利用提升泵将一级过滤罐中滤液抽取到搅拌釜内;再向搅拌釜中输入沉淀剂,如酸性溶液,与前述滤液充分搅拌混合再次析出沉淀物,即二级线性酚醛树脂,打开二级过滤罐进料管路上的电磁阀,带有沉淀物的混合液进入二级过滤罐中,由其中的过滤筒过滤得到二级线性酚醛树脂,废液二级过滤罐底部的废液出口流出,送往剥离成分处理系统。上述过滤得到的一级线性酚醛树脂可用于光刻胶产品的原料,而二级线性酚醛树脂可用于其他场合。综上,实现了对光刻胶树脂的充分的回收利用,回收率得到提高。附图说明图1是本实用新型的结构示意图;图2是过滤筒的结构示意图。具体实施方式如图1、图2所示,该光刻胶废剥离液回收装置,包括搅拌釜10和与搅拌釜10连通的过滤罐,所述过滤罐的数量为两个,由一级过滤罐16和二级过滤罐13组成。所述一级过滤罐16和二级过滤罐13在垂直方向上位于搅拌釜10下方,一级过滤罐16和二级过滤罐13的进料管路15、14分别与搅拌釜10底部连通,且进料管路15、14上分别设有电磁阀18、17。所述一级过滤罐16的底部出液口19连接有提升泵6,所述提升泵6的出料管路末端与搅拌釜10顶部的循环料口7连通。搅拌釜10顶部另设有废剥离液投料口5和功能切换口3。剥离液的正确使用方式;江苏铝钼铝蚀刻液剥离液销售价格
从而可以在阀门开关60关闭后取下被阻塞的过滤器30进行清理并不会导致之后的下一级腔室102的剥离进程无法继续。其中,腔室10用于按照处于剥离制程的玻璃基板的传送方向逐级向玻璃基板分别提供剥离液;与多个腔室10分别对应连接的多个存储箱20,各级腔室10分别通过管道与相应的存储箱20连接,存储箱20用于收集和存储来自当前级腔室101的经历剥离制程的剥离液;过滤器30用于过滤来自当前级腔室101的存储箱20的剥离液,并且过滤器30还可以通过管道与下一级腔室102连接,从而过滤器30可以将过滤后的剥离液输送给下一级腔室102。各腔室10设计为适合进行剥离制程,用于向制程中的玻璃基板供给剥离液,具体结构可参考现有设计在此不再赘述。各级腔室10分别于相应的存储箱20通过管道连接,腔室10中经历剥离制程后的剥离液可以经管道输送至存储箱20中,由存储箱20来收集和存储。各级腔室10的存储箱20分别与相应的过滤器30通过管道连接,经存储箱20处理后的剥离液再经相应的过滤器30过滤后才经管道输送至下一级腔室102。本申请中,腔室10及过滤器30可以采用与现有技术相同的设计。处于剥离制程中的玻璃基板。铜陵铜钛蚀刻液剥离液推荐厂家使用剥离液,轻松剥离各种材料。
常在印刷电路板,液晶显示面板,半导体集成电路等工艺制造过程中,需要通过多次图形掩膜照射曝光及蚀刻等工序在硅晶圆或玻璃基片上形成多层精密的微电路,形成微电路之后,进一步用剥离液将涂覆在微电路保护区域上作为掩膜的光刻胶除去。比如光电TFT-LCD生产工艺主要包含光阻涂布、显影、去光阻、相关清洗作业四大阶段,其中在去光阻阶段会产生部分剥离液。印制电路板生产工艺相当复杂。不仅设备和制造工艺的科技含量高,工艺流程长,用水量大,而且所用的化学药品(包括各种添加剂)种类多、用量大。因此,在用减成法生产印刷线路板的过程中,产污环节多,种类繁杂,物料损耗大。可分为干法加工(设计和布线、模版制作、钻孔、贴膜、曝光和外形加工等)和湿法加工(内层板黑膜氧化、去孔壁树脂腻污、沉铜、电镀、显影、蚀刻、脱膜、丝印、热风整平等)过程。其中在脱模(剥膜)工序为了脱除废旧电路板表面残留焊锡,需用硝酸为氧化剂,氨基磺酸为稳定剂,苯并三氮唑为铜的缓蚀剂进行操作,整个工序中会产生大量的剥离液,有机溶剂成分较大。
所述的链胺为乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、异丙醇胺、甲基二乙醇胺、amp-95中的任意一种或多种。技术方案中,所述的环胺为氨乙基哌嗪、羟乙基哌嗪、氨乙基吗啉中的任意一种或多种。技术方案中,所述的缓蚀剂为三唑类物质。的技术方案中,所述的缓蚀剂为苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑中的任意一种。技术方案中,所述的润湿剂含有羟基。技术方案中,所述的润湿剂为聚乙二醇、甘油中的任意一种。经由上述的技术方案可知,与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:本发明中加入环胺与链胺,能够渗透、断开光刻胶分子间弱结合力,能够快速、有效地溶解光刻胶,而配方中加入润湿剂,能够有效地减少接触角,增强亲水性,使得剥离液亲水性良好,能快速高效地剥离溶解光刻胶。附图说明:图1为配方一和配方二的剥离液滴落在平面时两者的接触角对比图。图2为配方一和配方二的剥离液应用是光刻胶的残留量对比图。具体实施方式现有技术中的剥离液其水置换能力较差,容易造成面板边缘光刻胶残留,本申请经过大量的试验,创造性的发现,在剥离液中加入润湿剂,能够使固体物料(高世代面板)更易被水浸湿的物质,通过降低其表面张力或界面张力,使水能展开在固体物料。剥离液有水性和溶剂型两种不同的区分。
按照组成成分和应用工艺不同,湿电子化学品可分为通用性和功能性湿电子化学品。通用湿电子化学品以超净高纯试剂为主,一般为单组份、单功能、被大量使用的液体化学品,按照性质划分可分为:酸类、碱类、有机溶剂类和其他类。酸类包括氢氟酸、硝酸、盐酸、硫酸、磷酸等;碱类包括氨水、氢氧化钠、氢氧化钾等;有机溶剂类包括甲醇、乙醇、异丙醇、**、乙酸乙酯等;其他类包括双氧水等。功能湿电子化学品指通过复配手段达到特殊功能、满足制造中特殊工艺需求的复配类化学品,即在单一的超净高纯试剂(或多种超净高纯试剂的配合)基础上,加入水、有机溶剂、螯合剂、表面活性剂混合而成的化学品。例如剥离液、显影液、蚀刻液、清洗液等。由于多数功能湿电子化学品是复配的化学品,是混合物,它的理化指标很难通过普通仪器定量检测,只能通过应用手段来评价其有效性。 质量好的剥离液的公司联系方式。安徽哪家剥离液生产
剥离液可适用不同制程光刻胶的剥离;江苏铝钼铝蚀刻液剥离液销售价格
当前级别腔室101对应的过滤器30被薄膜碎屑阻塞后,通过阀门开关60关闭当前级别腔室101对应的存储箱20与过滤器30之间的液体流通,从而可以在阀门开关60关闭后取下被阻塞的过滤器30进行清理并不会导致之后的下一级腔室102的剥离进程无法继续。其中,腔室10用于按照处于剥离制程的玻璃基板的传送方向逐级向玻璃基板分别提供剥离液;与多个腔室10分别对应连接的多个存储箱20,各级腔室10分别通过管道与相应的存储箱20连接,存储箱20用于收集和存储来自当前级腔室101的经历剥离制程的剥离液;过滤器30用于过滤来自当前级腔室101的存储箱20的剥离液,并且过滤器30还可以通过管道与下一级腔室102连接,从而过滤器30可以将过滤后的剥离液输送给下一级腔室102。各腔室10设计为适合进行剥离制程,用于向制程中的玻璃基板供给剥离液,具体结构可参考现有设计在此不再赘述。各级腔室10分别于相应的存储箱20通过管道连接,腔室10中经历剥离制程后的剥离液可以经管道输送至存储箱20中,由存储箱20来收集和存储。各级腔室10的存储箱20分别与相应的过滤器30通过管道连接,经存储箱20处理后的剥离液再经相应的过滤器30过滤后才经管道输送至下一级腔室102。 江苏铝钼铝蚀刻液剥离液销售价格