磷化铟芯片是一种采用磷化铟(InP)材料制成的芯片,具有高折射率、高导热性和低光损耗等优异性能,广泛应用于光通信和光电子领域。磷化铟,化学式为InP,是一种III-V族化合物半导体材料。与传统的硅基材料相比,磷化铟具有更高的光电转换效率和更低的热阻,这使得磷化铟芯片在高速、高功率的应用场景下更具...
南京中电芯谷高频器件产业技术研究院的高功率密度热源产品由热源管芯和热源集成外壳组成,并采用了先进的厚金技术。热源管芯的背面可以与任意热沉进行金锡等焊料集成,也满足与外壳集成后,在任意热沉进行机械集成。这种灵活的设计使得热源可以根据客户的要求进行定制,尺寸可以进行调整。这款高功率密度热源产品适用于微系统或微电子领域的热管、微流以及新型材料的散热技术开发。同时,它还可以对热管理技术进行定量的表征和评估。公司可以根据客户的需求,设计和开发各种热源微结构及其功率密度。这款产品不仅具有高功率密度,还具有良好的可定制性和适应性。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供GaAs太赫兹SBD管芯技术开发服务。海南石墨烯器件及电路芯片定制开发
南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供Si基GaN微波毫米波器件与芯片技术开发服务,该芯片相对于Si LDMOS,具有工作频率高、功率大、体积小等优势;相对于传统SiC基GaN芯片,具备低成本、高密度集成、大尺寸等优势;适应于C、Ka、W等主流波段的攻放、开关、低噪放等芯片;南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司可提供定制化的Si基GaN射频器件和电路芯片研制与代工服务;该芯片可用于5G通信基站、高效能源、汽车雷达、手机终端、人工智能等领域。辽宁氮化镓芯片开发芯谷高频研究院可进行Si、GaAs、InP、SiC、GaN、石墨烯以及碳纳米管等半导体器件的工艺流片。
南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司具备先进的半导体器件及电路的加工流片能力,具备独具创新的技术和研发能力。作为一家致力于半导体领域的先进技术研究机构,公司拥有一支高素质的研发团队,并配备了先进的研发设备。通过不断探索和突破,南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司成功研发出多种半导体器件及电路,并具备了高水平的加工流片能力,可以为客户提供芯片单步、多步加工服务,也可开展芯片特殊工艺开发。
南京中电芯谷高频器件产业技术研究院的主要产品之一是高功率密度热源产品,该产品由热源管芯和热源集成外壳组成,并采用了先进的厚金技术。热源管芯的背面可以与任意热沉进行金锡等焊料集成,也满足与外壳集成后,在任意热沉进行机械集成。这种灵活的设计使得热源可以根据客户的要求进行定制,尺寸可以进行调整。这款高功率密度热源产品适用于微系统或微电子领域的热管、微流以及新型材料的散热技术开发。同时,它还可以对热管理技术进行定量的表征和评估。公司可以根据客户的需求,设计和开发各种热源微结构及其功率密度。这款产品不仅具有高功率密度,还具有良好的可定制性和适应性。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台可为客户提供芯片测试服务。
南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司专注于大功率GaN微波/毫米波/太赫兹二极管技术开发,为客户提供专业的服务。该系列大功率GaN微波毫米波太赫兹二极管器件以其耐功率、高速等优势脱颖而出,其工作频率覆盖较广,从1GHz延伸至300GHz,甚至达到600GHz的截止频率。这些二极管器件在接收端的大功率限幅中表现出色,显著提高了抗干扰能力。在无线输能或远距离无线充电应用中,它们能够大幅提高整流功率和效率,从而实现装置的小型化。在太赫兹系统中,这些二极管器件同样发挥了关键作用。它们能够提高太赫兹固态源的输出功率,从而实现太赫兹源的小型化。这一突破性的技术为6G通信等未来应用奠定了坚实的基础。总之,南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司凭借其在GaN微波/毫米波/太赫兹二极管技术领域的专业知识和丰富经验,致力于为客户提供高效、可靠的技术解决方案。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院公共技术服务平台的光刻工艺技术服务,可以实现50nm级别的芯片制造。海南SBD芯片开发
芯谷高频研究院提供定制化GaAs/InP SBD太赫兹集成电路芯片技术开发服务,该芯片电路工作频段达到1.5THz。海南石墨烯器件及电路芯片定制开发
南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供异质异构集成技术服务,可进行以下先进集成材料制备和研发:1)单晶AlN、LiNbO3压电薄膜异质晶圆,用于SAW、BAW、XBAR等高性能射频滤波器;2)厚膜LiNbO3、薄膜LiNbO3异质晶圆,用于低损耗光学平台;3)AlGaAs-on-insulator,绝缘体上AlGaAs晶圆,用于光量子器件等新一代片上光源平台;4)Miro-Cavity-SOI,内嵌微腔的绝缘体上Si晶圆,用于环栅GAA,MEMS等器件平台;5)SionSiC/Diamond,解决传统Si衬底功率器件散热低的瓶颈;6)GaNonSiC,解决自支撑GaN衬底高性能器件散热低的瓶颈;7)支持特定衬底功能薄膜材料异质晶圆定制研发。海南石墨烯器件及电路芯片定制开发
磷化铟芯片是一种采用磷化铟(InP)材料制成的芯片,具有高折射率、高导热性和低光损耗等优异性能,广泛应用于光通信和光电子领域。磷化铟,化学式为InP,是一种III-V族化合物半导体材料。与传统的硅基材料相比,磷化铟具有更高的光电转换效率和更低的热阻,这使得磷化铟芯片在高速、高功率的应用场景下更具...
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