制造工艺涉及光刻、蚀刻、离子注入等关键步骤，先进制程如台积电3纳米技术已应用于AI芯片制造 [2] [10]。先进封装技术如2.5D/3D封装和晶圆级封装（WLP）成为提升芯片性能的关键，例如盛合晶微实现了2.5D硅基封装的大规模量产 [7] [30]。新材料应用包括碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN...

集成电路产品主要为芯片，按功能主要可分为逻辑器件（芯片）、微处理器、模拟器件（芯片）和存储器件（芯片）四种。逻辑芯片指包含逻辑关系，以二进制为原理，实现运算与逻辑判断功能的集成电路，主要包括**处理器（CPU）、图形处理器（GPU）、可编辑逻辑器件（FPGA）和定制化ASIC芯片。微处理器常见的有微...

测试机经过了近60年的发展，从上世纪60年代的针对简单器件的低管脚数、低速测试系统逐步发展到适用于大规模、超大规模IC的高速测试系统 [14]。半导体测试设备自1990年至今可分为功能时代、效率时代和新兴时代三个发展阶段 [34]。20世纪70年代爱德万推出首台10MHz IC测试系统，1976年研...

晶体管发明并大量生产之后，各式固态半导体组件如二极管、晶体管等大量使用，取代了真空管在电路中的功能与角色。到了20世纪中后期半导体制造技术进步，使得集成电路成为可能。相对于手工组装电路使用个别的分立电子组件，集成电路可以把很大数量的微晶体管集成到一个小芯片，是一个巨大的进步。集成电路的规模生产能力，...

国产设备在先进工艺上取得突破，如中微公司的3nm刻蚀设备已实现量产 [12]；上海微电子、北方华创、拓荆科技等厂商的设备已进入产线验证与批量上机阶段 [15]。在国产替代政策推动下，中国半导体设备行业快速发展 [2]。国际环境中，美国等国家对华实施半导体制造设备出口管制 [8]；美国MATCH法案进...

光电探测器光电探测器的功能是把微弱的光信号转换成电信号，然后经过放大器将电信号放大，从而达到检测光信号的目的。光敏电阻是**早发展的一种光电探测器。它利用了半导体受光照后电阻变小的效应。此外，光电二极管、光电池都可以用作光电探测元件。十分微弱的光信号，可以用雪崩光电二极管来探测。它是把一个PN结偏置...

2025年至2026年初，全球集成电路芯片市场在AI算力、汽车电子、先进存储等需求的驱动下呈现复苏与结构性增长态势 [6] [22]。高性能计算芯片、车规级芯片及先进封装技术成为市场关注焦点 [6] [20] [30]。性能评测与突破2026年2月，国际**组织SPEC公布的测试结果显示，基于海光C...

光刻技术光刻作为微细加工技术的基石，通过缩短所用光源的波长来提高其分辨率。其发展路径为：G线（436nm）→ I线（365nm）→ KrF（248nm）→ ArF（193nm）。随着ArF浸没式光刻技术的引入，分辨率也得到了提高。EUV（极紫外）光刻技术为7nm以上逻辑器件小型化开辟了道路 [9]。...

***部分：用字母表示器件使用的材料。A-器件使用材料的禁带宽度Eg=0.6～1.0eV 如锗、B-器件使用材料的Eg=1.0～1.3eV 如硅、C-器件使用材料的Eg>1.3eV 如砷化镓、D-器件使用材料的Eg<0.6eV 如锑化铟、E-器件使用复合材料及光电池使用的材料第二部分：用字母表示器件...

在MOS器件的基础上,又发展出一种电荷耦合器件 (CCD)，它是以半导体表面附近存储的电荷作为信息，控制表面附近的势阱使电荷在表面附近向某一方向转移。这种器件通常可以用作延迟线和存储器等；配上光电二极管列阵，可用作摄像管。中国半导体器件型号命名方法半导体器件型号由五部分（场效应器件、半导体特殊器件、...

产品等级的界定主要依据产品的外包装，将等级按字母顺序由A到E排列：A1级：原厂生产，原包装,防静电包装完整 （说明：来源于正规渠道或**分销商，在规定质保期内，产品可靠性比较高。即“全新原装货品”）A2级：原厂生产，原包装,防静电包装不完整，已经被打开 （说明：来源于正规渠道或**分销商，在规定质保...

第三部分：用数字或字母加数字表示登记号。三位数字-**通用半导体器件的登记序号、一个字母加二位数字-表示**半导体器件的登记序号。第四部分：用字母对同一类型号器件进行分档。A、B、C、D、E┄┄-表示同一型号的器件按某一参数进行分档的标志。除四个基本部分外，有时还加后缀，以区别特性或进一步分类。常见...

制造工艺涉及光刻、蚀刻、离子注入等关键步骤，先进制程如台积电3纳米技术已应用于AI芯片制造 [2] [10]。先进封装技术如2.5D/3D封装和晶圆级封装（WLP）成为提升芯片性能的关键，例如盛合晶微实现了2.5D硅基封装的大规模量产 [7] [30]。新材料应用包括碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN...

至2025-2026年，触摸芯片技术持续向集成化、高性能和多元化应用场景演进 [7]。一方面，触控与显示驱动集成技术正扩展至OLED屏幕应用。另一方面，为适应PC、平板等中大尺寸设备的需求，中大尺寸触控芯片及主动笔方案的出货量***提升。此外，触觉反馈技术也取得进展，搭载自适应触觉增强算法的智能触觉...

SEMI指出，在AI算力及全球数字化经济驱动下，原定于2030年达到的万亿美元半导体产业规模，可能提前至2026年底实现 [2]。中国半导体行业协会统计，中国集成电路产业销售额从2014年的3015亿元增长至2024年的14313亿元，年复合增长率为16.85% [1]。SEMI预计，2025年全球...

根据2023-2024年芯片热搜榜单，电源管理芯片如UC3842、LM358、TL431，以及微控制器（MCU）如意法半导体的STM32系列，是市场上备受关注的热门产品型号。 [19]2025年全球半导体市场规模预计达7720亿至7838亿美元，同比增长22%至23.4%，2026年市场规模有望突破...

芯片产业链中，设备和材料都处在**上游，是推动整个行业技术进步的关键环节，如果把芯片制造比作印刷，设备就是“印刷机”，材料就是“纸墨”，没有它们，再好的芯片设计也只是空中楼阁 [3]。在AI芯片产业链中，半导体设备与材料是AI算力的重要环节 [5]。当前，随着国产半导体设备与材料的技术成熟度、先进性...

中型集成电路（MSI英文全名为Medium Scale Integration）逻辑门11~100个或 晶体管101~1k个。大规模集成电路（LSI英文全名为Large Scale Integration）逻辑门101~1k个或 晶体管1,001~10k个。超大规模集成电路（VLSI英文全名为Ver...

在架构设计阶段，需根据应用场景选择合适的处理器指令集架构，全球主流的芯片架构主要有四种：X86架构由美国INTEL公司在1978年发明，特点是性能高，速度快，兼容性好；ARM架构由英国ARM公司在1983年发明，是一个32位精简指令集处理器架构，由于能耗低、成本低的特点，非常适用于移动通讯领域；RI...

20世纪70年代，随着大规模集成（LSI）芯片成本降低，被广泛应用于消费电子领域，直接促进了家用游戏机（如Magnavox Odyssey系列、Atari乒乓球系统）和街机游戏的诞生与普及，为电子游戏文化的兴起奠定了硬件基础 [34]。中国科学院院士刘明指出，集成电路的持续进步高度依赖于基础科学的突...

AI算力需求激增、先进逻辑与存储芯片产能扩张，是驱动半导体设备市场增长的**动力 [1]。从AI芯片制造所需的薄膜沉积、刻蚀设备，到先进封装所需的焊接、测试设备，产业链正迎来新一轮需求高峰 [11]。同时，“摩尔定律”持续推进对设备精度和复杂度提出更高要求，如EUV及高数值孔径EUV光刻技术的应用，...

制造工艺涉及光刻、蚀刻、离子注入等关键步骤，先进制程如台积电3纳米技术已应用于AI芯片制造 [2] [10]。先进封装技术如2.5D/3D封装和晶圆级封装（WLP）成为提升芯片性能的关键，例如盛合晶微实现了2.5D硅基封装的大规模量产 [7] [30]。新材料应用包括碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN...

此方法简单却并不适用于冗余较多的大规模的集成电路。若缺陷出现在冗余部分就无法被检测出来。而且当电路规模较大时，测试向量集也会成倍增长，这会直接导致测试向量的生成难且诊断效率低下等问题。此外，如果故障只影响电路性能而非电路逻辑功能时，电压诊断也无法检测出来。由于集成电路输出的电压逻辑值并不一定与电路中...

半导体制造设备处于产业链中游，连接上游的**零部件、材料与子系统供应商，以及下游的晶圆制造、封装与测试厂商 [5]。设备的技术水平、性能及稳定性直接决定了芯片的制造能力与**终质量 [2]。上游**零部件种类繁多，技术壁垒高，主要包括陶瓷部件（如静电吸盘、聚焦环、气体分散盘等）、射频电源、真空泵、阀...

在国产替代政策推动下，中国半导体设备行业迎来机遇，在此背景下，本土晶圆厂出于供应链安全考量，对国产设备的验证及导入意愿增强 [13]。产业界亦通过举办展会等活动构建生态、应对挑战。例如，2026年5月举办的杭州国际半导体与集成电路产业创新展览会（杭州长芯展）举办了相关论坛和对接活动，聚焦国产化替代、...

光刻机对分辨率、对准精度、曝光方式和光源波长等方面有着极高的要求。 [3]光刻技术沿着缩短光源波长的路径发展：从G线（436nm）、I线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）到极紫外（EUV，13.5nm）。EUV光刻技术是7nm及以下先进逻辑芯片制造的关键。 [9]荷兰公司AS...

半导体制造设备处于产业链中游，连接上游的**零部件、材料与子系统供应商，以及下游的晶圆制造、封装与测试厂商 [5]。设备的技术水平、性能及稳定性直接决定了芯片的制造能力与**终质量 [2]。上游**零部件种类繁多，技术壁垒高，主要包括陶瓷部件（如静电吸盘、聚焦环、气体分散盘等）、射频电源、真空泵、阀...

今年是摩尔法则(Moore’slaw)问世50周年，这一法则的诞生是半导体技术发展史上的一个里程碑。这50年里，摩尔法则成为了信息技术发展的指路明灯。计算机从神秘不可近的庞然大物变成多数人都不可或缺的工具，信息技术由实验室进入无数个普通家庭，因特网将全世界联系起来，多媒体视听设备丰富着每个人的生活。...

光电池当光线投射到一个PN结上时，由光激发的电子空穴对受到PN结附近的内在电场的作用而向相反方向分离，因此在PN结两端产生一个电动势，这就成为一个光电池。把日光转换成电能的日光电池很受人们重视。较早应用的日光电池都是用硅单晶制造的，成本太高，不能大量推广使用。国际上都在寻找成本低的日光电池，用的材料...

二、按功能结构分类：集成电路按其功能、结构的不同，可以分为模拟集成电路和数字集成电路两大类。三、按制作工艺分类：集成电路按制作工艺可分为单片集成电路和混合集成电路，混合集成电路有分为厚膜集成电路和薄膜集成电路。四、按导电类型不同分类：集成电路按导电类型可分为双极型集成电路和单极型集成电路。双极型集成...