重庆半导体封装烧结银膏

纳米烧结银膏的微观结构是其高性能的关键后盾。通过配方设计与烧结工艺调控，其烧结后的银层孔隙率可稳定把控在 2%-5% 的极低水平。这种近乎全致密的微观结构，不仅为电子和声子的传导提供了连续、顺畅的通道，较大化发挥银材料本征的导电、导热优势，更赋予了连接层优异的气密性与抗腐蚀能力。均匀分布的纳米级银晶粒（50-100nm）使得材料内部应力分布均衡，在长期的温度循环与功率载荷下，不易产生微裂纹与缺陷扩展。这种可控的微观结构，是纳米烧结银膏能够在高可靠场景中保持长期性能稳定的关键所在。烧结银膏由纳米银颗粒、有机溶剂及微量添加剂组成，粘度可调节。重庆半导体封装烧结银膏

聚峰烧结银膏针对 AI 芯片、服务器电源等算力设备的封装需求，完成了专项性能优化。AI 芯片、服务器电源工作时功率密度高、发热量极大，传统焊料无法满足其散热与可靠性需求。聚峰烧结银膏烧结后形成的纯银互连层，热阻极低、散热快，可速度导出芯片热量，将器件工作温度降低 15-20℃，避免高温导致的算力衰减。同时，银层优异的导电性能，可承载大电流传输，满足服务器电源、AI 加速卡的高功率需求。此外，产品抗热疲劳、抗电迁移性能突出，在 7×24 小时不间断运行的服务器场景中，可保护器件 10 年以上的稳定运行，为算力基础设施的可靠运行提供关键材料支撑。低温烧结银膏聚峰纳米烧结银膏，适配第三代半导体封装，低温烧结形成致密银层，保证高功率器件稳定运行。

纳米烧结银膏的低温烧结特性（150-250℃）为封装工艺带来了改变。传统高温焊料与烧结材料需要 300℃以上的加工温度，这极易对热敏性元器件、柔性基材以及多层复杂结构造成热损伤，导致器件性能下降或报废。而纳米烧结银膏利用纳米银颗粒的表面效应，在远低于银本体熔点的温度下即可实现烧结成型。这一低温工艺窗口，不仅保护了器件与基材免受高温损害，更降低了封装设备的能耗与对耐高温材料的依赖，简化了工艺流程，特别适用于包含 MEMS 传感器、柔性电路、光电器件等热敏元件的封装场景。

纳米烧结银膏是实现功率器件双面散热（DSC）技术的关键材料，为提升模块性能开辟了新路径。传统单面散热结构热阻高、功率密度受限，而双面散热技术通过在芯片上下两面均采用烧结银膏连接，构建了双向散热通道。纳米烧结银膏凭借其超薄、高导热的连接层，将模块整体热阻降低约 30%，同时降低寄生电感约 70%。这一系列性能提升直接转化为功率密度的大幅跃升（约 40%），使得在相同体积内可以集成更多芯片，或实现更高的输出功率。该技术已在 SiC/GaN 功率模块中得到广泛应用，有力推动了电力电子设备向更小、更轻、更强的方向发展。聚峰有压烧结银膏剪切强度高，抗震动耐老化，适配车规 SiC 与新能源功率模块。

烧结纳米银膏依托国内自主研发的纳米合成与烧结技术，实现性能对标全球前列产品，打破了长期以来国外厂商在烧结银材料领域的垄断。其国产化供应不仅降低了半导体封装材料的采购成本，还保证了供应链的自主可控，解决了关键材料 “卡脖子” 问题。凭借稳定的性能与本土化服务，为国内半导体、新能源等产业提供了稳定可靠的封装材料方案，助力国内电子制造产业的自主发展，推动电子材料国产化进程，提升我国在全球电子材料领域的竞争力。烧结纳米银膏无铅无卤素，符合 RoHS 标准，绿色，完美替代传统含铅焊料。纳米烧结银膏

纳米烧结银膏具备极低体电阻率，电流承载能力强，可长期稳定运行于大功率工况。重庆半导体封装烧结银膏

聚峰烧结纳米银膏，是专为第三代半导体封装场景研发的高性能互连材料，聚焦 SiC、GaN 等高功率器件的封装需求。其采用纳米级银粉配方，经 220-280℃低温烧结后，形成致密纯银互连层，导电、导热性能远超传统锡基焊料。该银膏烧结后热导率可达 300W/(m・K) 以上，能较快导出器件工作时产生的高热量，避免局部过热导致的性能衰减。同时，材料具备优异的高温稳定性，在 175℃以上长期工作环境中，无蠕变、无开裂、无失效，完美匹配新能源汽车电控、光伏逆变器、工业电源等高功率、高可靠应用场景，从根本上解决传统封装材料无法适配第三代半导体高温工况的行业痛点。重庆半导体封装烧结银膏