半导体设备零部件基本参数
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半导体设备零部件企业商机

该技术采用低电容耦合LCC 3D线圈等创新设计,已应用于5纳米及更先进的逻辑芯片产线 [7]。此外,北方华创的12英寸深硅刻蚀机PSE V300通过快速气体和射频切换控制系统,能在50:1高深宽比刻蚀中准确控制侧壁形貌,其TSV刻蚀速率达到国际主流水平,已成为国内TSV量产生产线主力机台 [19] [26]。干法刻蚀(等离子体刻蚀)根据等离子体产生和控制技术的不同,主要分为电容耦合等离子体(CCP)刻蚀机和电感耦合等离子体(ICP)刻蚀机,其中CCP刻蚀机主要用于电介质材料的刻蚀工艺,ICP刻蚀机主要用于硅刻蚀和金属刻蚀 [14]。功能:控制工艺制程(如射频电源驱动等离子体)。青浦区新型半导体设备零部件节能标准

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在半导体领域,“大数据分析”作为新的增长市场而备受期待。这是因为进行大数据分析时,除了微处理器之外,还需要高速且容量大的新型存储器。在《日经电子》主办的研讨会上,日本**大学教授竹内健谈到了这一点。例如,日本**高速公路的笹子隧道崩塌事故造成了多人死亡,而如果把长年以来的维修和检查数据建立成数据库,对其进行大数据分析,或许就可以将此类事故防患于未然。全世界老化的隧道和建筑恐怕数不胜数,估计会成为一个相当大的市场。上海新型半导体设备零部件节能标准技术难点:高频稳定性(如60MHz射频电源)、功率密度(>10W/cm²)。

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尽管有种种挑战,半导体技术还是不断地往前进步。分析其主要原因,总括来说有下列几项。先天上,硅这个元素和相关的化合物性质非常好,包括物理、化学及电方面的特性。利用硅及相关材料组成的所谓金属氧化物半导体场效晶体管,做为开关组件非常好用。此外,因为性能优异,轻、薄、短、小,加上便宜,所以应用范围很广,可以用来做各种控制。换言之,市场需求很大,除了各种产业都有需要外,新兴的所谓 3C 产业,更是以 IC 为主角。因为需求量大,自然吸引大量的人才与资源投入新技术与产品的研发。产业庞大,分工也越来越细。半导体产业可分成几个次领域,每个次领域也都非常庞大,譬如 IC 设计、光罩制作、半导体制造、封装与测试等。其它配合产业还包括半导体设备、半导体原料等,可说是一个火车头工业。

纳米技术有很多种,基本上可以分成两类,一类是由下而上的方式或称为自组装的方式,另一类是由上而下所谓的微缩方式。前者以各种材料、化工等技术为主,后者以半导体技术为主。以前我们都称 IC 技术是「微电子」技术,那是因为晶体管的大小是在微米(10-6米)等级。但是半导体技术发展得非常快,每隔两年就会进步一个世代,尺寸会缩小成原来的一半,这就是有名的摩尔定律(Moore’s Law)。半导体开始进入次微米,即小于微米的时代,尔后更有深次微米,比微米小很多的时代。晶体管尺寸已突破100纳米门槛,正式进入纳米电子时代 [3]。封装设备(Packaging Equipment):用于将半导体芯片封装成产品的设备。

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原子层刻蚀(ALE)是一种先进的刻蚀技术,通过将反应气体注入和离子轰击步骤分离并周期循环,能够以原子层级的精度(约0.4纳米)控制刻蚀深度,具有极低的材料损伤率 [17] [25]。ALE设备通常可在同一腔体内集成ICP、RIE、DRIE等多种功能,适用于先进逻辑制程及硅化合物、金属等多种材料的精密加工 [17]。中国厂商在刻蚀**技术领域取得***突破。中微公司**了单反应台可**/同时操作的双反应台刻蚀反应器技术。其ICP双反应台刻蚀机Primo Twin-Star®在氧化硅、氮化硅和多晶硅等薄膜的刻蚀工艺上,实现了反应台间0.2Å(亚埃级)的刻蚀精度,两个反应台刻蚀速度差异可控制在≤0.09%。国产化进展:北方华创旗下七星流量计实现初步替代,但市场仍由Horiba、MKS主导。徐汇区新型半导体设备零部件检测

功能:构建设备框架、晶圆反应环境,保障反应良率。青浦区新型半导体设备零部件节能标准

原子层刻蚀(Atomic Layer Etching, ALE)作为一种新兴的先进刻蚀技术,能够将刻蚀精确控制到原子层级(约0.4nm),在先进制程中应用前景广阔 [17] [25]。刻蚀机与光刻机在半导体制造流程**能不同、精度要求差异***,二者是互补关系而非替代关系 [5-6]。光刻机用于将电路图案投影到光刻胶上,而刻蚀机则根据该图案去除特定材料 [6]。光刻机的精度和难度要求通常高于刻蚀机 [5]。刻蚀技术主要分为干法刻蚀和湿法刻蚀两大类,其中干法刻蚀(又称等离子体刻蚀)占据市场主导地位 [14] [25]。干法刻蚀根据等离子体产生和控制技术的不同,主要分为电容耦合等离子体刻蚀(CCP)和电感耦合等离子体刻蚀(ICP)。CCP刻蚀机能量高、精度相对较低,主要用于电介质材料的刻蚀;ICP刻蚀机能量低、精度高,主要用于硅刻蚀和金属刻蚀 [14] [25]。在等离子刻蚀基础上,原子层刻蚀(ALE)是面向先进制程的新兴技术 [25]。青浦区新型半导体设备零部件节能标准

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