霍尔效应霍尔效应是电磁效应的一种。半导体薄片置于磁感应强度为B的磁场中，磁场方向垂直于薄片，当有电流流过薄片时，在垂直于电流和磁场的方向上将产生电动势，这种现象称为霍尔效应，该电动势称为霍尔电势。 [36]磁阻特性磁阻特性指的是其阻值R随磁感应强度B变化的特性。磁阻温度系数是指温度每变化1℃，磁敏电阻的相对变化量。磁阻元件一般都是用半导体InSb制作，其磁阻受温度影响较大。为了改善磁阻温度特性，方法之一是在InSb晶体中掺入一定量的锑化镍NiSb，形成InSb一NiSb共晶磁阻元件，但掺杂后将导致磁阻灵敏度下降；方法之二是采用两个磁阻元件串联，组成差动式输出这种方法不但具有温度补偿功能，而且使灵敏度得到提高。耗材（如EUV光刻胶、高纯电子特气）仍需突破关键技术。杨浦区标准半导体耗材价目
1990年，英国的L.T.坎汉***在室温下观测到多孔硅的可见光光致发光，使人们看到全硅光电子集成技术的新曙光。纳米微粒，纳米固体与纳米薄膜材料开辟了材料研究的新领域。这类包含有大量表面或界面原子的新型功能材料具有许多独特的物理、化学和力学性能，被誉为21世纪**有前途的材料。 [21]2019年10月，一国际科研团队称与传统霍尔测量中*获得3个参数相比，新技术在每个测试光强度下**多可获得7个参数：包括电子和空穴的迁移率；在光下的载荷子密度、重组寿命、电子、空穴和双极性类型的扩散长度。 [4]嘉定区个性化半导体耗材节能标准光刻胶：南大光电ArF光刻胶通过中芯国际验证，彤程新材KrF光刻胶市占率国内。
光学特性在大多数情况下，半导体的光学跃迁发生在带边，即光学跃迁通常发生在价带顶和导带底附近。因此半导体能带结构常用简化能带模型来表示，这种能带结构叫作直接带结构。Ⅲ-VI族化合物中的GaN、GaAs、GaSb和InP等都是直接带结构半导体，在这类半导体中发生的光学跃迁为直接跃迁；另外，半导体价带顶的能量位置与导带底的位置不同，如价带顶处于布里渊区中心点的位置，而导带底处于布里渊区的其他位置，这种能带结构叫作间接带结构。
砷化镓可在一块芯片上同时处理光电数据，因而被应用于遥控、手机、DVD计算机外设、照明等诸多光电子领域。它还被使用于***领域，是激光制导导弹的材料之一。 [7]在商业航天领域，三结砷化镓太阳电池是主流选择，其在2026年的在轨效率达到33.5%。降本技术路径包括采用聚光光伏（CPV）技术减少材料用量、推动**设备国产化以及应用衬底剥离与复用技术。 [7]2017年10月27日，世界卫生组织国际**研究机构公布的致*物清单初步整理参考，砷和无机砷化合物在1类致*物清单中。 [5]砷化镓晶体稳定，少量吸收可忽略，但在晶圆抛光等制程中可能释放砷。 [1]靶材纯度和结晶结构影响薄膜质量，进而影响芯片电学性能。
半导体在任何温度下都能产生电子-空穴对，故N型半导体中可存在少量导电空穴，P型半导体中可存在少量导电电子，它们均称为少数载流子。 [30]在四价本征半导体（如硅）中掺入五价杂质（如砷）形成的杂质半导体称为电子型半导体，或N型半导体。掺入的五价砷原子将在晶体中替代硅的位置，构成与硅相同的四电子结构，结果就多出一个电子在杂质离子的电场范围内运动。量子力学的计算表明，这个杂质的能级是在禁带中，且靠近导带，能量差远小于禁带宽度。这些耗材在半导体产业中扮演着重要的角色，直接影响到芯片的性能、良率和生产效率。嘉定区个性化半导体耗材节能标准
光刻胶：从i-line到KrF、ArF，再到EUV光刻胶，分辨率要求不断提升。杨浦区标准半导体耗材价目
热传导半导体中存在温度梯度的话，热能将由半导体的高温部分传导到低温部分，单位时间内通过单位面积的热量与温度的梯度固体的热传导由传导载流子和晶格振动（声子运动）的贡献组成。对于非简并半导体，晶格振动对热导率的贡献比载流子的贡献大几个数量级。 [35]压阻效应“压阻效应”是指当对半导体材料施加应力作用时，半导体材料的电阻率将随着应力的变化而发生变化，进而反映出电阻值也在发生变化。所有固体材料在某种程度上都呈现压阻效应，但半导体材料的这种效应特别***，能直接反映出微小的应变。半导体压阻效应现象可解释为:由应变引起能带变形，从而使能带中的载流子迁移率及浓度也相应地发生相对变化，因此导致电阻率变化，进而引起电阻变化。 [38杨浦区标准半导体耗材价目
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