产品介绍:
产品信息
Lewatit ® CNP 80是一类带具有标准粒径分布的丙烯酸基弱酸性大孔阳离子交换树脂。由于其非常高的全交换量和工作交换量，***的化学和机械稳定性能，高的抗渗透冲击性，可更好的用于脱碱作用。与强解离阳离子交换剂( Lewatit ® MonoPlus S 100)配置使用在脱矿系统中将有更高的再生效率。
因为Lewatit ® CNP 80只需要少量的过量酸再生，它可以经济地在下列应用领域中应用：
• 在顺流系统中进行工业用水的脱碱
• 与一种强酸性阳离子交换树脂（如： Lewatit ® MonoPlus S 100）联合使 用，在去阳离子系统中应用于水的脱矿。
• 去除暂时硬度（碳酸盐硬度）
• 应用于去除以氢氧根形式存在的钙的流速比较高达50m/h的脱矿系统（精制）中的顺流单床系统
• 在采水软化中做单过滤系统或者作为精制剂与Lewatit ® S 1467联合使用
• 其钠型结构用于从pH>5无钙离子和络合剂的电镀淋洗液中去除或者提取重金属如：铜，镍，锌 购买朗盛树脂认准原装产品。江苏正规朗盛树脂全国发货
产品信息 Lewatit ® MonoPlus M 600是一类基于苯乙烯-二乙烯苯共聚物，具有均一粒径分布(单分散)的强碱(II)凝胶阴离子交换树脂,可用于所有的脱矿物质应用。其单分散的颗粒有着高的化学和渗透稳定性。与其他非均一分布的树脂相比，其极高的单分散性(均一系数比较大1.1)和非常低的粉末含量( <0.400mm含量比较大0.1%)使之有特别低的压力损失。由于其优异的再生效率和高的工作交换量Lewatit ® MonoPlus M 600通常用于硅和二氧化碳含量中等的水处理中。对于硅浓度很高的溶液，推荐使用强碱(I)型阴离子交换树脂Lewatit ® MonoPlus M 500。江苏正规朗盛树脂全国发货朗盛树脂请使用正规产品。
产品介绍:
LEWATIT. MonoPlus S 108
产品信息
Lewatit . MonoPlus S 108 是一类基于苯乙烯－二乙烯基苯共聚物的具有均一尺寸（单分散）颗粒的强酸性凝胶型阳离子交换树脂，可用于所有的脱盐应用。均匀的颗粒具有化学稳定性和渗透稳定性。这个使得树脂在有氧化物存在的情况下或者外部再生的过程中自身的泄漏量非常低。
与标准粒径树脂比较，其极高的单分散性（均已系数比较大为1.1) 以及非常低的树脂粉末含量（<0.4mm 比较大含量为0.1%) 使其有特别低的压力损失。
Lewatit . MonoPlus S 108 主要应用领域是：
工业蒸汽发生器顺流系统中水的脱盐，或者用于现代逆流系统，
如：Lewatit . WS 系统，Lewatit . Liftbed 系统，Lewatit . Rinsebed 系统。
德国朗盛集团的离子交换树脂业务部是全球领先的离子交换树脂、吸附剂和功能聚合物生产商之一，隶属于朗盛高性能化学品业务板块。70年来，Lewatit一直是高性能产品的代名词。Lewatit为总共600多种不同的应用领域提供独特的产品解决方案。 众所周知，水处理是离子交换树脂**主要的应用领域，水处理包括工业水处理、水软化、水中矿物质去除、凝结水精处理、水中铬的去除/回收、地下水净化等。Lewatit其他重要的应用领域包括糖脱色、淀粉和明胶除灰、果汁脱苦、二次盐水净化、氯碱行业或为制药、生物制药和生物柴油量身定制解决方案。朗盛树脂上海纯超环保货真价实。
LEWATIT® MonoPlus S 100 产品信息 Lewatit ® MonoPlus S 100是一类基于苯乙烯-二乙烯基苯共聚物的具有均一尺寸(单分散)颗粒的强酸性凝胶型阳离子交换树脂，可用于所有的脱盐应用。均匀的颗粒具有化学稳定性和渗透稳定性。与标准粒径树脂比较，其极高的单分散性(均已系数比较大为1.1)以及非常低的树脂粉末含量( <0.4mm比较大含量为0.1%)使其有特别低的压力损失。 Lewatit ® MonoPlus S 100主要应用领域是： • 工业蒸汽发生器顺流系统中水的脱盐，或者用于现代逆流系统，如： Lewatit ® WS 系统，Lewatit ® Liftbed 系统，Lewatit ® Rinsebed 系统。 朗盛树脂上海纯超环保服务放心可靠。江苏正规朗盛树脂全国发货
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TP 207是一类带有螯合的亚氨基二乙酸官能团的弱酸性大孔阳离
子交换树脂，它可以从弱酸性溶液中选择性提取*阳离子到弱碱性溶液
中。从中性水溶液中去除二价阳离子依据下列选择性顺序：
Cu2+>VO 2+>UO2 2+>Pb2+>Ni2+>Zn2+>Cd2+>Fe2+>Be2+>Mn2+>Ca2+>Mg2+>Sr2+>Ba
2+>Na+
TP 207 是标准粒径分布的。其好的化学和机械稳定性使之特别适
用于下列应用：
?从金属表面修饰工厂废水中，甚至在存在高浓度钙离子的情况下，选择性去除痕量*
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