对准双光子光刻技术(A2PL®)是Nanoscribe基于双光子聚合（2PP）的一种新型专利纳米微纳制造技术。该技术可以将打印的结构自动对准到光纤和光子芯片上，例如用于光子封装中的光学互连。同时高精度检测系统还可以识别基准点或拓扑基底特征，确保对3D打印进行高度精确的对准。Nanoscribe对准双光可光刻技术搭配nanoPrintX，一种基于场景图概念的软件工具，可用于定义对准3D打印的打印项目。树状数据结构提供了所有与打印相关的对象和操作的分层组织，用于定义何时、何地、以及如何进行打印。在nanoPrintX中可以定义单个对准标记以及基板特征，例如芯片边缘和光纤表面。使用QuantumXalign系统的共焦单元或光纤照明单元，可以识别这些特定的基板标记，并将其与在nanoPrintX中定义的数字模型进行匹配。对准双光子光刻技术和nanoPrintX软件是QuantumXalign系统的标配。Nanoscribe公司的系列产品是基于双光子聚合原理的高精度微纳3D打印系统。内蒙古2PP双光子聚合技术
作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统，QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点，同时缩短创新微纳光学器件（如衍射和折射光学器件）的整体制造时间。Nanoscribe的QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制作，即一步打印多级衍射光学元件，并以经济高效的方法将多达4,096层的设计加工成离散的或准连续的拓扑。内蒙古2PP双光子聚合技术Nanoscribe中国分公司-纳糯三维邀您一起探讨什么是双光子聚合微纳加工系统。
双光子聚合技术是一种高精度、高效率的微纳加工技术，具有以下优势特点：高精度和高分辨率：双光子聚合技术可以实现亚微米甚至纳米级的分辨率，使得制造出的微纳结构更加精细。这是因为它利用双光子吸收过程，将激光束聚焦到非常小的体积内，从而实现了高精度的加工。三维加工能力：由于双光子聚合技术可以在聚合物体积内部进行光刻，因此可以实现复杂的三维结构制造，如微型光学元件、微流体芯片等。这一特点使得它在微纳制造领域具有广泛的应用前景。无需光掩膜：传统的光刻技术需要使用光掩膜进行图案转移，而双光子聚合技术可以直接通过计算机控制激光束的位置和强度来实现图案的制造，无需光掩膜。这不仅降低了制造成本，还缩短了制造周期。材料多样性：双光子聚合技术可以使用各种不同类型的光敏树脂作为加工材料，从而可以制造出各种不同性质和功能的微纳结构。这为微纳制造提供了更多的选择和灵活性。高效加工速度：双光子聚合技术具有较高的加工速度，可以在短时间内制造出复杂的三维结构。这使得它在工业生产中具有较高的效率和竞争力。易于控制和修改：双光子聚合的加工环境和参数易于控制，可以轻松修改得到所需的结构。
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状：晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。PhotonicProfessionalGT2结合了设计的灵活性和操控的简洁性，以及比较广的材料-基板选择。因此，它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备，适用于多用户共享平台和研究实验室。Nanoscribe的3D无掩模光刻机目前已经分布在30多个国家的前沿研究中，超过1,000个开创性科学研究项目是这项技术强大的设计和制造能力的特别好证明。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程，实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造，可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。PhotonicProfessionalGT2系统可以实现精度上限的3D打印，突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以比较广的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。
Nanoscribe中国分公司-纳糯三维邀您一起探讨国内在双光子聚合技术领域的未来发展。
QuantumXshape是一款真正意义上的全能机型。基于双光子聚合技术，该激光直写系统不只是快速成型制作的特别好的机型，同时适用于基于晶圆上的任何亚微米精度的2.5D及3D形状的规模化生产。QuantumXshape在3D微纳加工领域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有赖于其高能力的体素调制比和超精细处理网格，从而实现亚体素的尺寸控制。此外，受益于双光子灰度光刻对体素的微调，该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑，同时保持高精度的形状控制Nanoscribe中国分公司-纳糯三维为您揭秘什么是飞秒激光双光子聚合纳米光刻。内蒙古2PP双光子聚合技术
Nanoscribe双光子聚合技术具有高设计自由度和高精度。内蒙古2PP双光子聚合技术
Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。在全球顶端大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。作为基于双光子聚合技术（2PP）的微纳加工领域市场带领者，Nanoscribe在全球30多个国家拥有各科领域的客户群体。基于2PP微纳加工技术方面的专业知识，Nanoscribe为顶端科学研究和工业创新提供强大的技术支持，并推动生物打印、微流体、微纳光学、微机械、生物医学工程和集成光子学技术等不同领域的发展。“我们非常期待加入CELLINK集团，共同探索双光子聚合技术在未来所带来的更大机遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler说道内蒙古2PP双光子聚合技术
