云南化合物半导体芯片流片

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供大功率GaN微波/毫米波/太赫兹二极管技术开发服务，该系列大功率GaN微波毫米波太赫兹二极管器件产品具有耐功率、高速等优势，工作频率涵盖1GHz~300GHz，截止频率达600GHz；可用于接收端的大功率限幅，提高抗干扰能力；可用于无线输能或远距离无线充电，可大幅提高整流功率和效率，实现装置的小型化；用于太赫兹系统，可提高太赫兹固态源输出功率，实现太赫兹源小型化，为6G通信等未来应用奠定基础。芯谷高频研究院在背面工艺方面，拥有键合机、抛光台、磨片机等，可以进行晶片的减薄、抛光以及划片工艺。云南化合物半导体芯片流片

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台的微组装服务可以满足客户的不同需求。无论是小尺寸的电子元件还是微型机械器件，平台都能够提供精确、高效的组装解决方案。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台作为一家专业的技术服务机构，致力于为客户提供优良的微组装服务。通过其专业团队和先进设备的支持，平台能够满足不同领域和行业的需求，为客户提供精确、高效的解决方案。平台将竭诚为客户提供服务，助力其在市场中取得更大的竞争优势。湖南硅基氮化镓器件及电路芯片开发芯谷高频研究院的太赫兹测试能力，能够实现高达500GHz的电路功率测试和噪声测试。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司具备较强的异质异构集成技术研发实力和研发基础，公司的研发团队具备深厚的专业知识和丰富的实践经验。通过不断的探索，公司在异质异构集成技术领域取得了重要的突破和进展。在异质异构集成技术方面，公司一直致力于进一步提升产品性能和降低成本，通过对不同材料和结构的理解和应用，实现了不同材料、不同元器件的集成，突破了传统器件的限制，显著提高了产品的性能。公司拥有先进的异质异构集成科研设施和研发平台，为科研人员提供了良好的条件和环境。在这里，研发人员可以充分发挥创造力和智慧，开展深入的研究和实验，不断推进技术的突破和创新。公司与多家高校和科研机构建立了长期稳定的合作关系，共同开展科学研究和成果转化，为公司的发展提供源源不断的动力。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台在背面工艺方面，拥有键合机、抛光台、磨片机等，可以进行晶片的减薄、抛光以及划片工艺。公司公共技术服务平台支持晶圆键合工艺，可以支持6英寸及以下晶圆的键合，并具备介质、热压、共晶、胶粘等键合能力，键合精度达到2um。键合工艺可以将不同的晶圆材料组合在一起，从而制造出具有更高性能的芯片。凭借研究院的技术实力和专业的服务团队，公共技术服务平台将为客户提供更加优良的技术服务，不断创新晶圆键合工艺，助力高科技产业的发展。芯谷高频研究院可提供6英寸及以下晶圆键合服务，并具备介质、热压、共晶、胶粘等键合能力，键合精度达2um。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供异质异构集成技术服务，可进行以下先进集成材料制备和研发：1)单晶AlN、LiNbO3压电薄膜异质晶圆，用于SAW、BAW、XBAR等高性能射频滤波器；2)厚膜LiNbO3、薄膜LiNbO3异质晶圆，用于低损耗光学平台；3)AlGaAs-on-insulator，绝缘体上AlGaAs晶圆，用于光量子器件等新一代片上光源平台；4)Miro-Cavity-SOI，内嵌微腔的绝缘体上Si晶圆，用于环栅GAA，MEMS等器件平台；5)SionSiC/Diamond，解决传统Si衬底功率器件散热低的瓶颈；6)GaNonSiC，解决自支撑GaN衬底高性能器件散热低的瓶颈；7)支持特定衬底功能薄膜材料异质晶圆定制研发。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供InGaAs太赫兹零偏SBD技术开发服务。湖北硅基氮化镓芯片测试

芯谷高频研究院的高功率密度热源产品适用于微系统或微电子领域的热管、微流以及新型材料的散热技术开发。云南化合物半导体芯片流片

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供异质集成技术开发服务，公司拥有完善的表面处理、键合、转印、粘片、减薄、CMP、腐蚀等工艺技术，具有丰富的材料、器件、电路异质异构集成经验，在集成技术服务方面，可为客户提供定制化集成方案设计和集成工艺开发，在集成芯片制造方面，为客户提供定制化集成器件和芯片制造，异质异构集成技术通过不同材料、器件、工艺和功能的有机融合，是后摩尔时代微电子持续发展的重要途径之一。云南化合物半导体芯片流片

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