要使晶闸管从导通状态转变回阻断状态,需要使阳极电流减小到维持电流以下,或者使阳极电压变为反向。二、类型与特点类型:单向可控硅:具有单向导电性,常用于直流或单向交流电路的控制。双向可控硅(TRIAC):相当于两个单向可控硅反向连接,具有双向导通功能,适用于交流电路的控制。可关断晶闸管(GTO):具有自关断能力,使用方便,是理想的高压、大电流...
查看详细 >>(3)触发控制电路、主电路和导热底板相互隔离,导热底板不带电,绝缘强度≥2500V(RMS),保证人身安全。(4)三相交流模块输出对称性好,直流分量小。大规格模块具有过热、过流、缺相保护作用。(5)输入0~10V直流控制信号或0~5V直流控制信号、4~20mA仪表信号,均可实现对主电路输出电压进行平滑调节;可手动、仪表或微机控制。(6)适...
查看详细 >>“晶闸管调功器”广泛应用于以下领域:A 电炉工业:退火炉,烘干炉,淬火炉,烧结炉,坩埚炉,隧道炉,熔炉,箱式电炉,井式电炉,熔化电炉,滚动电炉,真空电炉,台车电炉,淬火电炉,时效电炉,罩式电炉,气氛电炉,烘箱实验电炉,热处理,电阻炉,真空炉,网带炉,高温炉,窑炉B 机械设备:包装机械,注塑机械,热缩机械,挤压机械,食品机械,回火设备,塑料...
查看详细 >>双 向:Bi-directional(取***个字母)三 端:Triode(取***个字母)由以上两组单词组合成“BT”,也是对双向可控硅产品的型号命名,典型的生产商如:意法ST公司、荷兰飞利浦-Philips公司,均以此来命名双向可控硅。**型号如:PHILIPS的BT131-600D、BT134-600E、BT136-600E、BT1...
查看详细 >>从控制原理上可等效为一只 PNP 三极管和一只 NPN 三极管的连接电路, 两管的基极电 流和集电极电流互为通路,具有强烈的正反反馈作用。一旦从 G、K 回路输入 NPN 管子的 基极电流,由于正反馈作用,两管将迅即进入饱合导通状态。可控硅导通之后,它的导通状 态完全依靠管子本身的正反馈作用来维持,即使控制电流(电压)消失,可控硅仍处于导...
查看详细 >>(二)按引脚和极性分类:可控硅按其引脚和极性可分为二极可控硅、三极可控硅和四极可控硅。可控硅开关(三)按封装形式分类:可控硅按其封装形式可分为金属封装可控硅、塑封可控硅和陶瓷封装可控硅三种类型。其中,金属封装可控硅又分为螺栓形、平板形、圆壳形等多种;塑封可控硅又分为带散热片型和不带散热片型两种。(四)按电流容量分类:可控硅按电流容量可分为...
查看详细 >>这个实验告诉我们,要使晶闸管导通,一是在它的阳极A与阴极K之间外加正向电压,二是在它的控制极G与阴极K之间输入一个正向触发电压。晶闸管导通后,松开按钮开关,去掉触发电压,仍然维持导通状态。晶闸管特点“一触即发”。但是,如果阳极或控制极外加的是反向电压,晶闸管就不能导通。控制极的作用是通过外加正向触发脉冲使晶闸管导通,却不能使它关断。那么,...
查看详细 >>“双向可控硅”:是在普通可控硅的基础上发展而成的,它不*能代替两只反极性并联的可控硅,而且*需一个触发电路,是比较理想的交流开关器件。其英文名称TRIAC即三端双向交流开关之意。双向可控硅为什么称为“TRIAC”?三端:TRIode(取**个字母)交流半导体开关:ACsemiconductorswitch(取前两个字母)以上两组名词组合成...
查看详细 >>桥式整流模块是一种将交流电转换为直流电的电力电子器件,采用进口方形芯片、高级芯片支撑板,经特殊烧结工艺,保证焊接层无空洞,使用更可靠。采用DCB板及其它高级导热绝缘材料,导热性能好,导热基板不带电(MDY2000型模块除外),保证使用安全。热循环负载次数超过国家标准,使用寿命长。(1)散热底板为六只整流管的共阳极。(2)模块的六个电极连接...
查看详细 >>四、直流输电用这类整流变压器的电压一般在110kV以上,容量在数万千伏安。需特别注意对地绝缘的交、直流叠加问题。 此外还有电镀用或电加工用直流电源,励磁用直流电源,充电用及静电除尘用直流电源等。应用整流变**多的化学行业中,大功率整流装置也是二次电压低,电流很大,因此它们在很多方面与电炉变是类似的,即前所述的结构特征点,整流变压器也同样...
查看详细 >>由此可见,交流电压通过二极管的整流作用所得到的直流电压ud是脉动的。一般负载需要供给平滑的直流电压,因此在整流元件与负载之间常接有滤波器。滤波器对整流电流的直流分量无扼流作用,而对交流分量的感抗很大。这样,就能在负载上得到平直的直流电压Ud,其数值等于脉动电压ud的平均值。由于整流电路通常是由标准电网电压(如220V,380V)供电,而负...
查看详细 >>1979年,MOS栅功率开关器件作为IGBT概念的先驱即已被介绍到世间。这种器件表现为一个类晶闸管的结构(P-N-P-N四层组成),其特点是通过强碱湿法刻蚀工艺形成了V形槽栅。80年代初期,用于功率MOSFET制造技术的DMOS(双扩散形成的金属-氧化物-半导体)工艺被采用到IGBT中来。[2]在那个时候,硅芯片的结构是一种较厚的NPT(...
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