电子行业的芯片生产冷却系统，在高精密加工过程中，冷却水需持续为设备降温以保证芯片精度。但长期运行后，冷却水浓缩易在换热器内形成细微水垢和微生物黏泥，这些杂质会影响换热效率，导致设备温度波动，进而造成芯片良率下降，给企业带来巨大损失。森纳斯提供化学清洗 + 物理清洗的组合型清洗方案，化学清洗采用基于 300 + 案例研发的自研除垢清洗剂，能... 【查看详情】

冶金冷却系统由于需要冷却大量高温设备，冷却水的使用频率高、用量大，长期运行后，管道内易形成坚硬的钙镁水垢，这些水垢会堵塞管道，导致冷却水流速降低，无法及时带走设备热量，可能引发设备过载运行，缩短设备使用寿命。森纳斯采用化学清洗 + 物理清洗的组合清洗方案，化学清洗的自研药剂对钙镁等多种类难溶垢有很好的溶解和剥离效果，能无死角清洁管道，且不... 【查看详情】

冶金冷却系统长期运行中，循环水蒸发导致浓缩水垢和微生物沉积，换热器堵塞严重，降低生产效率。森纳斯提供化学+物理双重清洗方案，化学清洗剂针对各种难溶垢精细溶解，物理清洗设备深入管道和换热器死角彻底去除污物。我们拥有15年1000+现场服务经验，能够快速诊断系统问题并提供量身定制方案。森纳斯清洗剂基于300+案例研发，适用各类膜、蒸发器及冷却... 【查看详情】

空调冷却水系统在长期运行中，因水分不断蒸发浓缩，管道和换热器内易结厚厚的水垢，还会滋生大量藻类，导致冷却效率大幅下降，影响空调正常运行。森纳斯提供化学清洗 + 物理清洗的组合型清洗方案，化学清洗采用自研针对药剂配方，能无死角且不损伤设备地溶解和剥离多种类难溶垢，物理清洗则配合精细化专业设备去除顽固杂质，确保去除每一个死角。我们拥有 15 ... 【查看详情】

硅垢是膜处理与蒸发系统中比较难去除的垢类之一，其主要由聚合硅酸盐及金属硅复合物构成，具有硬度高、黏附强、化学清洗困难等特点。一旦形成硅垢，不只会造成膜通量快速下降、蒸发器传热效率降低，还会导致系统压差升高、能耗增加，甚至引发设备堵塞与损坏。针对这一行业难题，森纳斯高硅阻垢剂采用有机膦酸与特殊聚羧酸的协同体系，通过在反应早期有效阻断硅酸聚合... 【查看详情】

当废水中含盐量高、有机组分复杂时，结晶阶段常出现“盐析不全”现象，造成母液含盐量居高不下，不仅影响结晶效率，还容易导致系统黏度上升、物料输送困难、能耗增加等问题。森纳斯降粘分散剂能从体系结构上入手，改善溶液的微观分布状态，使结晶析出过程更加充分与稳定。其独特的高分子分散体系能在溶液中形成空间网络，促进微小晶核的均匀生长，并有效阻止有机物对... 【查看详情】

生物质燃料锅炉燃烧时，炉膛温度可达 800-1000℃，锅炉水管温度常维持在 150-250℃，瞬时温度易超 300℃。常规阻垢剂在高温下迅速失效，导致水管内壁结垢，传热效率下降 25%，还可能引发水管腐蚀。森纳斯高温阻垢剂耐瞬时高温 450℃，能承受生物质锅炉的高温环境，添加量只 3mg/L，可有效分散水中杂质离子，预防水垢与腐蚀。其稳... 【查看详情】

在矿物质废水或工业浓缩液中，钙、镁、硫酸盐和碳酸盐等离子往往同时存在，高温浓缩下易形成混合结垢，结构坚硬且难以去除。这类结垢不只降低传热效率，还增加设备维护难度。森纳斯阻垢剂采用多功能复合配方，能够同时对多种离子发挥螯合、分散和晶体调控作用，有效抑制混合垢生成。工业应用显示，使用阻垢剂后，蒸发器加热面保持清洁，清洗周期明显延长，物料流动性... 【查看详情】

膜结垢是制约系统能效与寿命的主要因素，其中硅垢尤为顽固。高硅地下水及浓缩废水在膜端形成的硅垢，不只清洗困难，还常导致膜元件提前更换，增加运维负担和能耗成本。对于企业而言，防垢比清垢更具价值。森纳斯高硅阻垢剂以其优异的分散稳定性能，帮助用户有效延长膜系统清洗周期，实现明显的节能与成本优化。其独特配方可使反渗透膜在二氧化硅浓度300ppm条件... 【查看详情】

在蒸发器浓缩阶段的后期，客户常常面临物料高粘度导致泵送困难、管线堵塞、出料不顺、设备频繁停机等问题。这不仅影响生产连续性，还增加了人工清理成本和设备维护压力，严重制约了系统的处理能力和效率。传统处理方法往往无法彻底解决高粘度物料排放问题，系统稳定性难以保障。针对这一痛点，森纳斯推出了降粘分散剂解决方案。产品通过特殊分散基团与极性有机分子协... 【查看详情】

染料废水蒸发浓缩后，物料粘稠、含胶体高，且干化速度慢，晶体易团聚，导致出料困难和干化能耗高。森纳斯染料废水蒸发蓬松分散剂通过降低粘度、疏松晶体结构，使晶体颗粒均匀细小，水分蒸发加快，干化顺畅。我们凭借多年染料废水处理研发经验和现场验证，确保产品在高有机、高粘稠环境下长期稳定发挥作用。应用后，干化含水率降低50%以上，干化时间缩短，结晶颗粒... 【查看详情】

涉水领域尝尝会遇到硅垢问题，常见于地下水的净化领域，高含量的二氧化硅和硅酸盐难溶垢会成为堵膜的关键因素，而且硅垢较难清洗，所以硅垢的预防尤为重要。森纳斯研发的高硅阻垢剂，该阻垢剂对硅酸钙、硅酸镁等复杂混合型硅垢也具有明显的抑制效果。产品具有添加量少、相容性强、与各类膜材料匹配性好的特点，可在不影响膜性能的前提下延长清洗周期，降低运行成本。... 【查看详情】