高纯气体管道是高纯气体供气系统的重要组成部分,是将符合要求的高纯气体送至用气点仍保持质量合格的关键,包括系统的设计、管件及附件的选择、施工安装和试验测试等内容。近年来微电子产品生产对高纯气体的纯度和杂质含量的日益严格的要求,使高纯气体的配管技术日益受到关注和重视。高纯气体管道输送管道,要根据工艺过程对气体纯度、允许的杂质含量、微粒含量等的... 【查看详情】
大宗特气系统的自动控制与监控系统是实现精细供应与安全保障的重要支撑。该系统通过各类传感器实时采集气体的压力、流量、纯度、温度等关键参数,并将数据传输至控制系统。控制系统根据预设的参数范围,对阀门、泵等设备进行自动调控,确保气体供应的压力与流量稳定。同时,监控系统会对各类参数进行实时监测,一旦发现参数超出正常范围或出现异常情况,立即发出报警... 【查看详情】
大宗特气供应系统主要适用于:Semiconductor、TFT、SunSolar等工厂特气的集中供气。大宗特气系统作为半导体生产过程中必不可少的系统,高纯气体系统直接影响全厂生产的运行和产品的质量。相比较而言,集成电路芯片制造厂由于工艺技术难度更高、生产过程更为复杂,因而所需的气体种类更多、品质要求更高、用量更大,也就更具代表性。,此系统... 【查看详情】
监测惰性、可燃性、有毒性气体泄漏的监测控制系统。系统基于开放的系统结构,具备与其他品牌的系统设备(平台)通过工业标准通讯、平台和协议实现集成和信息交换,协议包括MODBUS、TCP/IP和OPC。系统由安装在现场的可燃/有毒气体探测器和安装在控制室内的控制单元、数据采集模块、工作站等组成。通过数据采集模块对现场检测器实施数据采集,并通过通... 【查看详情】
大宗特气系统的自动控制与监控系统是实现精细供应与安全保障的重要支撑。该系统通过各类传感器实时采集气体的压力、流量、纯度、温度等关键参数,并将数据传输至控制系统。控制系统根据预设的参数范围,对阀门、泵等设备进行自动调控,确保气体供应的压力与流量稳定。同时,监控系统会对各类参数进行实时监测,一旦发现参数超出正常范围或出现异常情况,立即发出报警... 【查看详情】
工业气体按组份可分为单一品种气体的工业纯气和二元或多元气体的工业混合气。国家标准《瓶装压缩气体分类》(GB16163-1996)中,根据工业纯气在气瓶内的物理状态和临界温度进行分类,并按其化学性能,燃烧性、毒性、腐蚀性进行分组。第1类为长久气体,其临界温度〈-10℃,在充装时以及在允许的工作温度下储运和使用过程中均为气态,分为a、b两组:... 【查看详情】
生物制药管道系统提供全方面的生物制药管道工程、纯水管道、纯蒸汽管道、洁净压缩空气管道、无菌工艺管道、工艺模块、工艺设备等的现场安装、调试服务。废气处理特性半导体工艺中常使用的化学物质及其副产物,一般依照其化学特性与其不同的影响范围,可分为:1.易燃性气体如SiH4、H2等2.毒性气体如AsH3、PH3等3.腐蚀性气体如HF、HCl等4.温... 【查看详情】
实验室气体报警:一个现代化的实验室,安全必须放在前面。由于气瓶全部是集中存放,方便用户集中检查,节省成本和操作时间的同时,也当然存在安全隐患,但如果预警措施、安全措施到位的话,危险是可以避免的!为用户节省些不必要的损失:易燃气体报警:如果气瓶是集中存放的话,可以节少成本,用户只需在实验室的角落安装一个气体泄漏报警/易燃气体探头,如果气瓶房... 【查看详情】
实验室供气系统,是现在一种普遍被采用的供气方式,它主要是由气源,切换装置,调压装置,终端用气点,监控及报警装置组成。简单来说,实验室集中供气系统就是将所有气瓶集中存放在气瓶房,通过气瓶减压阀将气体输送到各个实验室(即仪器端)的系统。实验室集中供气系统操作原理:实验室供气有二级减压和多级减压,二级减压即气瓶端采用一级减压阀和末端采用一级减压... 【查看详情】
尾气处理系统: 半导体工艺废气处理方式依据废气处理的特性,在处理可分为四种处理方式:1、水洗式(处理腐蚀性气体)2、氧化式(处理燃烧性,毒性气体3、吸附式(干式)(依照吸附材种类处理对应之废气)4、等离子燃烧式(各类型废气皆可处理)Scrubber尾气处理装置可处理的气体种类包括半导体、液晶以及太阳能等行业中蚀刻制程与化学气相沉... 【查看详情】
高压液化气体临界温度≥-10℃、且≤70℃,在充装时为液态,但在允许的工作温度下储运和使用过程中随着温度升高至临界温度时即蒸发为气态,分为a、b、c三组:a组为不燃无毒和不燃有毒气体(包括二氧化碳);b组为可燃无毒和自燃有毒气体;c组为易分解或聚合的可燃气体。低压液化气体临界温度〉70℃,在充装时以及在允许的工作温度下储运和使用过程中均为... 【查看详情】