本申请涉及半导体工艺技术领域,具体涉及一种剥离液机台及其工作方法。背景技术:剥离(lift-off)工艺通常用于薄膜晶体管(thinfilmtransistor)制程中的光罩缩减,lift-off先形成光阻并图案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同时,沉积在光阻上的膜层也被剥离,从而完成膜层的图形化,通过该制程可以实现两次光刻合并为一次以达到光罩缩减的目的。现有技术中,由于光阻上沉积了薄膜(该薄膜材料可以为金属,ito(氧化铟锡)等用于制备tft的膜层),在剥离光阻的同时薄膜碎屑被带入剥离液(stripper)中,大量的薄膜碎屑将会导致剥离液机台中的过滤器(filter)堵塞,从而导致机台无法使用,并且需要停止所有剥离液机台的工作,待将filter清理后再次启动,降低了生产效率。技术实现要素:本申请实施例提供一种剥离液机台及其工作方法,可以提高生产效率。本申请实施例提供一种剥离液机台,包括:依次顺序排列的多级腔室、每一级所述腔室对应连接一存储箱;过滤器,所述过滤器的一端设置通过管道与当前级腔室对应的存储箱连接,所述过滤器的另一端通过第二管道与下一级腔室连接;其中,至少在所述管道或所述第二管道上设置有阀门开关。在一些实施例中。晶圆制造用剥离液的生产企业有哪些;扬州市面上哪家剥离液私人定做
本发明涉及剥离液技术领域:,更具体的说是涉及一种光刻胶剥离液再生方法。背景技术::电子行业飞速发展,光刻胶应用也越来越***。在半导体元器件制造过程中,经过涂敷-显影-蚀刻过程,在底层金属材料上蚀刻出所需线条之后,必须在除去残余光刻胶的同时不能损伤任何基材,才能再进行下道工序。因此,光刻胶的剥离质量也有直接影响着产品的质量。而随着电子行业的发展以及高世代面板的面世,光刻胶剥离液的使用越来越多。剥离液废液中含有光刻胶树脂、水和某些金属杂质,而剥离液废液的处理主要是通过焚烧或者低水平回收,其大量的使用但不能够有效地回收,对环境、资源等都造成了比较大的影响。有鉴于此,申请人研发出以下的对使用后的光刻胶剥离液回收及再生方法。技术实现要素:本发明的目的是提供一种光刻胶剥离液再生方法。为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:本申请公开了一种高世代面板铜制程光刻胶剥离液,包括以下质量组分:光刻胶剥离液再生方法,包括以下步骤:s1:回收剥离液新液使用后的剥离液废液,将剥离液废液经过蒸馏、加压工序,得出剥离液废液的纯化液体;纯化液体中含有酰胺化合物、醇醚化合物以及胺化合物;s2:制备添加剂。杭州江化微的蚀刻液剥离液配方技术剥离液分为溶剂型和水系两种类别;
利用提升泵将一级过滤罐中滤液抽取到搅拌釜内;再向搅拌釜中输入沉淀剂,如酸性溶液,与前述滤液充分搅拌混合再次析出沉淀物,即二级线性酚醛树脂,打开二级过滤罐进料管路上的电磁阀,带有沉淀物的混合液进入二级过滤罐中,由其中的过滤筒过滤得到二级线性酚醛树脂,废液二级过滤罐底部的废液出口流出,送往剥离成分处理系统。上述过滤得到的一级线性酚醛树脂可用于光刻胶产品的原料,而二级线性酚醛树脂可用于其他场合。综上,实现了对光刻胶树脂的充分的回收利用,回收率得到提高。附图说明图1是本实用新型的结构示意图;图2是过滤筒的结构示意图。具体实施方式如图1、图2所示,该光刻胶废剥离液回收装置,包括搅拌釜10和与搅拌釜10连通的过滤罐,所述过滤罐的数量为两个,由一级过滤罐16和二级过滤罐13组成。所述一级过滤罐16和二级过滤罐13在垂直方向上位于搅拌釜10下方,一级过滤罐16和二级过滤罐13的进料管路15、14分别与搅拌釜10底部连通,且进料管路15、14上分别设有电磁阀18、17。所述一级过滤罐16的底部出液口19连接有提升泵6,所述提升泵6的出料管路末端与搅拌釜10顶部的循环料口7连通。搅拌釜10顶部另设有废剥离液投料口5和功能切换口3。
根据对华新光电、日东集团的剥离液成分进行分析得知,剥离液主要成分为单乙醇胺(MEA),二甲亚砜(DMS0)和二乙二醇单丁醚(BDG),其中市场上大部分以二乙二醇单丁醚居多。剥离液废液多呈深黑色且气味大,由以下几种组分构成:(1)、1~20%重量的醇胺或者酰胺,以伯胺和肿胺为主。(2)、10~60%重量的醇;(3)、10~50%重量的水;(4)、5~50%重量的极性有机溶剂,如;N-甲基吡咯烷酮(NMP),环丁基砜、二甲基亚砜(DMSO)、二甲基乙酰胺、N-乙基甲酰胺等。(5)、~3%重量的金属抗蚀剂,如2-氨基环己醇、2-氨基环戊醇等。根据上述分析可以看出,剥离液中大部分是有机溶剂,可以加以回收资源化利用,或者将剥离废液进行脱色净化处理后再用于生产中,配成剥离液。当前国内主要产生剥离液的厂家主要分布在天津及深圳一带,均是高新技术发达区域,随着国内经济及城市的发展,剥离液产废地点将越来越,也将引起环保的重视及关注。维信诺用的哪家的剥离液?
光电行业的大力发展,致使剥离液被国内外研究人员所关注及研究,虽然在**网及技术网上对剥离液的阐述较少,但当前国内与国外均在剥离液废液如何利用及处置方面有了一定的成果,。美国专利US7273560公布了包含单乙醇胺与二乙二醇单丁醚组合的光刻胶剥离液废液中含有、77%的二乙二醇单丁醚、3%的光刻胶和。现有技术***采用的光刻胶剥离液废液回收方法通常是通过薄膜蒸发器回收大部分的有机成分,回收得到的有机组分或再经脱色脱水等处理后可再次作为光刻胶剥离液应用。这种方法虽然流程简便,但在使用薄膜蒸发器蒸发溶剂过程中,光刻胶浓度达到一定程度后其传热传质效率快速下降,使溶剂回收效率大为降低,处理能耗***升高。且除去溶剂后残留的光刻胶等物质需要定期将其***干净,进而影响工艺操作效率。另外,美国专利US公布了在蚀刻产线上设置过滤回收装置,通过粗孔和细孔过滤器的两步组合过滤法除去光刻胶,将光刻胶剥离液在产线上循环使用。京东方用的哪家的剥离液?浙江中芯国际用剥离液厂家现货
剥离液的发展趋势如何。扬州市面上哪家剥离液私人定做
IC去除剥离液MSDS1.产品属性产品形式:混合溶液产品名称:ANS-908产品功能描述:用于COG重工,使IC与玻璃无损伤分离2.组成成份化学名称CASNo含量%(v)1-METHYL-2-PYRROLIDINONE872-50-445~90N,N-DIMETHYLACETAMIDE127-19-510~58Other12~45SurfactantThickener3.危险识别可燃性液体和蒸汽警示标识外观:透明或微黄气味:类氨对人类和环境的危害:对眼睛和皮肤有刺激性吸入:会引起呼吸道受刺激,肝脏、肾受伤害,对系统有影响摄取:会引起呼吸道和消化道刺激长期接触:会引起皮肤伤害4.紧急处理吸入:移至空气新鲜处,呼吸困难时输氧、看医生摄取:迅速呕吐或者看医生皮肤接触:用大量水冲洗15分钟以上,更换衣服、鞋,或者看医生眼睛接触:用大量水冲洗15分钟以上,严重时看医生5.防火措施合适的灭火装置:水枪、泡沫灭火器、干粉灭火器、CO2灭火器特别防护措施:穿戴防护面罩闪点:>110℃自燃温度:>340℃6.意外泄漏注意事项人员:避免吸入,避免皮肤、眼睛、衣物的接触,雾状时戴防护面罩环境:迅速移除火源,避免吸入和接触清洁方法:大量泄漏应截流并泵入容器,用吸附材料吸掉残余物;少量泄漏用水冲洗7.存储和搬运搬运:远离火源、烟雾;不要吸入蒸汽。扬州市面上哪家剥离液私人定做