API多晶型分析引言2015版药典附录新增“9105多晶型药品的质量控制技术和方法指导原则”:指出固体药物及其制剂中粗在多晶型现象随时,应使用“优势药物晶型物质状态“为药物原料及其制剂晶型,以保证药品临床有效性、安全性与质量可控性。说明目前药物行业对晶型的重视。晶型,特别是API晶型对药物的功能有直接关心,同一API的不同晶型在溶解度、熔点、溶出度、生物有效性等方便可能会有不同。而表征API晶型的有效手段之一就是XRPD。支持全新技术进行定制,包括高性能X射线源、定制版光学器件、定制版样品台和多模式探测器。广州点阵参数精确测量XRD衍射仪

获得的TRIO光路简化了D8ADVANCE的操作,使之适用于多种应用和样品类型。为便于用户使用,该系统提供了自动化电动切换功能,可在多达6种不同的光束几何之间进行自动切换。系统无需人工干预,即可在三个光路之间切换:用于粉末分析的Bragg-Brentano聚焦几何用于毛细管、GID和XRR的平行光束Kα1,2几何用于外延薄膜的高分辨率平行光束Kα1几何它非常适合在环境条件或非环境条件下对所有样品类型进行分析,其中包括粉末、块状材料、纤维、片材和薄膜(非晶、多晶和外延)。物相定量分析XRD衍射仪配件在DIFFRAC.LEPTOS中,对多层样品进行XRR分析,测定其薄膜厚度、晶格失配和混合晶体浓度。

D8DISCOVER应用范围材料研究残余应力分析、织构和极图、微区X射线衍射、广角X射线散射(WAXS)XRD可研究材料的结构和物理特性,是重要的材料研究工具之一。D8DISCOVER就是布鲁克推出的、用于材料研究的旗舰款XRD仪器。D8DISCOVER配备了技术超过的组件,可为您带来较好的性能和充分的灵活性,同时让研究人员对材料进行细致入微的表征:定性相分析和结构测定微米应变和微晶尺寸分析应力和织构分析粒度和粒度分布测定使用微米大小的X射线束进行局部XRD分析倒易空间扫描
薄膜和涂层分析采用的原理与XRPD相同,不过进一步提供了光束调节和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鉴定、晶体质量、残余应力、织构分析、厚度测定以及组分与应变分析。在对薄膜和涂层进行分析时,着重对厚度在nm和µm之间的层状材料进行特性分析(从非晶和多晶涂层到外延生长薄膜)。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE软件可进行以下高质量的薄膜分析:掠入射衍射X射线反射法高分辨率X射线衍射倒易空间扫描。由于具有出色的适应能力,使用D8ADVANCE,您就可对所有类型的样品进行测量:从液体到粉末、从薄膜到固体块状物。无论是新手用户还是专业用户,都可简单快捷、不出错地对配置进行更改。这都是通过布鲁克独特的DAVINCI设计实现的:配置仪器时,免工具、免准直,同时还受到自动化的实时组件识别与验证的支持。安装在标准陶瓷X射线管前面,可多达6种不同的光束几何之间自动地进行电动切换,无需认为干预。

对分布函数分析对分布函数(PDF)分析是一种分析技术,它基于Bragg衍射以及漫散射(“总散射”),提供无序材料的结构信息。其中,您可以通过Bragg衍射峰,了解材料的平均晶体结构的信息(即长程有序),通过漫散射,表征其局部结构(即短程有序)。就分析速度、数据质量以及对非晶、弱晶型、纳米晶或纳米结构材料的分析结果而言,D8ADVANCE和TOPAS软件是目前市面上性能较好的PDF分析解决方案:相鉴定结构测定和精修纳米粒度和形状。D8 DISCOVER配备了MONTEL光学器件的IµS微焦源可提供更大强度小X射线束,非常适合小范围或小样品的研究。上海进口XRD衍射仪配件
使用D8D,您将能在原位循环条件下测试电池材料,直截了当地获取不断变化的储能材料和晶体结构和相位信息。广州点阵参数精确测量XRD衍射仪
婴儿爽身粉中石棉的定量分析引言含有滑石粉成分的化妆品常见的有各种润肤粉、美容粉、爽身粉等。因滑石粉具有阻隔红外线的作用,能增强这类化妆品的防晒和抗红外线的性能。所以,在日常生活中使用。由于石棉是滑石的伴生矿物,滑石粉中可能含有石棉。石棉纤维被人体吸入到肺会引起石棉肺恶性疾病,我国已明确把石棉列为化妆品禁用物质,用于化妆品生产的滑石粉必须经过检测不含石棉成分方可使用。判断滑石中是否存在石棉通常采用偏光或电子显微镜和X射线衍射相结合的办法。而石棉的定量分析一直是石棉分析中的一个难点,主要采用X射线衍射法。石棉定量采用基底修正法,具体操作步骤请参考:ØSN/T2549.2-2010:进出口化妆品中石棉的测定:第2部分:X射线衍射-偏光显微镜法ØISO22262-3_2016:QuantitativedeterminationofasbestosbyX-raydiffractionmethodØGB/T23263-2009:制品中石棉含量测定法广州点阵参数精确测量XRD衍射仪
D8DISCOVER是旗舰款多功能X射线衍射仪,带有诸多前沿技术组件。它专为在环境条件下和非环境条件下,对从粉末、非晶和多晶材料到外延多层薄膜等各种材料进行结构表征而设计。应用范围:1.定性相分析和定量相分析、结构测定和精修、微应变和微晶尺寸分析2.X射线反射法、掠入射衍射(GID)、面内衍射、高分辨率XRD、GISAXS、GI应力分析、晶体取向分析3.残余应力分析、织构和极图、微区X射线衍射、广角X射线散射(WAXS)4.总散射分析:Bragg衍射、对分布函数(PDF)、小角X射线散射(SAXS)UMC样品台通常用于分析大块样品、扫描测量应用和涂层分析,也能测量多个小样品或用于执行非环境实验...