05.02

在气相沉积过程中，基体表面的状态对薄膜的生长和性能具有明显影响。因此，在气相沉积前，对基体进行预处理，如清洗、活化等，是提高薄膜质量和性能的关键步骤。气相沉积技术能够制备出具有特定结构和功能的纳米材料...

04.12

在微电子打线和焊线过程中，等离子射流技术也展现出了其独特的优势。通过使用氩气等工艺气体产生等离子体，可以清理焊盘表面的有机污染物和氧化物，从而提高打线和焊线时的可靠性，减少因表面污染导致的连接不良或失...

03.11

热等离子体是由高温、高密度的电离气体组成的物质，是一种特殊的物态。在热等离子体中，气体分子被高能电子撞击后失去了部分电子，形成了带正电荷的离子和带负电荷的自由电子。这些离子和自由电子之间的相互作用导致...

01.27

臭气处理设备是一种专门用于处理污水、垃圾、化工等行业产生的臭气的设备。臭气处理设备的主要作用是将产生的臭气进行处理，使其达到国家标准排放要求，从而减少对环境的污染和对人体健康的影响。臭气处理设备的种类...

01.07

臭氧发生器是用于将氧气转化为臭氧的关键设备。臭氧是一种强氧化剂，可以有效地分解废气中的有机污染物，并将其转化为无害的物质。活性炭吸附器是用于吸附废气中剩余的臭气成分的关键设备。活性炭是一种具有高吸附性...

12.02

随着气相沉积技术的不断发展，新型的沉积方法和设备也不断涌现。例如，多源共蒸发技术可以实现多种材料的同时沉积，制备出多组分的复合薄膜；而等离子体辅助气相沉积技术则可以利用等离子体的高能量和高活性，提高薄...

11.08

等离子体射流的空间特性包括轴向和径向两个方向。等离子体射流的轴向结构包括射流的连续性、暗通道特性，以及多行为。而等离子体射流的径向结构中特性为等离子体的空心环结构。 等离子体射流的时间分辨特...

06.22

等离子体射流在化学合成领域的应用日益广。通过利用等离子体射流产生的高能粒子，可以加速化学反应进程，提高合成效率和产物纯度，为化学工业的发展提供了有力支持。在微电子制造领域，等离子体射流技术以其高精度和...

06.05

物理处理设备是利用物理方法将有害物质和异味分离、吸附或过滤的设备。物理处理设备的特点是处理效率高、操作简单、对环境友好。物理处理设备适用于处理含有粉尘、油雾等固体和液体颗粒的废气。物理处理设备主要包括...

04.18

气相沉积技术作为现代材料制备的重要手段，在半导体工业中发挥着举足轻重的作用。通过精确控制气相反应条件，可以制备出具有特定晶体结构、电子性能和稳定性的薄膜材料。这些薄膜材料在集成电路、光电器件等领域...

04.10

在环境治理领域，等离子体射流技术为污水处理和废气治理提供了新的解决方案。通过利用等离子体射流产生的高能粒子，可以有效去除污水和废气中的有害物质，改善环境质量。等离子体射流在材料表面改性方面有着独特的应...

01.25

垃圾处理和污水处理行业也是臭气处理设备的重要应用领域。垃圾堆放和污水处理过程中会产生大量的异味和臭气，对周围环境和居民的生活质量造成不良影响。使用合适的臭气处理设备可以有效地消除或减少这些异味和臭气，...