生产效率。本申请实施例提供一种剥离液机台,包括:依次顺序排列的多级腔室、每一级所述腔室对应连接一存储箱;过滤器,所述过滤器的一端设置通过***管道与当前级腔室对应的存储箱连接,所述过滤器的另一端通过第二管道与下一级腔室连接;其中,至少在所述***管道或所述第二管道上设置有阀门开关。在一些实施例中。剥离液分为溶剂型和水系两种类别;南京银蚀刻液剥离液溶剂

1.显影液:显影液是一种溶液,用于在PCB板上显示铜线轨道的比例和位置,使其成为可以用于焊接元件的良好的PCB板。2.剥离液:剥离液是一种特殊的溶剂,用于将PCB板上的铜线轨道剥离开,以便重新焊接元件。3.蚀刻液:蚀刻液是一种酸性溶液,用于将PCB板上的铜线轨道腐蚀掉,以便重新焊接元件。4.清洗液:清洗液是一种混合物,用于将PCB板上的尘埃、污垢和其他残留物消除干净,以便进行焊接和装配。1.显影液:是指用于显影制版的液体,一般由溶剂、硫酸铜、有机酸和抗氧化剂等组成。2.剥离液:是指用于把制版上的显影膜剥离出来的液体,一般由硝酸铝、硫酸钠等组成。3.蚀刻液:是指用于蚀刻制版的液体,一般由硝酸铜、硝酸钠、硝酸锌等组成。4.清洗液:是指用于清洗制版的液体,一般由水、硝酸、硫酸、乙醇等组成。绍兴中芯国际用剥离液主要作用博洋剥离液供应厂商-提供微电子领域个性化解决方案!

本发明涉及剥离液技术领域:,更具体的说是涉及一种光刻胶剥离液再生方法。背景技术::电子行业飞速发展,光刻胶应用也越来越***。在半导体元器件制造过程中,经过涂敷-显影-蚀刻过程,在底层金属材料上蚀刻出所需线条之后,必须在除去残余光刻胶的同时不能损伤任何基材,才能再进行下道工序。因此,光刻胶的剥离质量也有直接影响着产品的质量。而随着电子行业的发展以及高世代面板的面世,光刻胶剥离液的使用越来越多。剥离液废液中含有光刻胶树脂、水和某些金属杂质,而剥离液废液的处理主要是通过焚烧或者低水平回收,其大量的使用但不能够有效地回收,对环境、资源等都造成了比较大的影响。有鉴于此,申请人研发出以下的对使用后的光刻胶剥离液回收及再生方法。技术实现要素:本发明的目的是提供一种光刻胶剥离液再生方法。为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:本申请公开了一种高世代面板铜制程光刻胶剥离液,包括以下质量组分:光刻胶剥离液再生方法,包括以下步骤:s1:回收剥离液新液使用后的剥离液废液,将剥离液废液经过蒸馏、加压工序,得出剥离液废液的纯化液体;纯化液体中含有酰胺化合物、醇醚化合物以及胺化合物;s2:制备添加剂。
形成带有沉淀物的固液混合物,打开一级过滤罐进料管路上的电磁阀18,固液混合物进入一级过滤罐16的过滤筒中,先由一级过滤罐16的过滤筒过滤得到一级线性酚醛树脂,滤液由提升泵6送往搅拌釜的循环料口7,往复3次数后,一级线性酚醛树脂回收完成,关闭一级过滤罐进料管路上的电磁阀18,利用提升泵6将一级过滤罐16中滤液抽取到搅拌釜10内备用;2、向搅拌釜10中输入酸性溶液,与前述滤液充分搅拌混合再次析出沉淀物,即二级线性酚醛树脂,利用ph计检测溶液ph值,当达到5-7范围内即可,打开二级过滤罐13进料管路上的电磁阀17,带有沉淀物的混合液进入二级过滤罐13中,由其中的过滤筒过滤得到二级线性酚醛树脂,废液二级过滤罐底部的废液出口20流出,送往剥离成分处理系统。上述过滤得到的一级线性酚醛树脂可用于光刻胶产品的原料,而二级线性酚醛树脂可用于其他场合。使用剥离液,轻松剥离各种材料。

在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本申请实施例提供的剥离液机台的种结构示意图。图2为本申请实施例提供的剥离液机台的第二种结构示意图。图3为本申请实施例提供的剥离液机台的第三种结构示意图。图4为本申请实施例提供的剥离液机台的第四种结构示意图。图5为本申请实施例提供的剥离液机台的工作方法的流程示意图。具体实施方式目前剥离液机台在工作时,如果过滤剥离光阻时产生的薄膜碎屑的过滤器被阻塞,则需要剥离液机台内的所有工作单元,待被阻塞的过滤器被清理后,才能重新进行剥离制程,使得机台需频繁停线以更换过滤器,极大的降低了生产效率。请参阅图1,图1为本申请实施例提供的过滤液机台100的种结构示意图。本申请实施例提供一种剥离液机台100,包括:依次顺序排列的多级腔室10、每一级所述腔室10对应连接一存储箱20;过滤器30,所述过滤器30的一端设置通过管道40与当前级腔室101对应的存储箱20连接,所述过滤器30的另一端通过第二管道50与下一级腔室102连接;其中,至少在管道40或所述第二管道50上设置有阀门开关60。龙腾光电用的哪家的剥离液?南通配方剥离液订做价格
哪家公司的剥离液的有售后?南京银蚀刻液剥离液溶剂
所述功能切换口3外部并联有高纯水输入管线1和沉淀剂输入管线2。所述二级过滤罐13的底部设有废液出口20。所述一级过滤罐16和二级过滤罐13内部均悬设有拦截固体成分的过滤筒。本实施例中,所述一级过滤罐16和二级过滤罐13的结构相同,以一级过滤罐16为例,由外壳1601、悬设于外壳1601内的过滤筒、扣装于过滤筒顶部的压盖1602组成。所述压盖1602中心设有对应进料管路15的通孔。所述过滤筒由均匀布设多孔1606的支撑筒体1605、设于支撑筒体1605内表面的金属滤网1604、设于金属滤网1604表面的纤维滤布1603组成。所述支撑筒体1605的上沿伸出外壳1601顶部并利用水平翻边支撑于外壳1601上表面,所述金属滤网1604的上沿设有与支撑筒体1605的水平翻边扣合的定位翻边。所述支撑筒体1605的底面为向筒体内侧凹陷的锥面1607,增加了过滤面积,提高了过滤效率。所述搅拌釜10设有ph计(图中省略),用于检测溶液ph值。搅拌釜10由釜体8、设于釜体8顶部的搅拌电机4、与搅拌电机4连接的搅拌杆11、设于搅拌杆11末端的搅拌桨12组成,所述搅拌桨12为u字形,釜体8外表面设有调温水套9。工作过程:1、先向搅拌釜10内投入光刻胶废剥离液,再向釜内输入高纯水,两者在搅拌釜10内搅拌均匀。南京银蚀刻液剥离液溶剂