深硅刻蚀工艺在高深宽比结构中的技术突破：深硅刻蚀（DRIE）是制备高深宽比微流道的主要工艺，公司通过优化Bosch工艺参数，实现了深度100-500μm、宽深比1:10至1:20的微结构加工。刻蚀过程中采用电感耦合等离子体（ICP）源，结合氟基气体（如SF6）与碳基气体（如C4F8）的交替刻蚀与钝化，确保侧壁垂直度>89°，表面粗糙度<50nm。该技术应用于地质勘探模拟芯片时，可精确复制地下岩层的微孔结构，用于油气渗流特性研究；在生化试剂反应腔中，高深宽比流道增加了反应物接触面积，使酶促反应速率提升40%。公司还开发了双面刻蚀与通孔对齐技术，实现三维立体流道网络加工，为微反应器、微换热器等复杂器件提供了关键制造能力，推动MEMS技术在能源、环境等领域的跨学科应用。MEMS 多重转印工艺实，较短可 10 个工作日交付。安徽微流控芯片之SAW器件
高聚物材料加工工艺：是以高聚物材料为基片加工微流控芯片的方法主要有:模塑法、热压法、LIGA技术、激光刻蚀法和软光刻等。模塑法是先利用半导体/MEMS光刻和蚀刻的方法制作出通道部分突起的阳模，然后在阳模上浇注液体的高分子材料，将固化后的高分子材料与阳模剥离后就得到了具有微结构的基片，之后与盖片(多为玻璃)封接后就制得高聚物微流控芯片。这一方法简单易行，不需要高技术设备，是大量生产廉价芯片的方法。热压法也需要事先获得适当的阳模。中国台湾微流控芯片图片微流控芯片定制方案。
在微流控芯片定制加工方面，公司已建立完善的PDMS芯片标准化产线，以自研产品单分子系列PDMS芯片产线为基础，建立了完善的PDMS硅胶来料、PDMS芯片加工、PDMS成品质检、测试小试产线。涵盖硅胶来料处理、精密模具成型、成品质检等环节，可批量交付单分子级检测芯片、液滴生成芯片等产品。其微流控解决方案广泛应用于毛细导流模拟、高通量测序反应腔构建、地质勘探流体分析等多元化场景，彰显“MEMS+医疗”技术跨界融合的创新价值。通过工艺标准化与定制化能力的深度协同，正推动微纳加工技术从实验室原型向产业化应用的高效转化。
微流控芯片在石英和玻璃的加工中，常常利用不同化学方法对其表面改性，然后可以使用光刻和蚀刻技术将微通道等微结构加工在上面。玻璃材料的加工步骤与硅材料加工稍有差异，主要步骤有:1)在玻璃基片表面镀一层 Cr，再用甩胶机均匀的覆盖一层光刻胶；2)利用光刻掩模遮挡，用紫外光照射，光刻胶发生化学反应；3)用显影法去掉已曝光的光胶，用化学腐蚀的方法在铬层上腐蚀出与掩模上平面二维图形一致的图案；4)用适当的刻蚀剂在基片上刻蚀通道；5)刻蚀结束后，除去光刻胶，打孔后和玻璃盖片键合。标准光刻和湿法刻蚀需要昂贵的仪器和超净的工作环境，无法实现快速批量生产。微流控芯片技术用于液体活检。
硅片微流道加工在微纳器件中的应用拓展：硅片作为MEMS工艺的主流材料，在微流控芯片中兼具机械强度与加工精度优势。公司利用深硅刻蚀（DRIE）技术实现高深宽比（>20:1）微流道加工，深度可达500μm以上，适用于高压流体控制、微反应器等场景。硅片表面通过热氧化或氮化处理形成绝缘层，可集成微电极、压力传感器等功能单元，构建“芯片实验室”（Lab-on-a-Chip）系统。例如，在脑机接口柔性电极芯片中，硅基微流道与铂铱电极的集成设计，实现了神经信号记录与药物微灌注的同步功能，其生物相容性通过表面PEG涂层优化，可长期植入体内稳定工作。公司还开发了硅片与PDMS、玻璃的异质键合技术，解决了不同材料热膨胀系数差异导致的应力问题，推动硅基微流控芯片在生物医学、环境监测等领域的跨学科应用。可定制加工小批量 PDMS、硬质塑料、玻璃、硅片等材质的微流控芯片。湖北微流控芯片诚信合作
利用微流控芯片做疾病抗原检测。安徽微流控芯片之SAW器件
肾脏组织微流控器官芯片（KoC）：传统方法或常规方法的局限性，例如细胞功能和生理学的变化或不适当，使得肾单位的病理生理学研究不准确且容易出错。相比之下，与微流控技术的集成已被证明可以产生更好和更精确的结果。KoC基本上是通过将肾小管细胞与微流控芯片技术相结合来制备的。它主要用于评估肾毒性。在临床前阶段能筛查出2%的失败药物，利用微流控技术能在临床阶段后检测出约20%的失败药物。这证明了使用KoC在单个微型芯片上研究人类肾单位的合理性。安徽微流控芯片之SAW器件
