制药行业对设备清洁度要求极高，反应罐及浓缩设备常因水垢和药渣沉积导致加热效率下降或交叉污染风险增加。森纳斯固体清洗剂粉末化高浓度设计，可现场按比例溶解成清洗液，快速渗透难溶垢层并分散沉积颗粒，实现高效去垢。固体形式便于远程运输和安全储存，减少对液体药剂的依赖。复合配方兼具缓蚀特性，可保护罐体材质，延长设备使用寿命。应用后，设备热效率恢复，... 【查看详情】

盐化工行业在卤水蒸发、母液回收、废液处理等环节中常因硫酸钙结垢导致设备换热性能下降。森纳斯几款硫酸钙清洗剂针对不同工况开发，能在不损伤设备的前提下，彻底分解垢层。产品采用多段溶垢反应机理，先破坏结晶层键合，再通过络合与分散作用将钙离子稳定溶解，确保“清洗干净不返垢”。其明显卖点在于不产生二次沉淀物，清洗后系统无需再用高压水冲洗，可直接复机... 【查看详情】

在以地下水为水源的工业用水系统中，因含钙、镁离子浓度高，硫酸钙垢常在换热设备与膜表面形成。森纳斯硫酸钙清洗剂可安全地溶解此类垢层，不损伤膜材与金属表面。其配方中加入稳定型螯合基团与离子转移剂，可使CaSO₄晶格彻底破裂并转化为可溶络合物。产品卖点在于清洗后系统恢复时间短、无二次沉淀风险。该清洗剂已在多地海水淡化及中水回用项目中成功使用，帮... 【查看详情】

在高盐废水蒸发过程中，盐液中常含有大量胶体、有机物和高分子杂质，导致盐液脱胶困难，浓缩物粘稠，下料不畅，干化效率低。森纳斯蒸盐脱胶剂通过破坏胶体结构、降低物料黏度，使盐液顺利脱胶，防止下料口堵塞。我们拥有多年高盐废水处理研发经验，并在多家工业现场验证产品性能，确保高盐、高有机物废水下长期稳定发挥作用。应用后，浓缩物顺畅出料，结晶颗粒疏松均... 【查看详情】

化工生产中，反应釜经常会因高温、高浓度反应物形成结晶或难溶垢，尤其是硫化物、硫酸盐和碳酸盐垢，一旦附着，清洗难度极大。森纳斯难溶垢清洗剂通过独特的溶解+剥离+分散技术，能够迅速破坏垢层结构，使顽固垢松散脱落。无论是酸性或碱性沉积物，还是复合混合垢，森纳斯都能高效作用，并且对设备材质无腐蚀风险，确保反应釜长期安全使用。应用过程中，该清洗剂不... 【查看详情】

制药行业的反应罐、浓缩罐和干燥设备，因药液沉积或高温结晶，容易形成多种复合垢，传统酸碱清洗往往效率低且易损伤设备。森纳斯难溶垢清洗剂专为复杂结垢设计，可快速溶解药液残留的难溶垢，同时分散剥离，减少设备停机时间。清洗剂对不锈钢、玻璃内衬及搅拌器安全无害，保证制药设备生产安全与卫生。使用森纳斯清洗剂后，可显著提高设备洁净度，确保药品质量，同时... 【查看详情】

危废行业高浓度废水常含大量有机物、重金属离子及胶体物质，蒸发过程中容易在管路、蒸发器底部形成高粘度滞留物，导致堵塞和系统停机频繁，增加清洗和维护成本，严重影响生产连续性。森纳斯蓬松分散剂专为复杂废水设计，通过分散高分子有机物和胶体颗粒，有效降低体系黏度，使浓缩液流动顺畅，防止堵塞形成。我们的产品经过长期实验验证，可在高有机负荷及高盐废水条... 【查看详情】

危废高浓度废水浓缩物常呈现黏稠、结块和颗粒不均的特点，导致干化过程中出料困难，干化效率低下，耗能大。森纳斯蓬松分散剂通过降低颗粒内聚力、改善结晶微观结构，使物料疏松、颗粒细小且均匀分布，出料顺畅且便于机械输送。我们凭借多年的工业废水处理经验和大量现场应用验证，能够确保产品在复杂废水体系中稳定发挥作用，同时提供针对不同废水成分的比较好使用方... 【查看详情】

随着垃圾渗滤液蒸发器运行时间延长，硫垢会与设备金属表面形成 “硫化膜”，传统清洗剂难以渗透，导致清洗不彻底，3 个月内硫垢便会再次堆积。而森纳斯硫垢清洗剂中的高渗透剥离成分可穿透硫化膜，直达硫垢根部，配合分散成分将硫垢颗粒彻底带出设备，使清洗效果维持 6 个月以上，是传统产品的 2 倍。某环保企业数据显示，使用森纳斯清洗剂后，蒸发器年度维... 【查看详情】

染料废水蒸发过程中，废水粘稠且含大量有机物，容易形成团聚晶体或胶状沉积，导致干化困难、出料不畅。森纳斯染料废水蒸发蓬松分散剂能够降低物料粘度，疏松晶体结构，使晶体颗粒细小均匀，结晶效果提升50%以上。我们凭借多年的染料废水处理经验和丰富现场应用案例，确保产品在复杂高有机废水环境下长期稳定发挥作用。应用后，下料口顺畅，干化效率明显提升，操作... 【查看详情】

锅炉与管路系统的水垢多为硫酸钙、碳酸钙及硅酸盐混合物，强酸性清洗虽能除垢，却易损伤金属壁面。森纳斯中性清洗剂以pH7-8的中性配方实现安全除垢，在保证传热效率恢复的同时避免酸蚀。产品通过活性螯合剂与渗透组分协同作用，从内部溶解垢层而非表面软化。其缓释体系可抑制二次结垢，使管道长期保持清洁状态。该中性体系兼具除垢、分散及防护三重功效。森纳斯... 【查看详情】

工业废水处理的蒸发器中，二氧化硅与硫酸钙易形成混合垢附着在加热管表面，使换热效率下降 50%，蒸发器能耗增加 40%，且传统清洗剂无法同时去除两种垢体，需分两次清洗，停机时间长达 48 小时。森纳斯硅垢清洗剂的一大主要优势是 “定制化配方”，通过专业垢样分析设备，精细检测硅垢中二氧化硅、硅酸钙、硫酸钙的比例，调整清洗剂成分占比，确保针对不... 【查看详情】