L-Series包括严格的机械平台，集成了显微镜技术、微定位和计量学等方法。可应用于芯片电场的微型电位计（Microport）也作为其开发的副产品。L-Series致力于真正的解决微流控设备开发者所遇到的难题：构造芯片系统和提供实用程序，Sartor说：“若是将衬质和芯片粘合在一起，需要经过长期的多次测试，”设计者若想改变流体通道，必须从头开始。L-Series检测组使内联测试和假设分析实验变得更简单，测试一个新设计只要交换芯片即可。当前，L-Series设备只能在手动模式下运行，一次一个芯片，但是Cascade 正在考虑开发可平行操作多个芯片的设备。深硅刻蚀结合亲疏水涂层，制备高深宽比微井 / 流道用于生化反应与测序。多功能微流控芯片服务加工
完善、高标准的PDMS芯片生产产线：公司自建的PDMS芯片标准化产线，采用全自动混胶、真空脱泡与高温固化工艺，确保芯片力学性能（弹性模量1-3MPa）与透光率（>92%）的高度一致性。通过精密模具（公差±2μm）与等离子体亲水化处理，产线可批量生产单分子检测芯片、液滴生成芯片等产品。例如，液滴芯片通过流聚焦结构生成单分散乳液（粒径CV<2%），通量达20,000滴/秒，用于单细胞测序时捕获效率超98%。质检环节引入微流控性能测试平台，通过荧光粒子追踪与压力-流量曲线分析，确保流速偏差<3%。产线还可定制表面改性方案，如二氧化硅涂层使PDMS亲水性维持30天以上，满足长期细胞培养需求。目前，该产线已为多家IVD企业提供核酸快检芯片，30分钟出结果，灵敏度达99%，成为基层医疗的可靠工具。重庆纸基微流控芯片微流控芯片技术用于毛细管电泳分离。
玻璃基微流控芯片的精密刻蚀与键合工艺：玻璃因其高透光性、化学稳定性及表面平整性，成为光学检测类微流控芯片的理想材料。公司采用湿法刻蚀与干法刻蚀结合工艺，在玻璃基板上实现1-200μm深度的微流道加工，配合双面光刻对准技术，确保流道结构的三维高精度匹配。刻蚀后的玻璃芯片通过高温键合（300-450℃）或阳极键合实现密封，键合强度可达5MPa以上，耐受高压流体传输（如100kPa压力下无泄漏）。典型应用包括荧光显微成像芯片、拉曼光谱检测芯片，其光滑的玻璃表面可直接进行生物分子修饰，用于DNA杂交、蛋白质吸附等反应。公司在玻璃芯片加工中攻克了大尺寸基板（如4英寸晶圆）的均匀刻蚀难题，通过优化刻蚀液配比与等离子体参数，将流道深度误差控制在±2%以内，满足前端科研与工业检测对芯片一致性的严苛要求。
通过微流控芯片检测，有助于改进诊断性能、发现尚未被识别的致病性自身抗体。随着微流控免疫芯片的推广，自身抗体检测成为微流控免疫芯片的重要研究方向之一。此类芯片的设计不同于其他免疫芯片，用于自身抗体检测的微流控芯片须将自身抗原固定在芯片表面。Matsudaira等人通过光活性剂将自身抗原共价固定在聚酯平板上，利用光照射诱导自由基反应实现固定，不需要自身抗原的特定官能团。Ortiz等人将3种自身抗体通过羧基端硫醇化而固定在聚酯表面，用于检测乳糜泻特异性自身抗体，该微流控芯片的敏感性接近商品化酶联免疫吸附试验试剂盒。深入了解微流控芯片。
美国圣母大学(University of Notre Dame)的Hsueh-Chia Chang博士与微生物学家和免疫检测professor合作研究，提高了微流控分析设备检测细胞和生物分子的速度和灵敏性。同时，Chang对交流电动电学进行了改善，因为他认为交流电（AC）可作为选择平台，驱动流体通过用于医学和研究的微流控分析仪。微流控分析仪的驱动机制是常规的直流电动电学，但是使用时容易产生气泡并引起物质在电极发生化学反应的缺点限制了直流电的应用，此外，为保证其对流量的精确控制，直流电极必须放置在储液池中，不能直接连接在电路中。梯度涂层设计实现微流控芯片内细胞定向迁移，用于一些研究。山东微流控芯片平台
基于MEMS发展而来的微流控芯片技术。多功能微流控芯片服务加工
硅片微流道加工在微纳器件中的应用拓展：硅片作为MEMS工艺的主流材料，在微流控芯片中兼具机械强度与加工精度优势。公司利用深硅刻蚀（DRIE）技术实现高深宽比（>20:1）微流道加工，深度可达500μm以上，适用于高压流体控制、微反应器等场景。硅片表面通过热氧化或氮化处理形成绝缘层，可集成微电极、压力传感器等功能单元，构建“芯片实验室”（Lab-on-a-Chip）系统。例如，在脑机接口柔性电极芯片中，硅基微流道与铂铱电极的集成设计，实现了神经信号记录与药物微灌注的同步功能，其生物相容性通过表面PEG涂层优化，可长期植入体内稳定工作。公司还开发了硅片与PDMS、玻璃的异质键合技术，解决了不同材料热膨胀系数差异导致的应力问题，推动硅基微流控芯片在生物医学、环境监测等领域的跨学科应用。多功能微流控芯片服务加工
