ThinXXS公司Thomas Stange博士认为，虽然原型设计价格高且有风险，微制造技术已不再是微流控产品商业化生产的主要障碍。对于他们公司所操纵的高价药品测试和诊断市场，校准和工艺惯性才是主要的障碍。ThinXXS于6月推出了一款新的微芯片产品QPlate，同时宣称该产品结合了MEMS硅微处理、微铸技术以及印制电路板技术。QPlate是与丹麦Sophion Bioscience公司合作开发的，是QPatch-16 system的组成部分，QPatch-16 system可平行的测量16个细胞离子通道。单分子级 PDMS 芯片产线通过超净加工，提升检测灵敏度至单分子级别。重庆微流控芯片制备
大脑微流控芯片：与神经元和细胞间相互作用直接相关的因素在脑组织功能的情况下起着重要作用。大脑及其组织的研究在很大程度上是复杂的，这使得诸如培养皿或培养瓶之类的2D模型无效，因为这些系统无法模拟大脑的实际生理环境。为了克服这一局限性，研究人员目前正在研究开发大脑微流控芯片平台，可以在先进的小型化工程平台下研究大脑的生理因素，该平台可以通过多步光刻技术制备。它通过制造不同尺寸的微通道进一步实现了对脑组织的研究。山东微流控芯片代加工硅片微流道加工集成微电极，构建脑机接口柔性电极系统减少手术创伤。
微流控芯片的硅质材料加工工艺：是在硅材料的加工中，光刻(lithography)和湿法刻蚀(wetetching)技术是2种常规工艺。由于硅材料具有良好的光洁度和很成熟的加工工艺，主要用于加工微泵、微阀等液流驱动和控制器件，或者在热压法和模塑法中作为高分子聚合物材料加工的阳模。光刻是用光胶、掩模和紫外光进行微制造。光刻和湿法蚀刻技术通常由薄膜沉淀、光刻、刻蚀3个工序组成。在薄膜表面用甩胶机均匀地附上一层光胶。然后将掩模上的图像转移到光胶层上，此步骤首先在基片上覆盖一层薄膜，为光刻。再将光刻上的图像，转移到薄膜，并在基片上加工一定深度的微结构，此步骤完成了蚀刻。
微孔阵列芯片在液滴分散与生化反应中的应用：微孔阵列作为微流控芯片的主要功能单元，其加工精度直接影响液滴生成效率与反应均一性。公司通过光刻胶模塑、激光微加工等技术，在PDMS或硬质塑料基板上制备直径5-50μm、间距可控的微孔阵列，孔密度可达10^4个/cm²以上。在数字PCR芯片中，微孔阵列将反应液分割成微腔，结合油相封装实现单分子级核酸扩增，检测灵敏度可达0.1%突变频率。针对生化试剂反应腔需求，开发了表面疏水处理技术，使液滴在微孔内的滞留时间延长30%，确保酶促反应充分进行。此外，微孔阵列与微流道的集成设计实现了液滴的高通量生成与分选，每分钟可处理10^3个以上液滴，适用于高通量药物筛选与细胞分选芯片，为医疗与生物制药提供高效工具。深硅刻蚀结合亲疏水涂层，制备高深宽比微井 / 流道用于生化反应与测序。
安捷伦在微流控技术平台上的三个主要产品是Agilent 2100、 Bioanalyzer/5100、 Automated Lab-on-a-Chip （后有斯坦福大学Stephen Quake研究小组开发的微流体控制因素大规模地综合应用和瑞士Spinx Technologies开发的激光控制阀门。澳大利亚墨尔本蒙纳士大学的研究者正在开发可在微通道内吸取、混合和浓缩分析样品的等离子体偏振方法。等离子体不接触工作流体便可产生“推力”，具有维持流体稳定流动，对电解质溶液不敏感也不受其污染的优点。瑞士苏黎士联邦工业大学的David Juncker认为，流体的驱动没有必要采用这类高新技术，利用简单的毛细管效应就可以驱动流体通过微通道。推动微流控芯片技术的进步。采用微纳米加工的微流控芯片服务热线
微流控芯片定制方案。重庆微流控芯片制备
生物芯片表面亲疏水涂层工艺的精细控制：亲疏水涂层是调节微流控芯片内流体行为的关键技术，公司通过气相沉积、溶液涂覆及等离子体处理等方法，实现表面接触角在30°-120°范围内的精细调控（精度±2°）。在液滴生成芯片中，疏水涂层流道配合亲水微孔，可实现单分散液滴的稳定生成，液滴尺寸变异系数<5%；在细胞培养芯片中，亲水性表面促进细胞贴壁，结合梯度涂层设计实现细胞迁移方向控制，用于肿瘤细胞侵袭研究。涂层材料包括全氟聚醚（PFPE）、聚二甲基硅氧烷（PDMS）及亲水性聚合物，通过表面能匹配与化学接枝技术，确保涂层在酸碱环境（pH2-12）与有机溶剂中稳定存在超过200小时。该技术解决了复杂流道内流体滞留、气泡形成等问题，提升了芯片在生化反应、药物筛选等场景中的可靠性，成为微纳加工领域的核心竞争力之一。重庆微流控芯片制备
