磷化铟芯片是一种采用磷化铟(InP)材料制成的芯片,具有高折射率、高导热性和低光损耗等优异性能,广泛应用于光通信和光电子领域。磷化铟,化学式为InP,是一种III-V族化合物半导体材料。与传统的硅基材料相比,磷化铟具有更高的光电转换效率和更低的热阻,这使得磷化铟芯片在高速、高功率的应用场景下更具...
南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供异质异构集成技术服务,可进行以下先进集成材料制备和研发:1)单晶AlN、LiNbO3压电薄膜异质晶圆,用于SAW、BAW、XBAR等高性能射频滤波器;2)厚膜LiNbO3、薄膜LiNbO3异质晶圆,用于低损耗光学平台;3)AlGaAs-on-insulator,绝缘体上AlGaAs晶圆,用于光量子器件等新一代片上光源平台;4)Miro-Cavity-SOI,内嵌微腔的绝缘体上Si晶圆,用于环栅GAA,MEMS等器件平台;5)SionSiC/Diamond,解决传统Si衬底功率器件散热低的瓶颈;6)GaNonSiC,解决自支撑GaN衬底高性能器件散热低的瓶颈;7)支持特定衬底功能薄膜材料异质晶圆定制研发。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供太赫兹放大器系列芯片技术开发服务。福建异质异构集成芯片测试
南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供Si基GaN微波毫米波器件与芯片技术开发服务,该芯片相对于Si LDMOS,具有工作频率高、功率大、体积小等优势;相对于传统SiC基GaN芯片,具备低成本、高密度集成、大尺寸等优势;适应于C、Ka、W等主流波段的攻放、开关、低噪放等芯片;南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司可提供定制化的Si基GaN射频器件和电路芯片研制与代工服务;该芯片可用于5G通信基站、高效能源、汽车雷达、手机终端、人工智能等领域。湖南石墨烯器件及电路芯片定制开发南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供定制化GaAs/InP SBD太赫兹集成电路芯片技术开发服务。
南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台可为客户提供全流程芯片制造工艺技术服务。平台拥有先进的设备和专业的团队,通过多道工艺环节,包括光刻、金属化、高温处理、键合等,提供技术支持,帮助客户实现芯片从设计到制造的全过程。该技术服务平台的优势在于,能够为客户提供高效、准确、定制化的服务。不论是在工艺的选择,还是在设备操作和技术咨询方面,平台都能够全力满足客户的需求。从技术咨询,到流片调试、产品测试,研究院将贴心地为客户提供技术服务。
南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司的固态功率源产品以其出色的性能深受客户的认可和好评。从产品的设计、研发到生产制造,研究院确保每一个细节都经过精心打磨,以使产品的性能达到更高的水平。研究院的固态功率源产品不仅在电力、电气自动化、通信等领域广泛应用,而且在新能源领域也展现出了广阔的市场前景。随着社会的不断发展和技术的不断进步,越来越多的行业对于高性能固态功率源的需求也越来越迫切。芯谷高频以其独特的设计理念和先进的生产工艺,成功开发出了一系列符合市场需求的固态功率源产品,可以满足各行业的不同应用需求。未来,南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司将继续致力于科技创新和产品研发,为客户提供更加高性能的固态功率源产品。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供光电芯片技术开发及工艺流片服务。
南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供GaAs太赫兹SBD管芯技术开发服务,该芯片具有结电容小、截止频率高等特点,是截止频率高的电子元器件;同时,该系列芯片具有低寄生、高频响的优势。针对不同应用场景,根据客户需求,公司可定制化开发具有不同规格的单管、对管、等变阻、变容管芯。该芯片可用于太赫兹通信、雷达、测试等技术领域中毫米波、太赫兹各频段混频、倍频、检波电路。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司将不断提高该芯片性能水平,为客户提供更好的服务。芯谷高频公司拥有芯片研发与制造能力,能够高效地完成芯片流片,包括太赫兹、异质异构集成等领域芯片。山西金刚石器件及电路芯片加工
芯谷高频研究院的CVD用固态微波功率源产品可依据客户要求进行各类微波功率大小和功率频率的设计与开发。福建异质异构集成芯片测试
南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供定制化GaAs/InP SBD太赫兹集成电路芯片技术开发服务,该芯片电路工作频段达到1.5THz;适用于工作频率0.5THz以上、集成度要求高的太赫兹混频、倍频应用。本公司提供定制化薄膜型SBD集成电路设计与加工服务,GaAs薄膜型SBD集成电路是目前主流的技术解决方案。研究院可根据客户需求进行定制化开发,可应用于太赫兹混频、倍频、检波等技术方向。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司将不断提高研发水平,为客户提供更好的服务。福建异质异构集成芯片测试
磷化铟芯片是一种采用磷化铟(InP)材料制成的芯片,具有高折射率、高导热性和低光损耗等优异性能,广泛应用于光通信和光电子领域。磷化铟,化学式为InP,是一种III-V族化合物半导体材料。与传统的硅基材料相比,磷化铟具有更高的光电转换效率和更低的热阻,这使得磷化铟芯片在高速、高功率的应用场景下更具...
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