晶圆光刻、曝光后光刻胶去除是半导体清洗工序，传统剥离剂腐蚀性强易损伤晶圆氧化层，东莞市东航清洗材料有限公司研发温和型光刻胶水基清洗剂。这款清洗剂高分子剥离因子溶解正负型光刻胶，无强酸碱腐蚀，8 寸、12 寸硅片、碳化硅晶圆均可使用，清洗后晶圆表面无胶渣、无颗粒残留，金属离子析出低于 1ppb，满足芯...

半水系清洗剂作为兼顾水基与溶剂型优势的新型产品，在电子封测、光学元件等高级场景中需求激增。东航结合中外合资的技术优势，通过微乳化技术打造的半水系清洗剂，实现了“高效去污+易漂洗+低残留”的三重突破。该清洗剂以丙二醇甲醚为关键溶剂，搭配专门的表面活性剂，既能溶解有机污染物，又能与水快速融合，漂洗过程无...

汽车零部件生产过程中，发动机缸体、变速箱壳体等铸件表面常附着铸造砂、防锈油、切削屑等混合污渍，传统清洁方式难以实现高效彻底的处理。清洗剂的出现为汽车零部件行业提供了高效的清洁解决方案，东航清洗材料研发的汽车零部件清洗剂，采用复合螯合配方，能够快速分解铸造砂与金属碎屑的结合体，同时乳化各类防锈油脂，实...