基底材料影响1. 基底类型：金属（Al/Cu）：易被酸腐蚀，需改用中性溶剂。 聚合物（PI/PDMS）：有机溶剂易致溶胀变形。 解决方案：金属基底使用乙醇胺基剥离液；聚合物基底采用低温氧等离子体剥离。2. 表面处理状态：HMDS涂层：增强胶层附着力，但增加剥离...

2025/11/11 查看详细

在过滤过程中，要密切关注机器的运行状态，定期观察出油口的油品质量，以及过滤介质上积累的杂质情况。一旦发现过滤效果下降或杂质积累过多，应及时停机更换新的过滤介质，以保证持续高效的过滤效果。此外，化妆品油过滤机使用后，还需进行妥善的维护与保养。包括清洗机器内外，去...

2025/10/27 查看详细

初始压差反映新过滤器的流动阻力，通常在0.01-0.05MPa范围内。低压差设计有利于保持稳定涂布，特别是对于高粘度光刻胶或低压分配系统。但需注意，过低的初始压差可能意味着孔隙率过高而影响过滤精度。容尘量与寿命决定过滤器的更换频率。深度过滤器通常比膜式过滤器具...

2025/08/22 查看详细

光刻胶过滤器是一种专门设计用于去除光刻胶中的颗粒物、气泡和其他杂质的设备，以确保光刻胶的纯净度和质量。在半导体制造和微电子加工中，光刻胶的纯净度直接影响到芯片的良率和性能。滤袋：1. 作用：用于去除光刻胶中的颗粒物和杂质，适用于大流量过滤。2. 材料：常见的滤...

2025/07/21 查看详细