高锰酸钾基本参数
  • 品牌
  • 广试
  • 纯度级别
  • 分析纯AR,化学纯CP
  • 用途类别
  • 色谱分析用试剂
  • 产品性状
  • 固态粉末
  • 化学式
  • KMnO4
  • 相对分子质量
  • 158.03
  • 产品颜色
  • 黑紫色、细长棱形、粒状、针状或流沙状结晶,带蓝色的金属光泽,
  • 贮存方法
  • 密封保存
  • 厂家
  • 广州化学试剂厂
  • CAS
  • 7722-64-7
  • 产地
  • 广东
高锰酸钾企业商机

在食品保鲜方面,高锰酸钾有着潜在的应用价值。对于一些需要长途运输或长时间储存的果蔬,在储存环境中放置含有高锰酸钾的缓释剂具有一定保鲜效果。果蔬在储存过程中会释放乙烯气体,乙烯是一种催熟剂,会加速果蔬的衰老和腐烂。高锰酸钾具有强氧化性,能够将乙烯氧化为二氧化碳和水,从而降低储存环境中的乙烯浓度。例如,在苹果、香蕉等水果的保鲜中,将高锰酸钾负载在一些多孔材料上,制成缓释装置放置在水果储存箱中,能有效延缓水果的成熟和腐烂速度,延长水果的保鲜期,保持水果的色泽、口感和营养成分,减少因水果变质带来的经济损失,为食品保鲜技术提供了一种可行的化学手段。 科研工作者利用高锰酸钾独特的化学性质,开展各类新型材料合成的探索研究。广东实验室高锰酸钾溶剂

在实验室中,高锰酸钾可用于制备多种气体。以氧气制备为例,加热高锰酸钾固体,它会发生分解反应:2KMnO₄=△=K₂MnO₄+MnO₂+O₂↑。在这个反应中,高锰酸钾既是反应物,又为反应提供了氧元素。实验装置一般采用固体加热型,将高锰酸钾装入大试管,管口略向下倾斜,以防冷凝水倒流使试管炸裂。通过加热高锰酸钾,产生的氧气可采用排水法或向上排空气法收集。此外,高锰酸钾还可用于制备氯气等气体。在制备氯气时,与浓盐酸反应:2KMnO₄+16HCl=2KCl+2MnCl₂+5Cl₂↑+8H₂O。这种利用高锰酸钾制备气体的方法,操作相对简便,反应条件易于控制,在化学实验教学和科研中广泛应用。 广东实验室高锰酸钾溶剂食品加工行业,高锰酸钾可用于食品加工设备的消毒,确保食品安全。

在工业废水处理领域,高锰酸钾常参与复杂的处理工艺。对于一些含有难降解有机物和重金属离子的工业废水,高锰酸钾可以作为预处理剂。例如,在处理印染废水时,废水中的有机染料难以直接生化降解。高锰酸钾的强氧化性能够破坏染料分子的结构,使其发色基团被氧化分解,降低废水的色度。同时,对于废水中的一些重金属离子,如汞离子、铅离子等,高锰酸钾在氧化有机物过程中改变废水的化学环境,促使重金属离子发生沉淀反应。在实际工艺中,通常将高锰酸钾与其他絮凝剂、中和剂等配合使用。先加入高锰酸钾进行氧化反应,再调节废水的pH值,然后加入絮凝剂,使沉淀物质絮凝沉降,达到净化工业废水的目的,减少对环境的污染。

高锰酸钾与二氧化硫之间的反应具有重要的环保意义。二氧化硫是一种常见的大气污染物,主要来源于化石燃料的燃烧和工业生产过程。当高锰酸钾溶液与二氧化硫气体接触时,会发生氧化还原反应。在水溶液中,反应方程式大致为:2KMnO₄+5SO₂+2H₂O=K₂SO₄+2MnSO₄+2H₂SO₄。在这个反应中,二氧化硫中的硫元素从+4价被氧化为+6价,生成硫酸盐,而高锰酸钾中的锰元素从+7价被还原为+2价。利用这个反应原理,可以设计相关的废气处理装置,用于工业废气中二氧化硫的脱除。通过将含有二氧化硫的废气通入装有高锰酸钾溶液的吸收塔等设备中,实现二氧化硫的净化,减少其对大气环境的污染,对于改善空气质量、防治酸雨等环境问题具有积极作用。涂料生产中,高锰酸钾参与涂料成分的反应,改善涂料的附着力和耐候性。

在早期的摄影冲印技术中,高锰酸钾有独特的用途。在黑白照片冲印过程中,当照片显影后,可能会出现曝光过度或密度不均匀的情况。此时,可以用高锰酸钾溶液对照片进行减薄处理。高锰酸钾能够氧化照片上部分已还原的银颗粒,使影像密度降低,从而改善照片的质量。在具体操作时,需要将高锰酸钾配制成合适浓度的溶液,并严格控制处理时间。如果处理时间过长或溶液浓度过高,会过度氧化银颗粒,导致照片影像损失过多;而处理时间过短或浓度过低,则达不到减薄效果。利用高锰酸钾的这种特性,摄影冲印师可以对照片进行精细调整,制作出更符合艺术需求的影像作品。 化妆品生产中,高锰酸钾参与部分原料的合成与提纯,确保化妆品质量安全。广东实验室高锰酸钾溶剂

制药过程中,高锰酸钾作为氧化剂参与某些药物的合成步骤,保障药品质量。广东实验室高锰酸钾溶剂

在半导体芯片制造过程中,光刻胶去除是一个重要环节。高锰酸钾可用于光刻胶的去除。光刻胶在芯片制造中用于图案转移,但在完成光刻工艺后,需要将其从芯片表面去除。将含有高锰酸钾的溶液与光刻胶接触,高锰酸钾的强氧化性能够与光刻胶中的有机成分发生反应,使其分解为小分子物质,从而实现光刻胶的去除。与传统的光刻胶去除方法相比,利用高锰酸钾进行去除具有选择性高、对芯片表面损伤小的优点,能够满足半导体芯片制造对高精度、低损伤工艺的要求,提高芯片制造的良品率,推动半导体产业的发展。广东实验室高锰酸钾溶剂

与高锰酸钾相关的**
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责